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公开(公告)号：CN118328888A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202410477888.1
申请日：2024-04-19
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请提供了一种基于面型测量的承片台的控制方法、装置、电子设备及存储介质，其中，方法包括针对每一测量周期，通过以下方式控制承片台跟随光学测量系统运动，以通过光学测量系统完成对承片台上承载的待测件的面形扫描：控制承片台运动至该测量周期的起始位置，并沿Y轴方向匀速运动；获取光学测量系统发送的上一测量时刻所采集的待测件的测量数据以及用于指示测量数据是否有效的标签信息；根据测量数据以及对应的标签信息，控制承片台下一测量时刻的运动状态，使承片台跟随光学测量系统进行运动，进而提高光学测量系统的测量效率。
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公开(公告)号：CN114296393B
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202111640584.5
申请日：2021-12-29
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G05B19/19
Abstract: 本发明公开一种运动台回零方法、装置、电子设备和存储介质。控制编码器下闭环，控制运动台沿第一方向运动；当检测到双导轨中任一导轨上的电气限位信号时，停止运动台的运动，并控制运动台沿第二方向运动；当检测到任一导轨上零位传感器信号时，获取此时该导轨上编码器第一原始数值；当检测到另一导轨的零位传感器信号时，获取此时该另一导轨上编码器第二原始数值；根据编码器第一原始数值和编码器第二原始数值，获得运动台的偏置参数；控制运动台开环，根据偏置参数设置双导轨的编码器偏置参数；重新闭环运动台，获得闭环时运动台的初始位置信息；基于初始位置信息，控制运动台运动回零点。本发明提供的方案能以较高的精度实现运动台的回零。
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公开(公告)号：CN116700364A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310912027.7
申请日：2023-07-24
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G05D3/12
Abstract: 本申请提供了一种光学设备中的遮光机构的遮光控制系统、方法及设备，其中，所述遮光机构包括多个遮光柱，每个遮光柱由一个电机控制，该系统包括：轨迹规模块、位置确定模块和电机控制模块，所述轨迹规划模块，用于针对每个遮光柱，根据该遮光柱的当前位置和该遮光柱的目标位置，确定该遮光柱的至少一个运动路径；所述位置确定模块，用于针对每个遮光柱，检测该遮光柱每移动一个运动路径后的中间位置；所述电机控制模块，用于针对每个遮光柱，根据该遮光柱的至少一个运动路径和该遮光柱每移动一个运动路径后的中间位置，控制该遮光柱运动。达到避免代码量的浪费，减少的算法的计算时间，精确地对遮光机构的位置进行控制的效果。
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公开(公告)号：CN116009475A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211639691.0
申请日：2022-12-19
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G05B19/19
Abstract: 本申请提供了一种运动台全阶段运动轨迹的确定方法和确定装置，包括：获取目标运动台的约束参数；基于约束参数，获得在第一运动阶段下的第一加加速度运动轨迹；基于约束参数，获得在第二运动阶段下运动轨迹多项式系数和第二运动阶段特征时间；基于约束参数，获得在第三运动阶段下的第三加加速度运动轨迹；确定第一加速度运动轨迹，第一速度运动轨迹和第一位移运动轨迹；确定第二加加速度运动轨迹、第二加速度运动轨迹，第二速度运动轨迹和第二位移运动轨迹；确定第三加速度运动轨迹，第三速度运动轨迹和第三位移运动轨迹。通过所述方法和装置，能够在避免运动台产生冲击振动和超出特定工作场景的规定的运动区域的同时保证运动台的产率要求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118295322A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202410392208.6
申请日：2024-04-02
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G05B19/19
