一种磁悬浮定子检测装置

    公开(公告)号:CN115615460B

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202211177452.8

    申请日:2022-09-26

    Abstract: 本申请涉及磁悬浮领域,具体公开了一种磁悬浮定子检测装置,磁悬浮定子具有导电轴体和绝缘环体,绝缘环体环绕在导电轴体的外周,导电轴体的一端具有引出线;其特征在于,检测装置包括用于承载磁悬浮定子的底座,底座具有一第一空腔,第一空腔用于与磁悬浮定子配合,其中,第一空腔具有台阶面,当磁悬浮定子设置于第一空腔内时,台阶面与绝缘环体的靠近引出线的端面接触,导电轴体的远离引出线的端面和绝缘环体的远离引出线的端面外露出第一空腔。本申请的方案克服定子组件电感不易检、易误检的现象,达到了高效率、高准确性的检测效果。

    一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法

    公开(公告)号:CN113829176B

    公开(公告)日:2023-04-14

    申请号:CN202111015122.4

    申请日:2021-08-31

    Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法,研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板,其中,所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W3~W5;所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W1~W2;所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W0.5~W1。在铍材镜体研磨抛光时,分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面,铍材镜体平面度优于0.1μm,表面无划痕,表面粗糙度达到Ra 0.02μm,具备良好的反光性能,攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。

    一种磁悬浮定子检测装置

    公开(公告)号:CN115615460A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202211177452.8

    申请日:2022-09-26

    Abstract: 本申请涉及磁悬浮领域,具体公开了一种磁悬浮定子检测装置,磁悬浮定子具有导电轴体和绝缘环体,绝缘环体环绕在导电轴体的外周,导电轴体的一端具有引出线;其特征在于,检测装置包括用于承载磁悬浮定子的底座,底座具有一第一空腔,第一空腔用于与磁悬浮定子配合,其中,第一空腔具有台阶面,当磁悬浮定子设置于第一空腔内时,台阶面与绝缘环体的靠近引出线的端面接触,导电轴体的远离引出线的端面和绝缘环体的远离引出线的端面外露出第一空腔。本申请的方案克服定子组件电感不易检、易误检的现象,达到了高效率、高准确性的检测效果。

    一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法

    公开(公告)号:CN113829176A

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN202111015122.4

    申请日:2021-08-31

    Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法,研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板,其中,所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W3~W5;所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W1~W2;所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构,且研磨面上嵌入有研料,研料粒度为W0.5~W1。在铍材镜体研磨抛光时,分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面,铍材镜体平面度优于0.1μm,表面无划痕,表面粗糙度达到Ra 0.02μm,具备良好的反光性能,攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。

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