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公开(公告)号:CN108103505A
公开(公告)日:2018-06-01
申请号:CN201711409405.0
申请日:2017-12-22
Applicant: 余姚市震达精工机械有限公司
Inventor: 宋余斌
CPC classification number: C23C28/04 , C23C14/0635 , C23C14/0641 , C23C16/32 , C23C16/34 , C23C16/36 , C23F17/00
Abstract: 本发明涉及模具的表面处理方法,公开了一种提高冷镦模具寿命的PVD/CVD/PCVD涂层处理方法。该处理方法包含以下步骤:1)清洗;2)烘干;3)模具升温;4)涂层:采用涂层设备在清洗烘干后的模具表面涂覆多层含Ti、Si、Al、Zr、Cr、B的硬质涂层;5)模具降温;6)淬火;7)抛光。本发明采用缓升温、分步降温和涂层后再淬火的工艺,在冷镦模具表面涂覆多层复合涂层,工艺简单,加工效率高,有利于实际生产应用,所得模具成本较低,具有使用性能高,硬度较高,涂层结合度高,模具使用寿命长,降低生产成本,提高产品竞争力,适宜做进一步推广应用。
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公开(公告)号:CN107849703A
公开(公告)日:2018-03-27
申请号:CN201680035774.5
申请日:2016-04-19
Applicant: 费德罗-莫格尔有限责任公司
Inventor: 特洛伊·坎托拉 , 詹姆士·R·托特 , 罗伯特·R·阿哈罗诺夫
CPC classification number: F16J9/26 , C23C14/30 , C23C14/34 , C23C16/06 , C23C16/276 , C23C16/32 , C23C16/34 , C23C16/56 , C23C28/00 , C25D3/04 , C25D5/10 , C25D7/00 , C25D7/10 , C25D9/04 , C25D15/00 , F16J9/28
Abstract: 提供了诸如活塞环的滑动元件,包括基底、底涂层和相对薄的滑动涂层。底涂层通常通过PVD、CVD、电镀沉积、电沉积或热喷涂工艺施加到基底的运行表面。滑动涂层包括聚合物基质和设置在整个基质中的硬质颗粒。在底涂层仍处于其被施加的状态下并且表面粗糙度为至少4.0μm时,将滑动涂层施加到底涂层。在滑动元件的使用期间,薄的滑动涂层用作牺牲的跑合层。此外,随着滑动涂层的聚合物基质磨损掉,硬质颗粒抛光底涂层的粗糙表面。因此,不需要在使用滑动元件之前抛光或研磨被施加的底涂层。
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公开(公告)号:CN107829076A
公开(公告)日:2018-03-23
申请号:CN201711039097.7
申请日:2017-10-31
Applicant: 无锡市锦润合金工具有限公司
Inventor: 罗跃进
CPC classification number: C23C16/271 , C23C16/32
Abstract: 本发明提供的一种铣刀的镀膜方法,包括以下步骤:1)在铣刀表面镀制一层碳化钛和碳化铬过渡层,2)铣刀经过丙酮清洗脱水后,放入化学气相沉积金刚石生长设备中的真空室;3)打开冷却水系统,先抽真空到10托,再打开热丝电源,缓慢加电流,然后打开氢气质量流量计;4)5分钟后打开甲烷质量流量计,1.5小时后关闭甲烷质量流量计,2小时后关闭氢气流量计,保持冷却系统正常运转;5)1小时后关闭冷却系统,打开真空室,取出刀具,这样就可以实现在铣刀表面镀制一层厚度为20~25微米的金刚石膜。本发明的镀膜方法,有效提高了铣刀的硬度、强度和韧性。
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公开(公告)号:CN105142831B
公开(公告)日:2018-02-09
申请号:CN201480010033.2
申请日:2014-01-29
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
IPC: B23B27/14
CPC classification number: C23C16/38 , B23B27/148 , B23B2224/04 , B23B2224/32 , B23B2228/04 , B23B2228/10 , B23B2260/144 , C23C16/32 , C23C16/34 , C23C16/36 , C23C16/403 , C23C28/042 , C23C28/044
Abstract: 本发明提供了一种表面被覆切削工具,其同时具有优异的耐磨性和抗断裂性,并且其具备能够十分容易地确定切削刃是否已被使用的指示功能。根据本发明的一个实施方案的表面被覆切削工具包括基材和形成在基材上的覆膜,其中:覆膜包括多个层;并且所述多个层中的最外层为由TixBy(其中x和y表示原子百分比并且满足1.5
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公开(公告)号:CN107338476A
公开(公告)日:2017-11-10
申请号:CN201710639970.X
申请日:2017-07-31
Applicant: 武汉工程大学
IPC: C30B29/36 , C30B29/64 , C30B25/00 , C23C16/448 , C23C16/511 , C23C16/32
CPC classification number: C30B29/36 , C23C16/32 , C23C16/4485 , C23C16/511 , C30B25/00 , C30B29/64
Abstract: 本发明公开了一种在MPCVD制备碳化钼晶体时利用在直流电弧引入钼源的方法,包含如下步骤:将两根清洗后的纯钼杆插入反应腔内上法兰的绝缘孔中,并将两根纯钼杆上端分别与直流电源的正电极端以及负电极端相连接;将硅衬底放入反应腔内的基片台上,对腔体抽真空;向反应腔腔体通入氢气,并调节微波功率和气压直至等离子体稳定,通入反应气体甲烷;打开直流电源,调节电压值,使得两根纯钼杆电极之间产生弧光放电,向微波等离子体中引入钼;待反应结束后,关机,取出样品。本发明通过直流电弧放电产生的高温使金属钼从固态转变为气态,带入下方的微波等离子体中参与反应,解决了碳化钼制备过程中钼的引入问题,极大的提高了碳化钼的制备效率。
