-
公开(公告)号：CN103898451B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201210580850.4
申请日：2012-12-27
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/28
Abstract: 一种激光束自动移位控制装置及其操作方法，装置包括支撑台，传动系统和透镜架；电机固定在支撑台上，电机的输出轴轴向与支撑台垂直，其下端焊接一“ㄈ”形连接片，该连接片下部平面与支撑台平行；平面上开有控制移位范围的限位槽，滑块通过滑块轴固定在限位槽上；滑块中开有通孔；滑杆穿过通孔，两者为滑动配合；滑杆的轴向平行于支撑台；轴套用螺栓固定在支撑台下方，轴套下部以轴承连接转轴；转轴中间部位与滑杆用紧定螺钉连接，转轴与滑杆非同轴；转轴下端与连杆相连接；定位销的销杆依次穿过透镜夹持器和限位块；定位销固定在连杆末端。该装置配合靶材的自转，可以保证聚焦激光束对靶材表面均匀扫描，实现薄膜的均匀沉积。
-
公开(公告)号：CN101295560B
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200710098620.3
申请日：2007-04-23
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/642
Abstract: 一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体，是在具有立方织构的金属基带上依次有氧化钇膜、钇稳定二氧化锆膜、二氧化铈膜三层膜、超导层YBCO。一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体的制备方法，包括：(1)将金属基带清洁处理；(2)将金属基带缠绕放带轮和收带轮上；(3)以Y金属为溅射靶材，预溅射；(4)使金属基带经过沉积区，溅射沉积氧化钇；(5)以Zr-Y金属为溅射靶材，预溅射；(6)使金属基带经过沉积区，溅射沉积钇稳定二氧化锆；(7)以金属Ce为溅射靶材，预溅射；(8)使金属基带经过沉积区，溅射沉积二氧化铈；(9)磁控溅射沉积YBCO涂层；(10)得到金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体。该方法以水气代替氧气作为反应气体。制得的多层隔离层具有单一立方织构，并在其上外延生长YBCO涂层。本发明的每层膜的生长均采用磁控溅射方法，降低成本。
-
公开(公告)号：CN101736296A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200810225973.X
申请日：2008-11-07
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法，包括：(1)在连续制备YBCO超导层的设备的真空腔体中，将带有隔离层的金属基带固定在不锈钢引带上；(2)以YBCO为靶材，靶基距为35～60mm；(3)在抽真空前调整激光光路，使激光聚焦于靶位，并位于金属基带正下方；(4)抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4Pa，且将金属基带加热至750～820℃；再向真空腔体内通入氧气，并控制纯氧气氛为10～60Pa；(5)使金属基带匀速运动，用脉冲激光沉积方法在带有隔离层的金属基带上制备YBCO薄膜；(6)将制得有YBCO薄膜的金属基带进行原位退火，即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。使用激光法制备的YBCO薄膜不仅有良好的织构和表面形貌，更有高的电性能，沉积速率可达到200nm/min。
-
公开(公告)号：CN101117700A
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200610089048.X
申请日：2006-07-31
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种金属基带上连续生长的多层立方织构氧化物隔离层，是在具有立方织构的金属基带上依次有氧化钇膜、钇稳定二氧化锆膜、二氧化铈膜三层膜。一种连续生长多层立方织构氧化物隔离层的制备方法，包括：(1)将金属基带清洁处理；(2)将金属基带缠绕放带轮和收带轮上；(3)以Y金属为溅射靶材，预溅射；(4)使金属基带经过沉积区，溅射沉积氧化钇；(5)以Zr－Y金属为溅射靶材，预溅射；(6)使金属基带经过沉积区，溅射沉积钇稳定二氧化锆；(7)以金属Ce为溅射靶材，预溅射；(8)使金属基带经过沉积区，溅射沉积二氧化铈。该方法以水气代替氧气作为反应气体。制得的多层隔离层具有单一立方织构，满足外延生长YBCO涂层的需要。
-
公开(公告)号：CN100537822C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200610089048.X
申请日：2006-07-31
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种金属基带上连续生长的多层立方织构氧化物隔离层，是在具有立方织构的金属基带上依次有氧化钇膜、钇稳定二氧化锆膜、二氧化铈膜三层膜。一种连续生长多层立方织构氧化物隔离层的制备方法，包括：(1)将金属基带清洁处理；(2)将金属基带缠绕放带轮和收带轮上；(3)以Y金属为溅射靶材，预溅射；(4)使金属基带经过沉积区，溅射沉积氧化钇；(5)以Zr-Y金属为溅射靶材，预溅射；(6)使金属基带经过沉积区，溅射沉积钇稳定二氧化锆；(7)以金属Ce为溅射靶材，预溅射；(8)使金属基带经过沉积区，溅射沉积二氧化铈。该方法以水气代替氧气作为反应气体。制得的多层隔离层具有单一立方织构，满足外延生长YBCO涂层的需要。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1490628A
