一种面向铁电随机存储器的数据读写方法

    公开(公告)号:CN117253514A

    公开(公告)日:2023-12-19

    申请号:CN202311204972.8

    申请日:2023-09-18

    Abstract: 本发明公开了一种面向铁电随机存储器的数据读写方法,属于半导体存储器领域。该方法分为写入数据操作与读出数据操作,在写入数据与读出数据操作过程中分别对字线、位线和板线施加电压脉冲,其中写入数据操作中的写入脉冲宽度大于读出数据操作中的读出脉冲宽度,为非对称脉冲操作。本发明实现了写入数据时,器件的铁电极化趋于饱和,同时读出数据时,减少了读脉冲对存储状态的破坏,提升存储数据的稳定性。采用本发明能够提升FeRAM的读出窗口,并降低FeRAM的误码率。

    一种基于多阻变层的阻变存储器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN114094009A

    公开(公告)日:2022-02-25

    申请号:CN202111385644.3

    申请日:2021-11-22

    Abstract: 本发明公布了一种基于多阻变层的阻变存储器及其制备方法,属于半导体和CMOS混合集成电路技术领域。本发明基于传统CMOS工艺来实现具有高retention的阻变存储器件,其核心在于,阻变层由拦截特性薄膜和具有阻变特性的阻变材料薄膜交替叠加构成,形成多层阻变层结构。本发明通过调整界面处势垒以期降低甚至消除阻变存储器的crossbar结构中存在的阻变层离子迁移问题,可有效地抑制器件的低保持力。同时,多层阻变层结构也有利于增加器件的状态数,为实现阻变存储器大规模集成以及商业化铺平了道路。

    一种高密度存储器交叉点阵
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114093395A

    公开(公告)日:2022-02-25

    申请号:CN202111385647.7

    申请日:2021-11-22

    Abstract: 本发明公布了一种高密度存储器交叉点阵,属于半导体技术领域。该存储器交叉点阵包括一系列互相垂直的导线,横向的导线之间互相平行,称之为字线;纵向的导线之间互相平行,称之为位线,每根字线与每根位线之间都互相垂直且存在交叉点,若字线共M根,位线共N根,则交叉点阵存在M×N个交叉点,在字线和位线上分别周期性设有锚点结构。本发明不仅增加了导线的粘附性,且降低了导线电阻,缓解了大规模阵列中电压降的问题,对超大规模新型存储器点阵的制备具有重要意义。

    一种动态随机存储阵列的控制方法

    公开(公告)号:CN117612584A

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311633055.1

    申请日:2023-12-01

    Abstract: 本发明公开了一种动态随机存储阵列的控制方法,属于微电子学与集成电路技术领域。该方法利用共享位线的双晶体管无电容动态随机存储器单元,将被选中行的写字线置为高电平,读字线置为低电平,未被选中行的写字线和读字线置为低电平,对于写入数据“1”的单元,将其位线置为高电平;对于写入数据“0”的单元,将其位线置为低电平;读取时将被选中行的写字线和读字线置为低电平,其余行的写字线置为低电平,读字线置为高电平;将所有列的位线置为高电平,若位线上的读出电流大于参考电流,读取结果为“1”;若位线上的读出电流小于参考电流,读取结果为“0”。本发明通过位线分时复用方法降低存储器阵列互连的复杂度,进一步提升存储密度。

    基于N型和P型铁电场效应晶体管实现通用内容可寻址存储器的方法

    公开(公告)号:CN116580733A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202310603125.2

    申请日:2023-05-26

    Abstract: 本发明提供了一种基于N型和P型铁电场效应晶体管实现通用内容可寻址存储器的方法,属于新型存储与计算技术领域。本发明利用了N型FeFET和P型FeFET的互补特性,在不需要额外硬件开销的前提下可以同时实现TCAM、MACM和ACAM的功能,并且具有更加简洁的搜索操作,提高了CAM的存储密度和搜索能效,且在量化为存储多级entry状态的MCAM时,还具有压缩entry状态的能力,使其可以进一步提高CAM的存储密度,对于基于CAM的查表搜索操作具有重要意义。

    高密度铁电存储器及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116193867A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202310242051.4

    申请日:2023-03-14

    Abstract: 本发明公开了一种高密度铁电存储器及其制备方法和应用,属于半导体存储器领域。该存储器由多个存储单元排成阵列,且存储单元阵列两侧由实质上正交的字线和位线相连,本发明的存储单元采用顶电极、阻变介质层、中间金属层、铁电介质层和底电极叠加结构,在电学上等同于一个铁电电容与一个阻变选择器串联;通过调控存储单元RC延迟来降低未选中单元中铁电电容的分压,使其扰动降低;并且铁电电容容值稳定,可以有效通过RC调控降低扰动电压的影响。综上所述,本发明在没有增加额外面积开销的情况下,提升了存储器的存储窗口,降低了误码率。

    高速高密度铁电存储器及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116133437A

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202310242062.2

    申请日:2023-03-14

    Abstract: 本发明公开了一种高速高密度铁电存储器及其制备方法和应用,属于半导体存储器领域。该存储器由多个存储单元排成阵列,且存储单元阵列两侧由实质上正交的字线和位线相连,本发明的存储单元采用顶电极、变容介质层、中间金属层、铁电介质层和底电极叠加结构,在电学上等同于一个铁电电容与一个变容选择器串联,通过调控存储单元分压关系来降低未选中单元中铁电电容的分压,使其扰动降低;并且利用电容串联降低了存储单元的RC延迟,提升存储器访问速度。因此,本发明在没有增加额外面积开销的情况下降低了未选中单元的扰动,提升了存储器的存储窗口,并降低了存储器的误码率,提升了存储器访问速度。

    一种基于多阻变层的阻变存储器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN114094009B

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202111385644.3

    申请日:2021-11-22

    Abstract: 本发明公布了一种基于多阻变层的阻变存储器及其制备方法,属于半导体和CMOS混合集成电路技术领域。本发明基于传统CMOS工艺来实现具有高retention的阻变存储器件,其核心在于,阻变层由拦截特性薄膜和具有阻变特性的阻变材料薄膜交替叠加构成,形成多层阻变层结构。本发明通过调整界面处势垒以期降低甚至消除阻变存储器的crossbar结构中存在的阻变层离子迁移问题,可有效地抑制器件的低保持力。同时,多层阻变层结构也有利于增加器件的状态数,为实现阻变存储器大规模集成以及商业化铺平了道路。

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