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公开(公告)号：CN1799078A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200480015442.8
申请日：2004-09-27
Applicant: 信越工程株式会社
IPC: G09F9/00 , G02F1/13 , G02F1/1339
CPC classification number: G02F1/1341
Abstract: 本发明涉及一种不使用XYθ平台而精密地对准位置的基板位置对准装置。本发明的基板位置对准装置中，作为在2个基板(A，B)相互维持平行的状态下，将上下保持板(1，2)中的一个相对于另一个向XYθ方向自由地支撑调整移动的机构，从上下保持板(1，2)中的一个，向真空室(S)的顶板壁(3)或底板壁(4)设置摆动连杆导向机构(6)，将该摆动连杆导向机构(6)由XYθ方向移动机构(5)向XYθ方向摆动，从而使上下保持板(1，2)中的一个相对于另一个向XYθ方向调整移动，从而在XYθ方向对上基板(A)和下基板(B)相互对准位置。
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公开(公告)号：CN1799078B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200480015442.8
申请日：2004-09-27
Applicant: 信越工程株式会社
IPC: G09F9/00 , G02F1/13 , G02F1/1339
CPC classification number: G02F1/1341
Abstract: 本发明涉及一种不使用XYθ平台而精密地对准位置的基板位置对准装置。本发明的基板位置对准装置中，作为在2个基板(A，B)相互维持平行的状态下，将上下保持板(1，2)中的一个相对于另一个向XYθ方向自由地支撑调整移动的机构，从上下保持板(1，2)中的一个，向真空室(S)的顶板壁(3)或底板壁(4)设置摆动连杆导向机构(6)，将该摆动连杆导向机构(6)由XYθ方向移动机构(5)向XYθ方向摆动，从而使上下保持板(1，2)中的一个相对于另一个向XYθ方向调整移动，从而在XYθ方向对上基板(A)和下基板(B)相互对准位置。
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公开(公告)号：CN100426338C
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200380100016.X
申请日：2003-10-23
Applicant: 信越工程株式会社
CPC classification number: H01J9/261
Abstract: 与根据静电吸附机构(5b)进行的对上侧基板(A)的保持解除联动，使气体(G)从该上侧基板的背面侧喷出，通过将该气体强制注入上方保持板(1)的静电吸附面(5b1)和上侧基板的背面之间，破坏这些静电吸附面和基板面的紧密结合状态，通过使两者剥离，强制性衰减，消灭两者间的静电吸附力，同时，通过所注入气体的压力，强制性地使向下侧基板(B)的下落力，即落下的加速度产生作用，据此，瞬时地使该上侧基板压接到下侧基板上，上侧基板以被静电吸附机构(5b)保持的状态，姿势无变化地移动压接到下侧基板上，密封重叠上下基板。因此，可以强制性地使上侧基板在位置对合的状态下下落，而与静电吸附力的解除不稳定无关。
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公开(公告)号：CN1692388A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200380100016.X
申请日：2003-10-23
Applicant: 信越工程株式会社
CPC classification number: H01J9/261
Abstract: 与根据静电吸附机构(5b)进行的对上侧基板(A)的保持解除联动，使气体(G)从该上侧基板的背面侧喷出，通过将该气体强制注入上方保持板(1)的静电吸附面(5b1)和上侧基板的背面之间，破坏这些静电吸附面和基板面的紧密结合状态，通过使两者剥离，强制性衰减，消灭两者间的静电吸附力，同时，通过所注入气体的压力，强制性地使向下侧基板(B)的下落力，即落下的加速度产生作用，据此，瞬时地使该上侧基板压接到下侧基板上，上侧基板以被静电吸附机构(5b)保持的状态，姿势无变化地移动压接到下侧基板上，密封重叠上下基板。因此，可以强制性地使上侧基板在位置对合的状态下下落，而与静电吸附力的解除不稳定无关。
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