公开(公告)号：CN105296938A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201410334441.5

申请日：2014-07-14

Applicant: 北京师范大学

Inventor： 吴先映 ,  廖斌 ,  黄杰 ,  史学伟 ,  张旭 ,  彭建华

IPC: C23C14/32 ,  H01J37/32 ,  H01J37/34

Abstract: 一种树型阴极真空电弧等离子体沉积磁过滤装置，它由两个以上的磁过滤支线管和一个磁过滤干线管经过合理搭配组装而成，构成树型结构。针对现有磁过滤阴极真空电弧等离子体沉积技术制备多元复合薄膜存在膜层元素成分比例不易调控并且膜层中元素比例随位置变化不一致的不足，本发明提供了一种磁过滤装置，能够同时装配两个以上的弧源，产生两种以上元素的等离子体；等离子体经磁过滤支线管过滤掉大颗粒并被磁化，再经磁过滤干线管磁场引导进入真空靶室，实现多元沉积镀膜。该装置能够分别调节不同真空电弧源的弧流对所制备薄膜的组分进行调控，制备成分比例一致、组织致密、表面光滑的多元复合薄膜。

公开(公告)号：CN201478252U

公开(公告)日：2010-05-19

申请号：CN200920216016.0

申请日：2009-09-11

Applicant: 北京师范大学

Inventor： 吴先映 ,  张旭 ,  彭建华 ,  李强 ,  梁宏 ,  马芙蓉

IPC: H01J27/08 ,  H01J37/08

Abstract: 一种用于金属蒸汽真空弧离子源的加热式阴极。要点是采用电加热器加热阴极，同时采用导热性能差的材料制作底环，从而保证阴极处于合适的高温状态，温度由埋入底环内的热电偶测量。在工字形骨架上用电阻丝绕制电加热器，骨架的内径与阴极材料外径配合。阴极材料通过内压环和外压环固定在底环上，套上电加热器后再装配绝缘套和触发电极即可。电加热器和热电偶的引线选用合适的高温绝缘导线，并通过密封插座与离子源外的加热控制器连接，从而方便地进行温度测量和控制。由于阴极可以处于合适的高温状态，一些低温导电性差高温导电性好的材料和一些高熔点的材料可以用于金属蒸汽真空弧离子源，增加金属蒸汽真空弧离子源产生的离子种类。

公开(公告)号：CN201089792Y

公开(公告)日：2008-07-23

申请号：CN200620139256.1

申请日：2006-09-08

Applicant: 北京师范大学

Inventor： 吴先映 ,  李强 ,  刘安东 ,  张荟星 ,  张孝吉 ,  彭建华

IPC: C23C14/48 ,  C23C14/54

Abstract: 一种利用金属离子注入进行材料表面改性处理的大面积大批量均匀注入金属蒸汽真空弧离子注入机。其特征在于至少一台强束流大束斑金属蒸汽真空弧离子源倾斜安装在真空大靶室的顶侧部，靶室内设计有多个水平布置、可灵活运动的靶盘。靶室内一次性可装入大量的待处理工件。靶盘的布置以尽量利用离子束为原则。进行离子注入加工的工件固定在多个水平分布的靶盘上，这些靶盘具有不同的直径和灵活的运动方式。适合处理多种形状的工件。通过调节靶盘在离子束照射下的运动方式，得到均匀的注入效果。

公开(公告)号：CN201229915Y

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200820117860.3

申请日：2008-06-18

Applicant: 北京师范大学

Inventor： 吴先映 ,  张旭 ,  彭建华 ,  张荟星 ,  梁宏 ,  马芙蓉

IPC: H01J27/02 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08

Abstract: 一种用于金属蒸汽真空弧离子源的压夹持式的阴极结构。要点是采用压夹持式结构，固定阴极材料。在底环上分别有内压环和外压环，内压环和外压环配合面为角度相同的锥面。内压由铝制造，环上有适当距离的收缩缝。阴极材料通过内压环中心孔。当紧固外压环时，内压环通过与外压环的配合面而受到压力从而适当收缩，对阴极材料施加夹持力，压紧从而固定阴极材料在底环上。由于采用压夹持方式，不需要对阴极材料进行镙纹加工，因此，一些难于进行镙纹加工的导电固体材料也可以用于金属蒸汽真空弧离子源，从而增加金属蒸汽真空弧离子源产生的离子种类。

公开(公告)号：CN201132849Y

公开(公告)日：2008-10-15

申请号：CN200720155522.4

申请日：2007-07-05

Applicant: 北京师范大学

Inventor： 吴先映 ,  李强 ,  张荟星 ,  张孝吉 ,  彭建华 ,  刘安东

IPC: C23C14/32 ,  C23C14/14

Abstract: 一种视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机，它利用视线外磁过滤等离子体沉积源进行材料表面镀膜，实现多层膜镀膜。其特征在于：至少两台视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源以一定的夹角安装在一台真空镀膜室同一平面上，镀膜工件台可以灵活转动与等离子体沉积源工作状态配合，并在工件台上加上适当的负偏压，让不同等离子体源顺序或交替工作，实现多层镀膜功能。采用视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源，沉积在基体上的基本都是离子，其能量可以通过工件台负偏压方便地调节，从而方便地完成包括工件表面清洗、界面混合、镀膜等功能；通过工件台与等离子体沉积源正确配合，并使不同的等离子体沉积源顺序或交替工作，实现多层膜镀膜。如果通入反应气体，可以得到气体化合物多层膜。

公开(公告)号：CN2811323Y

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN200420084484.4

申请日：2004-07-30

Applicant: 北京师范大学

Inventor： 吴先映 ,  李强 ,  彭建华 ,  刘安东 ,  张荟星 ,  张孝吉 ,  张胜基

IPC: C23C14/48 ,  C23C14/32

Abstract: 一种真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机。该设备利用金属蒸汽真空弧离子源提供的载能离子束实现工件的清洗和通过离子注入工件表面改性提高基体与膜层或过渡层结合力；并采用视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积技术，得到高光洁度、高薄膜密度、良好的薄膜与基体结合力等高质量镀膜。根据需要，真空弧离子注入与磁过滤等离子体沉积复合机可以安装多个金属蒸汽真空弧离子源和多个视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积源；可以实现离子束清洗，单独离子注入，混合离子注入，单质镀膜，多层镀膜，混合镀膜以及离子注入与镀膜同时进行等功能。