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公开(公告)号：CN111598453B
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202010415191.3
申请日：2020-05-15
Applicant: 中国兵器工业计算机应用技术研究所 , 北京师范大学
IPC: G06Q10/06 , G06K9/00 , A61B5/0205
Abstract: 本发明公开了一种基于虚拟场景中执行力的操控工效分析方法、设备及系统，该方法包括：获取操控选手在虚拟场景下操控目标对象执行目标任务产生的操控结果数据，其中，所述目标对象为所述虚拟场景下的虚拟对象；根据所述操控结果数据，获得所述操控选手对于所述目标任务的任务工效评分；根据所述任务工效评分，获得所述操控选手的操控评分；以及，根据所述操控评分，执行设定的操作。
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公开(公告)号：CN111598451B
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202010415124.1
申请日：2020-05-15
Applicant: 中国兵器工业计算机应用技术研究所 , 北京师范大学
IPC: G06Q10/06
Abstract: 本发明公开了一种基于任务执行能力的操控工效分析方法、设备及系统，该方法包括：获取操控选手操控目标对象执行目标任务产生的操控结果数据；根据所述操控结果数据，获得所述操控选手对于所述目标任务的任务工效评分；根据所述任务工效评分，获得所述操控选手的操控评分；以及，根据所述操控评分，执行设定的操作。
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公开(公告)号：CN105296938A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201410334441.5
申请日：2014-07-14
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种树型阴极真空电弧等离子体沉积磁过滤装置，它由两个以上的磁过滤支线管和一个磁过滤干线管经过合理搭配组装而成，构成树型结构。针对现有磁过滤阴极真空电弧等离子体沉积技术制备多元复合薄膜存在膜层元素成分比例不易调控并且膜层中元素比例随位置变化不一致的不足，本发明提供了一种磁过滤装置，能够同时装配两个以上的弧源，产生两种以上元素的等离子体；等离子体经磁过滤支线管过滤掉大颗粒并被磁化，再经磁过滤干线管磁场引导进入真空靶室，实现多元沉积镀膜。该装置能够分别调节不同真空电弧源的弧流对所制备薄膜的组分进行调控，制备成分比例一致、组织致密、表面光滑的多元复合薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111598451A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN202010415124.1
申请日：2020-05-15
Applicant: 中国兵器工业计算机应用技术研究所 , 北京师范大学
IPC: G06Q10/06
Abstract: 本发明公开了一种基于任务执行能力的操控工效分析方法、设备及系统，该方法包括：获取操控选手操控目标对象执行目标任务产生的操控结果数据；根据所述操控结果数据，获得所述操控选手对于所述目标任务的任务工效评分；根据所述任务工效评分，获得所述操控选手的操控评分；以及，根据所述操控评分，执行设定的操作。
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公开(公告)号：CN105887035B
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201410805548.3
申请日：2014-12-23
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种用于材料表面沉积镀膜的圆形靶阴极真空电弧等离子体磁过滤矩形引出装置，该装置由一个矩形口梯形管道和圆弧绕制的磁场线圈构成一个梯形通电螺线管。为了克服圆形阴极靶材的阴极真空电弧源所产生的圆形束斑等离子体对长条状、大面积和卷材类工件镀膜处理能力的不足，本发明提供了一种等离子体磁过滤矩形引出装置，能够将圆形束斑的离子束转化为矩形束斑的离子束。该装置不仅能够与圆截面磁过滤弯管相连构成磁过滤等离子体矩形引出装置，而且能够直接与圆形靶阴极真空电弧源连接引出矩形等离子体束。该装置适于对长条状、大面积和卷材类工件进行沉积镀膜，提高等离子体的利用效率和膜层的质量。
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公开(公告)号：CN111598453A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN202010415191.3
申请日：2020-05-15
Applicant: 中国兵器工业计算机应用技术研究所 , 北京师范大学
IPC: G06Q10/06 , G06K9/00 , A61B5/0205
Abstract: 本发明公开了一种基于虚拟场景中执行力的操控工效分析方法、设备及系统，该方法包括：获取操控选手在虚拟场景下操控目标对象执行目标任务产生的操控结果数据，其中，所述目标对象为所述虚拟场景下的虚拟对象；根据所述操控结果数据，获得所述操控选手对于所述目标任务的任务工效评分；根据所述任务工效评分，获得所述操控选手的操控评分；以及，根据所述操控评分，执行设定的操作。
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公开(公告)号：CN105887035A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410805548.3
申请日：2014-12-23
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种用于材料表面沉积镀膜的圆形靶阴极真空电弧等离子体磁过滤矩形引出装置，该装置由一个矩形口梯形管道和圆弧绕制的磁场线圈构成一个梯形通电螺线管。为了克服圆形阴极靶材的阴极真空电弧源所产生的圆形束斑等离子体对长条状、大面积和卷材类工件镀膜处理能力的不足，本发明提供了一种等离子体磁过滤矩形引出装置，能够将圆形束斑的离子束转化为矩形束斑的离子束。该装置不仅能够与圆截面磁过滤弯管相连构成磁过滤等离子体矩形引出装置，而且能够直接与圆形靶阴极真空电弧源连接引出矩形等离子体束。该装置适于对长条状、大面积和卷材类工件进行沉积镀膜，提高等离子体的利用效率和膜层的质量。
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公开(公告)号：CN204509452U
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201420821305.4
申请日：2014-12-23
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种用于材料表面沉积镀膜的圆形靶阴极真空电弧等离子体磁过滤矩形引出装置，该装置由一个矩形口梯形管道和圆弧绕制的磁场线圈构成一个梯形通电螺线管。为了克服圆形阴极靶材的阴极真空电弧源所产生的圆形束斑等离子体对长条状、大面积和卷材类工件镀膜处理能力的不足，本实用新型提供了一种等离子体磁过滤矩形引出装置，能够将圆形束斑的离子束转化为矩形束斑的离子束。该装置不仅能够与圆截面磁过滤弯管相连构成磁过滤等离子体矩形引出装置，而且能够直接与圆形靶阴极真空电弧源连接引出矩形等离子体束。该装置适于对长条状、大面积和卷材类工件进行沉积镀膜，提高等离子体的利用效率和膜层的质量。
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