公开(公告)号：CN116848205A

公开(公告)日：2023-10-03

申请号：CN202280013808.6

申请日：2022-03-07

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 金正训 ,  黄晙夏 ,  权五星

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种抛光浆料组合物，其包括：纳米氧化铈抛光粒子；以及分子中含有亲水基团的水溶性化合物。可选地，所述抛光浆料组合物还包括含有分子内胺基及羧基的两性化合物、含有有机酸的表面改性剂及pH调节剂中的至少一个以上。

公开(公告)号：CN110551454A

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201910427069.5

申请日：2019-05-22

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 孔铉九 ,  金正训 ,  黄珍淑

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明涉及一种抛光浆料组合物，包括：铁-取代抛光粒子；pH调节剂；以及螯合剂；氧化剂或两者兼有。

公开(公告)号：CN115895595B

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202211037938.1

申请日：2022-08-26

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 金正训 ,  李正揆 ,  张孝俊

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及氧化铈抛光粒子及抛光浆料组合物，更具体地，包括铈元素；及改性剂，并且，满足通过1次粒径与2次粒径的关系式计算的聚集率的氧化铈抛光粒子及包括其的抛光浆料组合物。

公开(公告)号：CN109021833A

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201810596550.2

申请日：2018-06-11

Applicant: 三星电子株式会社 ,  凯斯科技股份有限公司

Inventor： 朴承浩 ,  孔铉九 ,  金正训 ,  李相美 ,  李愚仁 ,  全喜淑 ,  金相均 ,  崔浩 ,  朴钟爀 ,  尹一永

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/304 ,  H01L21/302

CPC classification number: C09G1/02 ,  H01L21/28079 ,  H01L21/28123 ,  H01L21/3212 ,  H01L27/10814 ,  H01L27/10823 ,  H01L27/10876 ,  H01L21/302 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3043

Abstract: 本揭露提供一种用于抛光金属层的浆料组合物及一种使用所述浆料组合物制作半导体装置的方法。用于抛光金属层的浆料组合物包括：包含金属氧化物的抛光颗粒；包含过氧化氢的氧化剂；以及包含选自由磷酸酯、亚磷酸酯、次磷酸酯、偏磷酸酯及其盐组成的群组的至少一者的第一抛光调节剂，其中以100重量％的所述用于抛光金属层的浆料组合物计，氧化剂的含量是0.01重量％到0.09重量％。本揭露的浆料组合物可提供高抛光速率。

公开(公告)号：CN115895595A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202211037938.1

申请日：2022-08-26

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 金正训 ,  李正揆 ,  张孝俊

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及氧化铈抛光粒子及抛光浆料组合物，更具体地，包括铈元素；及改性剂，并且，满足通过1次粒径与2次粒径的关系式计算的聚集率的氧化铈抛光粒子及包括其的抛光浆料组合物。

公开(公告)号：CN110551454B

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN201910427069.5

申请日：2019-05-22

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 孔铉九 ,  金正训 ,  黄珍淑

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明涉及一种抛光浆料组合物，包括：铁‑取代抛光粒子；pH调节剂；以及螯合剂；氧化剂或两者兼有。