一种自熄灭自恢复雪崩光电二极管

    公开(公告)号:CN104505422A

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201410602125.1

    申请日:2014-10-30

    CPC classification number: H01L31/107

    Abstract: 一种自熄灭自恢复雪崩光电二极管涉及半导体光电器件领域,与传统结构不同,具备自动熄灭然后自动恢复的特点。本发明包括有依次纵向层叠的n型层(102),电荷倍增区(103),p型层(104),衬底(106),其特征在于,还包括有p型层(104)和衬底(106)之间的空穴势阱形成层(105);实现空穴势阱有两种方法,一种是空穴势阱形成层(105)采用n型材料,当与p型层(104)形成pn结后,能带下移,使得p型层(104)的空穴位置能量最低,从而在p型层(104)中形成了空穴势阱;第二种方法是空穴势阱形成层(105)采用高出P型层(104)掺杂浓度2倍以上的p+型材料,在形成pp+结后,在空穴势阱形成层(105)中形成了空穴势阱。

    一种具有自熄灭自恢复功能的雪崩光电二极管

    公开(公告)号:CN104505421A

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201410601406.5

    申请日:2014-10-30

    CPC classification number: H01L31/107

    Abstract: 一种具有自熄灭自恢复功能的雪崩光电二极管涉及半导体光电器件领域。包括有依次纵向层叠的第一n型层(101)、第二n型层(102)、电荷倍增区(104)、p型层(105)和衬底(106),其特征在于:第一n型层(101)、第二n型层(102)中间有电子势阱层(103);实现电子势阱有两种方法,一种是电子势阱层(103)采用p型材料,第二种方法是电子势阱层(103)采用第一n型层(101)或第二n型层(102)掺杂浓度二倍以上的n+型材料,在形成nn+结后,在电子势阱层(103)中形成了电子势阱。本发明提供一种自熄灭自恢复雪崩光电二极管结构,与传统结构不同,具备自动熄灭然后自动恢复的特点。

    一种具有自熄灭自恢复功能的雪崩光电二极管

    公开(公告)号:CN104505421B

    公开(公告)日:2016-10-05

    申请号:CN201410601406.5

    申请日:2014-10-30

    Abstract: 一种具有自熄灭自恢复功能的雪崩光电二极管涉及半导体光电器件领域。包括有依次纵向层叠的第一n型层(101)、第二n型层(102)、电荷倍增区(104)、p型层(105)和衬底(106),其特征在于:第一n型层(101)、第二n型层(102)中间有电子势阱层(103);实现电子势阱有两种方法,一种是电子势阱层(103)采用p型材料,第二种方法是电子势阱层(103)采用第一n型层(101)或第二n型层(102)掺杂浓度二倍以上的n+型材料,在形成nn+结后,在电子势阱层(103)中形成了电子势阱。本发明提供一种自熄灭自恢复雪崩光电二极管结构,与传统结构不同,具备自动熄灭然后自动恢复的特点。

    一种波导耦合型吸收倍增分离雪崩二极管

    公开(公告)号:CN104681634B

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201510031301.5

    申请日:2015-01-22

    Abstract: 一种波导耦合型吸收倍增分离雪崩二极管涉及半导体光电器件领域以及光互联领域。本发明包括有p+型欧姆接触电极,p+欧姆接触层,吸收层,p型电荷区,倍增区,n+型欧姆接触电极,n+欧姆接触区,绝缘掩埋层,衬底,单模波导。其特征在于,p型电荷区位于单模波导末端,吸收层位于p型电荷区顶部,倍增区以及n+欧姆接触区与单模波导共平面,紧挨p型电荷区依次排布,p型电荷区、倍增区及n+欧姆接触区的延伸方向垂直于单模波导光传输方向,并与单模波导厚度相同。器件在实现吸收倍增分离的同时,利用单模波导耦合提高光耦合效率,避免了传统双倍增区的电信号的扰动现象,器件尺寸可减小到纳米尺度,降低渡越时间和暗电流,提高灵敏度。

    一种垂直腔面发射激光器及其制作方法

    公开(公告)号:CN105449518A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201610013644.3

    申请日:2016-01-09

    CPC classification number: H01S5/18327 H01S5/18394 H01S5/34313 H01S5/34326

    Abstract: 一种垂直腔面发射激光器及其制作方法属于半导体光电子技术领域。激光器,包括下电极,衬底,有源区和上电极,包括下布拉格反射镜,有源区,电流限制层,电流限制孔,上布拉格反射镜和SiO2钝化层,其特征在于:上布拉格反射镜上方设有出光窗口,所述出光窗口布置有银纳米线透明导电薄膜,使电流从电极向有源区扩散的更均匀,从而提高出光质量和输出光功率。器件制作所用工艺为传统垂直腔面发射激光器制作工艺,不增加额外加工工艺,制作成本低,可操作性强,可重复性好。

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