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公开(公告)号：CN115127425B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202210762558.8
申请日：2022-06-29
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
IPC: G01B5/20
Abstract: 一种轴孔类零件三点找正修圆方法，利用装夹工装装夹待修工件并压紧找正；安装百分表进行检测确定内孔轮廓上跳动最大的三个拐点并通过记号笔标注；根据内孔轮廓上跳动最大的三个拐点确定唯一修孔圆、修孔圆圆心O'、最小修正孔轮廓；将待修工件的内孔、最小修正孔的形位精度进行比较，判断待修工件的内孔是否超差，若超差则报废待修工件，否则对待修工件的内孔进行修正；以修孔圆圆心为敲击方位，将修孔圆圆心敲击至待修工件的内孔的原圆心位置，完成待修工件的修正。
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公开(公告)号：CN113829176B
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202111015122.4
申请日：2021-08-31
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法，研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板，其中，所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W3～W5；所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W1～W2；所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W0.5～W1。在铍材镜体研磨抛光时，分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面，铍材镜体平面度优于0.1μm，表面无划痕，表面粗糙度达到Ra 0.02μm，具备良好的反光性能，攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。
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公开(公告)号：CN115127425A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210762558.8
申请日：2022-06-29
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
IPC: G01B5/20
Abstract: 一种轴孔类零件三点找正修圆方法，利用装夹工装装夹待修工件并压紧找正；安装百分表进行检测确定内孔轮廓上跳动最大的三个拐点并通过记号笔标注；根据内孔轮廓上跳动最大的三个拐点确定唯一修孔圆、修孔圆圆心O'、最小修正孔轮廓；将待修工件的内孔、最小修正孔的形位精度进行比较，判断待修工件的内孔是否超差，若超差则报废待修工件，否则对待修工件的内孔进行修正；以修孔圆圆心为敲击方位，将修孔圆圆心敲击至待修工件的内孔的原圆心位置，完成待修工件的修正。
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公开(公告)号：CN113829176A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111015122.4
申请日：2021-08-31
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法，研磨平板包括粗研平板、精研平板和抛光平板，其中，所述粗研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W3～W5；所述精研平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W1～W2；所述抛光平板的研磨面上加工有槽体结构，且研磨面上嵌入有研料，研料粒度为W0.5～W1。在铍材镜体研磨抛光时，分别进行粗研工序、精研工序和抛光工序。经过本发明研磨平板和方法可使铍材镜体表面形成光亮的反射表面，铍材镜体平面度优于0.1μm，表面无划痕，表面粗糙度达到Ra 0.02μm，具备良好的反光性能，攻克了铍基体本身硬度低、易划伤、反光性能差等加工难题。
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