一种高通量真空气氛环境高温电学测试系统

    公开(公告)号:CN118112054A

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202410192562.4

    申请日:2024-02-21

    Abstract: 本申请涉及材料电学性能测试技术领域,具体而言,涉及一种高通量真空气氛环境高温电学测试系统,包括高温真空气氛炉、电学测试平台、性能采集模块、气体源以及真空泵组,其中:高温真空气氛炉包括电阻丝发热体、炉管以及固定底座,炉管管体的两端分别设置有第一真空法兰和第二真空法兰;薄膜材料样品固定设置在电学测试平台上;气体源通过气体管道与第一真空法兰上的进气口连接;性能采集模块通过高温导线与炉管内部的电学测试平台连接;真空泵组通过气体管道与第二真空法兰上的出气口连接。本申请将电学测试平台集成至高温真空气氛炉中,通过对高温真空气氛炉的改造,可实现室温至1200℃温度区间、高真空或可控气氛环境下薄膜材料的电学测量。

    一种在喷管内表面制备涂层的方法

    公开(公告)号:CN112746265A

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN202011608058.6

    申请日:2020-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种在喷管内表面制备涂层的方法。本发明将需制备涂层的喷管置于反应室内,将气相前驱体以脉冲形式交替通入反应器,第一种前躯体到达喷管内,以化学吸附在喷管内表面形成一个单吸附层;再通入第二种前驱体,与第一种前驱体反应,在喷管内表面生成一个单原子层的涂层。在每个前驱体脉冲之间需要用惰性气体对反应器进行清洗,再重复吸附和反应过程,逐层生成涂层。本方法通过气体吸附和反应相结合的方式,实现在喷管内表面制备涂层,解决目前无法采用真空镀膜方法在喷管内表面制备涂层的难题,可在不同的材料表面制备金属、氧化物等各类涂层材料,满足不同需求。

    一种微型原子氧密度传感器的制造方法

    公开(公告)号:CN117110131A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202310947749.6

    申请日:2023-07-31

    Abstract: 本发明提供一种微型原子氧密度传感器的制造方法,涉及空间环境探测技术领域。该方法包括:准备基底;在基底表面制备下绝缘层;在下绝缘层表面制备加热及测温电阻薄膜;在加热及测温电阻薄膜表面制备上绝缘层,使其包覆于上绝缘层和下绝缘层中;在上绝缘层中制备加热及测温引线窗口以将加热及测温电阻薄膜的引出端引出;在上绝缘层的表面制备传感电极;在传感电极的表面制备纳米氧化锌薄膜,并与传感电极之间形成电连接;处理基底的背面以在下绝缘层下方形成悬空支撑结构。本发明利用纳米结构增强ZnO半导体薄膜原子氧传感灵敏度、高集成度微型传感MEMS器件设计降低系统尺寸及功耗等有益方案的结合,可实现空间原子氧密度的在轨连续监测。

    一种高致密涂层的复合制备方法

    公开(公告)号:CN112725765A

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN202011602697.1

    申请日:2020-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种高致密涂层的复合制备方法,采用原子层沉积和化学气相沉积交替制备的方式完成高致密涂层的制备,本发明利用原子层沉积涂层的高致密性,实现对化学气相沉积涂层中裂纹、微孔等缺陷的阻隔,防止各类缺陷的遗传和发展,使涂层具有很好的阻隔性能,同时,克服了原子层沉积效率低的缺点。该方法可用于对涂层致密性具有高要求且涂层厚度较大的涂层制备。解决目前单纯采用化学气相沉积技术制备的高致密涂层因缺陷导致失效的难题。

    一种复合材料热防护用高温抗氧化涂层

    公开(公告)号:CN115537812B

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202211197995.6

    申请日:2022-09-29

    Abstract: 本发明公开了一种复合材料热防护用高温抗氧化涂层,涉及卫星复合材料喷管热防护技术领域,解决了现有热防护涂层无法耐受1800℃以上服役环境的问题。该涂层包括SiC/C基体、过渡层、周期性叠层和耐高温烧蚀层。SiC/C基体表面设置过渡层;过渡层材料为碳化硅和硼化铱多元组合涂层。在过渡层的表面设置周期性叠层。周期性叠层中每四层结构为一个周期,四层结构由下至上顺次为:第一层是1微米‑10微米的碳化硅,第二次是1微米‑10微米的硼化铱、第三次是1微米‑10微米的金属铱,第四层是1微米‑10微米的硼化铱与碳化硅的复合层。周期性叠层表面设置耐高温烧蚀层。耐高温烧蚀层由有碳化硅、硼化铪和硼化铱组成。

    一种高致密复合型原子氧防护薄膜

    公开(公告)号:CN115537728A

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202211234011.7

    申请日:2022-10-10

    Abstract: 本发明公开了一种高致密复合型原子氧防护薄膜。首先在有机物基底表面设计一层厚度为1~100nm的致密无微观缺陷的SiOx薄膜,作为硅氧烷涂层生长的“种子层”;随后在SiOx种子层上设计厚度为200~600nm的硅氧烷涂层。最后在硅氧烷表面上设计一层厚度为5~200nm的SiOx薄膜,作为帽子层。本发明的优点在于:SiOx种子层可以有效降低硅氧烷涂层中的微观缺陷,防止形成原子氧剥蚀通道。SiOx帽子层可以有效遮盖硅氧烷表面孔洞、裂纹等缺陷,同时增强原子氧防护性能。为低轨道、超低轨道卫星长期在轨运行提供原子氧防护方法,保证长寿命、低轨道卫星在轨性能和使用寿命。

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