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN02130900.0
申请日：2002-10-15
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/64
Abstract: 一种高温超导体带材临界电流测量方法及装置，其采用压接方法，将超导带材平行缠绕在石英管上，然后将石英管固定在测量装置的四个触头下部。测量装置中设有两块支板，在两支板的下部横向连接有固定杆，在两支板的上部横向连接有两滑杆，在两滑杆上穿接有滑块，在滑块的中部纵向穿过螺纹连接有触杆，在触杆内设置有弹簧，在该弹簧的下端设置有上段粗下段细的触头，该触头的下段伸出触杆的下端。在所述的滑块的侧面上连接有接线柱，在接线柱与触头之间连接有引线。所述的在触头的下端焊接有软柔性的铟材料。本发明的优点是：采用带材压接方法，装置结构简单、使用方便，可大大提高测量性质和效率；既减少了带材的损失，又可以测量出更多的信息。
-
公开(公告)号：CN101295560A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200710098620.3
申请日：2007-04-23
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/642
Abstract: 一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体，是在具有立方织构的金属基带上依次有氧化钇膜、钇稳定二氧化锆膜、二氧化铈膜三层膜、超导层YBCO。一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体的制备方法，包括：(1)将金属基带清洁处理；(2)将金属基带缠绕放带轮和收带轮上；(3)以Y金属为溅射靶材，预溅射；(4)使金属基带经过沉积区，溅射沉积氧化钇；(5)以Zr－Y金属为溅射靶材，预溅射；(6)使金属基带经过沉积区，溅射沉积钇稳定二氧化锆；(7)以金属Ce为溅射靶材，预溅射；(8)使金属基带经过沉积区，溅射沉积二氧化铈；(9)磁控溅射沉积YBCO涂层；(10)得到金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体。该方法以水气代替氧气作为反应气体。制得的多层隔离层具有单一立方织构，并在其上外延生长YBCO涂层。本发明的每层膜的生长均采用磁控溅射方法，降低成本。
-
公开(公告)号：CN1244816C
公开(公告)日：2006-03-08
申请号：CN02130900.0
申请日：2002-10-15
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/64
Abstract: 一种高温超导体带材临界电流测量装置，其采用压接方法，将超导带材平行缠绕在石英管上，然后将石英管固定在测量装置的四个触头下部。测量装置中设有两支板，在两支板的下部横向连接有固定杆，在两支板的上部横向连接有两滑杆，在两滑杆上穿接有滑块，在滑块的中部纵向穿过螺纹连接有触杆，在触杆内设置有弹簧，在该弹簧的下端设置有上段粗下段细的触头，该触头的下段伸出触杆的下端。在所述的滑块的侧面上连接有接线柱，在接线柱与触头之间连接有引线。所述的在触头的下端焊接有软柔性的铟材料。本发明的优点是：采用带材压接方法，装置结构简单、使用方便，可大大提高测量性质和效率；既减少了带材的损失，又可以测量出更多的信息。
-
公开(公告)号：CN1580757A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN03149670.9
申请日：2003-08-05
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种高温超导带材非接触无损磁测量方法及装置，其方法为：将超导带材样品冷却到临界温度以下；施加一外加磁场使超导带材被完全穿透；撤掉磁场或将样品从磁场中移出，让样品静置一段时间分钟，进行剩余磁场的检测。该测量装置包括励磁磁场、磁传感器、步进电机带动带材水平移动的传动部件、计算机数据采集及控制部件。借助该测量装置采用本发明测量方法测量超导体带材的临界电流，实现了带材产业化生产中在线的连续检测。且对测量样品无损伤，更能准确全面的反映带材的本征特性。
-
公开(公告)号：CN103898451A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201210580850.4
申请日：2012-12-27
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/28
Abstract: 一种激光束自动移位控制装置及其操作方法，装置包括支撑台，传动系统和透镜架；电机固定在支撑台上，电机的输出轴轴向与支撑台垂直，其下端焊接一“ㄈ”形连接片，该连接片下部平面与支撑台平行；平面上开有控制移位范围的限位槽，滑块通过滑块轴固定在限位槽上；滑块中开有通孔；滑杆穿过通孔，两者为滑动配合；滑杆的轴向平行于支撑台；轴套用螺栓固定在支撑台下方，轴套下部以轴承连接转轴；转轴中间部位与滑杆用紧定螺钉连接，转轴与滑杆非同轴；转轴下端与连杆相连接；定位销的销杆依次穿过透镜夹持器和限位块；定位销固定在连杆末端。该装置配合靶材的自转，可以保证聚焦激光束对靶材表面均匀扫描，实现薄膜的均匀沉积。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
17
records
(took 0.029 seconds)