Abstract: 本申请提供了一种半导体设备的移动控制方法及装置，该方法包括：获取多项式参数及运动学约束参数，根据多项式参数确定多项式曲线的初始参数及终止参数；根据初始参数及运动学约束参数，对多项式曲线前的步进加速段、位置步进段进行轨迹规划，获得步进加速曲线及位置步进曲线；根据终止参数及运动学约束参数，对多项式曲线后的步进减速段进行规划获得步进减速曲线；将多项式曲线、步进加速曲线、位置步进曲线、步进减速曲线拼接在一起得到移动控制曲线，以利用移动控制曲线对半导体设备进行控制。通过采用上述半导体设备的移动控制方法及装置，解决了采用点对点的线性移动方法来满足非线性运动需求时，导致控制过程复杂度高及控制耗时长的问题。
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公开(公告)号：CN114924528A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202210637243.0
申请日：2022-06-07
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G05B19/19
Abstract: 本申请提供了一种运动台的运动轨迹的规划方法及规划装置，包括：根据运动轨迹中第二阶段运动轨迹的场景工作段的运动速度和相关运动约束，得到第二阶段运动轨迹的特征参数；再由第二阶段运动轨迹的特征参数，反推第一阶段运动轨迹的结束位置；并根据第一阶段运动轨迹的结束位置和相关运动约束，得到第一阶段运动轨迹的特征参数；进而，得到全运动轨迹的特征参数轮廓以对运动台运动进行规划。这样，能够减少运动台在高速高精度运动过程中产生的大冲击和强残余振动，实现了运动台运动轨迹规划时合理加加加速度轮廓、加加速度轮廓、加速度轮廓、速度轮廓和位移轮廓的生成。
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公开(公告)号：CN111584403A
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN202010445688.X
申请日：2020-05-22
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本发明提供一种半导体材料加工设备及半导体材料加工方法，涉及物料加工技术领域。该半导体材料加工设备包括上料机构、加工机构、下料机构、检测模块、控制模块、下料位和废料位。上料机构设置在加工机构的一侧。检测模块设置在加工机构处，检测模块与控制模块连接。控制模块与下料机构连接，下料机构设置在加工机构的一侧。检测模块用于检测加工机构加工后的物料的外观，控制模块用于判断加工后的物料是否合格，并控制下料机构将合格物料输送至下料位处，将不合格物料输送至废料位处。本发明缓解了现有技术中自动上料和下料的半导体材料加工设备加工物料过程中，物料加工失败后需人为将废料剔除，导致生产效率仍旧较低的技术问题。
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公开(公告)号：CN114924528B
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202210637243.0
申请日：2022-06-07
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G05B19/19
Abstract: 本申请提供了一种运动台的运动轨迹的规划方法及规划装置，包括：根据运动轨迹中第二阶段运动轨迹的场景工作段的运动速度和相关运动约束，得到第二阶段运动轨迹的特征参数；再由第二阶段运动轨迹的特征参数，反推第一阶段运动轨迹的结束位置；并根据第一阶段运动轨迹的结束位置和相关运动约束，得到第一阶段运动轨迹的特征参数；进而，得到全运动轨迹的特征参数轮廓以对运动台运动进行规划。这样，能够减少运动台在高速高精度运动过程中产生的大冲击和强残余振动，实现了运动台运动轨迹规划时合理加加加速度轮廓、加加速度轮廓、加速度轮廓、速度轮廓和位移轮廓的生成。
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公开(公告)号：CN117432745A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202311352749.8
申请日：2023-10-18
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: F16F15/023 , F16F15/027
Abstract: 本申请提供了一种半导体测试设备的隔振系统，其中，所述隔振系统的置物台与摆杆机构垂直连接，摆杆机构嵌入式的设置于气囊内，其中，隔振系统包括数据采集单元和控制单元，数据采集单元包括位移传感器和速度传感器，位移传感器用于检测置物台相对于隔振系统的位置数据，速度传感器用于检测放置于置物台上的负载的速度数据，控制单元包括四组位置控制子单元和控制器，每组位置控制子单元分别设置于四个目标位置处，控制器根据置物台相对于隔振系统的位置变化和放置于置物台上的负载的移动速度，控制四组位置控制子单元动作，以使置物台以及放置在置物台上的负载保持稳定。快速稳定地使隔振系统的置物台以及放置在置物台上的负载保持稳定的效果。
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