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公开(公告)号:CN107130227A
公开(公告)日:2017-09-05
申请号:CN201710545169.9
申请日:2017-07-06
Applicant: 北京理工大学
CPC classification number: C23C16/32 , C23C16/0281
Abstract: 本发明涉及一种超细纳米晶碳化钨涂层及其制备方法,为一种采用常压化学气相沉积的方法制备的超细纳米晶碳化钨涂层,所制备的超细纳米晶碳化钨涂层为具有高硬度、耐磨损、耐腐蚀特性的细晶粒层状碳化钨涂层,特别是存在粒径为3~5nm的W2C超细纳米晶和非晶,有效提高了层状结构涂层的层间结合力,和涂层硬度,该涂层的显微硬度可以达到28.8GPa。
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公开(公告)号:CN105916617B
公开(公告)日:2017-07-28
申请号:CN201580005902.7
申请日:2015-01-27
Applicant: 株式会社泰珂洛
Inventor: 中村崇昭
CPC classification number: B23B27/148 , B23B2222/16 , B23B2222/28 , B23B2226/125 , B23B2226/18 , B23B2228/04 , B23B2228/105 , C23C16/32 , C23C16/34 , C23C16/36 , C23C16/403
Abstract: 本发明的一个技术方案的涂层切削刀具包括基材和形成于基材的表面的涂层。涂层至少包括一层以上的α型氧化铝层。在α型氧化铝层的与基材的表面大致平行的截面中,将截面的法线与α型氧化铝层的粒子的(222)面的法线形成的角度设成方位差,将截面的处于方位差为0度以上90度以下的范围内的α型氧化铝层的粒子的面积定义为100面积%,并且将处于方位差为0度以上90度以下的范围内的α型氧化铝层的粒子的面积按照10度的间距进行划分,在上述情况下,处于方位差为20度以上且不足30度的范围内的α型氧化铝层的粒子的面积的合计Sa在每10度间距的9个分区的各个面积的合计中最大。
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公开(公告)号:CN105970219A
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:CN201610140363.4
申请日:2016-03-11
Applicant: 肯纳金属公司
CPC classification number: C23C16/34 , C23C16/32 , C23C16/36 , C23C28/042 , C23C28/044
Abstract: 本发明公开了一种带涂层的切削刀片(20),所述带涂层的切削刀片(20)包括基底(22),所述基底(22)为陶瓷基底或含多晶立方氮化硼的基底并且具有基底表面(23)。基础涂层方案(28)通过化学气相沉积而施加到所述基底表面(23),其中所述基础涂层方案(28)包括下列涂层:与所述基底表面(23)相邻的内部涂层(34),其中所述内部涂层(34)为氮化物,所述氮化物选自由氮化钛、氮化锆和氮化铪构成的组;沉积到所述内部涂层(34)上的内部居间涂层(36),其中所述内部居间涂层(36)为碳氮化物,所述碳氮化物选自由碳氮化钛、碳氮化锆和碳氮化铪构成的组;沉积到所述内部居间涂层(36)上的外部居间涂层(38),并且其中所述外部居间涂层(38)为碳氮化物,所述碳氮化物选自由碳氮化钛、碳氮化锆和碳氮化铪构成的组;以及沉积在所述外部居间涂层(38)上的外部涂层(40),其中所述外部涂层(40)为碳化物,所述碳化物选自由碳化钛、碳化锆和碳化铪构成的组。外部涂层方案(43)通过物理气相沉积而沉积在所述基础涂层方案(28)上。
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公开(公告)号:CN105543803A
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201510945923.9
申请日:2015-12-16
Applicant: 中国科学院深圳先进技术研究院
CPC classification number: C23C16/0272 , C23C16/27 , C23C16/32
Abstract: 本发明适用于真空镀膜技术领域,提供了一种硬质合金衬底的金刚石/碳化硼复合涂层及制备方法。所述硬质合金衬底的金刚石/碳化硼复合涂层,包括沉积在硬质合金衬底上的碳化硼层,沉积在所述碳化硼层上的金刚石层,所述金刚石层为多晶金刚石层。所述硬质合金衬底的金刚石/碳化硼复合涂层的制备方法,包括以下步骤:提供硬质合金衬底器具,对所述硬质合成器具进行预处理;在所述硬质合金衬底表面沉积碳化硼层;在所述碳化硼层上沉积金刚石层。
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公开(公告)号:CN103484832B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201310308445.1
申请日:2009-01-20
Applicant: 钴碳化钨硬质合金公司
CPC classification number: C23C16/34 , C04B35/581 , C04B2235/3856 , C04B2235/3886 , C04B2235/724 , C04B2235/762 , C04B2235/79 , C04B2235/96 , C23C16/24 , C23C16/32 , C23C16/36 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C28/42 , C23C30/005 , Y10T428/24975 , Y10T428/265
Abstract: 本发明涉及一种本体,该本体涂覆有硬质材料并且具有通过CVD施加的多个层,其中外层包括Ti1-xAlxN、Ti1-xAlxC和/或Ti1-xAlxCN,其中0.65≤x≤0.9,优选0.7≤x≤0.9,并且这个外层具有从100至1100MPa、优选从400至800MPa范围内的压缩应力,并且在该外层下安排了一个TiCN或Al2O3层。
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