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公开(公告)号：CN101471161B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200710304554.0
申请日：2007-12-28
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/642
Abstract: 一种三氟酸盐-金属有机沉积制备高温超导薄膜的方法，是一种高效率的、以化学方法制备高温超导薄膜方法。其核心内容是在传统的三氟酸盐-金属有机沉积(TFA-MOD)工艺中，引入甲醇和松油醇作为溶剂，配制前驱溶液。利用本发明的前驱液进行YBCO高温超导薄膜的MOD制备，可以将热处理时间由过去的20个小时减少到4个小时左右，极大简化了工艺过程降低了材料成本，制备薄膜的性能可与传统方法制备的薄膜性能基本相同。因而是一种新的、以MOD方式快速制备高性能高温超导薄膜的方法。
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公开(公告)号：CN101469405B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200710304553.6
申请日：2007-12-28
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/34
Abstract: 一种带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备，包括有：水箱，在该水箱的环壁内设有水夹层；筒状靶材，该筒状靶材的外环壁与水箱的内环壁紧密接触；加长型筒状阳极，其底壁设有若干个溅射气体进气孔，并配有阳极盖，在阳极盖上接有进气管路；数块磁体，该数块磁体围绕水箱的环壁的一周。加长筒型阳极采用无氧铜材料制成，水箱上的绝缘圈、阳极盖均为聚四氟乙烯材料绝缘制成。在制备复杂氧化物薄膜、特别是高温YBCO等稀土钡铜氧薄膜时，采用带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备可显著改善负氧离子轰击以及溅射物质堆积掉渣等负影响，有显著的改善薄膜生长质量、提高性能的作用。
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公开(公告)号：CN101762340A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200810246545.5
申请日：2008-12-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: G01K7/02
Abstract: 本发明公开了属于校对设备温度均匀性技术领域的一种校对真空设备温度均匀性的方法。将测温区划分成小区域；选择一种金属，制备标准试样；将标准试样放置在加热器中待测区域内，抽真空，加热，当观察到标准试样熔化时，读取热电偶示数T1，随后将标准试样冷却；设定升温速率，观察标准试样状态，当标准试样熔化时读取热电偶示数T0；将标准试样放置在其他待测区域内，设定升温速率，读取热电偶读数，得到设备温度偏差。本发明将测温区域划分成若干小区域，然后利用晶体熔点固定这一晶体物理特性，分别测量每个小区域晶体标准试样熔点的方法，提供一种准确校对真空设备温度均匀性的方法。
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公开(公告)号：CN101295560B
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200710098620.3
申请日：2007-04-23
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/642
Abstract: 一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体，是在具有立方织构的金属基带上依次有氧化钇膜、钇稳定二氧化锆膜、二氧化铈膜三层膜、超导层YBCO。一种金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体的制备方法，包括：(1)将金属基带清洁处理；(2)将金属基带缠绕放带轮和收带轮上；(3)以Y金属为溅射靶材，预溅射；(4)使金属基带经过沉积区，溅射沉积氧化钇；(5)以Zr-Y金属为溅射靶材，预溅射；(6)使金属基带经过沉积区，溅射沉积钇稳定二氧化锆；(7)以金属Ce为溅射靶材，预溅射；(8)使金属基带经过沉积区，溅射沉积二氧化铈；(9)磁控溅射沉积YBCO涂层；(10)得到金属基带上生长的多层隔离层和YBCO涂层导体。该方法以水气代替氧气作为反应气体。制得的多层隔离层具有单一立方织构，并在其上外延生长YBCO涂层。本发明的每层膜的生长均采用磁控溅射方法，降低成本。
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公开(公告)号：CN101471161A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200710304554.0
申请日：2007-12-28
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/642
Abstract: 一种三氟酸盐－金属有机沉积制备高温超导薄膜的方法，是一种高效率的、以化学方法制备高温超导薄膜方法。其核心内容是在传统的三氟酸盐－金属有机沉积(TFA－MOD)工艺中，引入甲醇和松油醇作为溶剂，配制前驱溶液。利用本发明的前驱液进行YBCO高温超导薄膜的MOD制备，可以将热处理时间由过去的20个小时减少到4个小时左右，极大简化了工艺过程降低了材料成本，制备薄膜的性能可与传统方法制备的薄膜性能基本相同。因而是一种新的、以MOD方式快速制备高性能高温超导薄膜的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101469399A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200710304408.8
申请日：2007-12-27
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本发明涉及一种阻氢涂层体系及其制备方法，特别是含有Er2O3的阻氢涂层体系及其制备方法。涂层以活化马氏体钢或奥氏体钢为基体，在基体上以Fe－Er为金属过渡层，其上涂覆有Er2O3涂层。其制备方法包括：在基体上以气相沉积法制备Fe－Er合金，其后在该金属过渡层上以气相沉积法制备Er2O3层。
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公开(公告)号：CN100422392C
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200410083618.5
申请日：2004-10-13
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C25F3/22
Abstract: 一种涂层超导体镍基带的电化学抛光工艺方法。该方法可以减小涂层超导体镍基带表面的粗糙度。该方法包括：(1)以磷酸与丙三醇的体积比为95-105∶0.1-0.5，配制电化学抛光液，其中，磷酸的浓度为85%；(2)以步骤(1)配制的电化学抛光液作为电解液，以涂层超导体镍基带作为阳极材料，不锈钢作为阴极材料，浸没在电化学抛光液中，接通电源，在5～10V电压，0.3～1A电流中进行抛光，时间控制在10～60分钟；(3)抛光后，将涂层超导体镍基片清洗、吹干。该工艺处理后的镍基带表面粗糙度大约为十几纳米，能够满足涂层超导体制备的要求。
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公开(公告)号：CN101162626A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200610113749.2
申请日：2006-10-13
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/642
Abstract: 本发明公开了一种双面高温超导薄膜多层结构及其制备方法。该双面高温超导薄膜多层结构，包括低成本非单晶氧化物基片，所述低成本非单晶氧化物基片的两面分别依次设有金属薄膜层、双轴织构的氧化物薄膜层以及超导薄膜层。首先在低成本基片上生长一层表面良好的金属薄膜，再用离子束辅助沉积工艺在金属薄膜上制备具有双轴织构的氧化物薄膜材料，所以可以不使用价格昂贵的氧化物单晶材料作为大面积双面高温超导薄膜的基片材料，而选用成本低廉的Si单晶等基片材料。所制备的双面高温超导薄膜成本低。
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公开(公告)号：CN101762340B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200810246545.5
申请日：2008-12-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: G01K7/02
Abstract: 本发明公开了属于校对设备温度均匀性技术领域的一种校对真空设备温度均匀性的方法。将测温区划分成小区域；选择一种金属，制备标准试样；将标准试样放置在加热器中待测区域内，抽真空，加热，当观察到标准试样熔化时，读取热电偶示数T1，随后将标准试样冷却；设定升温速率，观察标准试样状态，当标准试样熔化时读取热电偶示数T0；将标准试样放置在其他待测区域内，设定升温速率，读取热电偶读数，得到设备温度偏差。本发明将测温区域划分成若干小区域，然后利用晶体熔点固定这一晶体物理特性，分别测量每个小区域晶体标准试样熔点的方法，提供一种准确校对真空设备温度均匀性的方法。
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公开(公告)号：CN101752035B
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200810239960.8
申请日：2008-12-16
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: Y02E40/642
Abstract: 本发明提供一种高温超导薄膜的制备方法。首先配制前驱液，把Y(CH3COO)3、RE(CH3COO)3、Ba(CH3COO)2和Cu(CH3COO)2按照(Y+RE)∶Ba∶Cu＝1∶2∶3(其中RE为Nd，Sm，Eu，Gd，Dy)的摩尔比混合溶于20-30摩尔％三氟乙酸的水溶液中；搅拌均匀后真空蒸干溶剂得到凝胶；再加入甲醇搅拌均匀后蒸干溶剂得到凝胶；随后加入适量甲醇，制成Y、RE、Ba和Cu金属离子总浓度为0.8-3.0mol/L的前驱液；然后，将前驱液涂覆在基体上；涂覆好的薄膜先经历400℃～410℃的低温热处理过程，分解三氟乙酸盐；最后经历800℃～850℃高温热处理和490℃～510℃的退火过程形成掺杂稀土元素的YBCO薄膜。
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