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公开(公告)号：CN119329190A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410960455.1
申请日：2024-07-17
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 高桥彰宏
Abstract: 本发明提供喷墨装置、喷墨装置的控制方法及物品的制造方法。作为本发明的一个方面的喷墨装置具有：基板载置台，其保持基板；喷墨单元，其能够升降驱动，包含向保持于基板载置台的基板上喷出墨的喷墨头；滑架基座，其支承喷墨单元，设有用于供升降的喷墨单元通过的开口部；以及维护单元，其相对于滑架基座配置于上侧。此外，在作为本发明的一个方面的喷墨装置中，喷墨装置内的比开口部靠上侧的第1空间的压力低于比开口部靠下侧的第2空间的压力。
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公开(公告)号：CN110597017A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201910488559.6
申请日：2019-06-06
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 提供一种基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法，能够减少曝光不均匀。基板保持装置包括：基座，用于保持基板并具有间隙；以及光源机构，被设置于该间隙，向基板照射光，在该基板保持装置中，以由基座反射而到达基座的上部的第一抗蚀剂区域的光量与从光源机构射出并到达光源机构的上部的第二抗蚀剂区域的光量的差变小的方式，调节从光源机构照射于基板的光量。
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公开(公告)号：CN112666797B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202011091475.8
申请日：2020-10-13
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及载置台装置及其调整方法、曝光装置以及物品制造方法。提供对基板保持部的平面度的精度和调整速度的并存有利的载置台装置。保持基板而移动的载置台装置具有：基座；基板保持部，在比所述基座更靠上的位置保持所述基板；多个调整部，设置于所述基座与所述基板保持部之间，为了调整所述基板保持部的基板保持面的形状，针对所述基板保持面的多个部位中的每个部位独立地从下方施加力；以及多个紧固部，与所述多个调整部中的每个调整部对应地设置，使用紧固部件以夹入所述调整部的形态紧固所述基座和所述基板保持部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109564397B
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN201780048850.0
申请日：2017-06-15
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一种测量装置，针对具有与互不相同的第一方向和第二方向中的一个方向上的高度偏差相比另一个方向上的高度偏差较大的表面的基板测量该表面的高度分布，该测量装置包括：检测部，其对检测区域内的检测对象部位的高度进行检测；以及处理部，其通过相对地扫描所述基板和所述检测区域来求出扫描方向上的所述基板的表面的高度分布，其中，所述处理部通过沿所述第一方向相对地扫描所述基板和所述检测区域，来求出所述第一方向上的所述基板的表面的高度分布作为第一分布，判断所述第一分布中的高度偏差是否为基准值以上，在判断为所述第一分布中的高度偏差小于基准值的情况下，通过沿所述第二方向相对地扫描所述基板和所述检测区域来求出所述第二方向上的所述基板的表面的高度分布。
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公开(公告)号：CN115903402A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202310086053.9
申请日：2019-05-27
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/687 , B23H7/04 , B23H7/10
Abstract: 本申请涉及基板保持装置、曝光装置和物品制造方法。提供了一种基板保持装置以及包括该基板保持装置的曝光装置，该基板保持装置包括设置有间隙的基座和部署在间隙中并且被配置为将已经透过基板的光向基板侧反射的反射构件。
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公开(公告)号：CN112666797A
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN202011091475.8
申请日：2020-10-13
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及载置台装置及其调整方法、曝光装置以及物品制造方法。提供对基板保持部的平面度的精度和调整速度的并存有利的载置台装置。保持基板而移动的载置台装置具有：基座；基板保持部，在比所述基座更靠上的位置保持所述基板；多个调整部，设置于所述基座与所述基板保持部之间，为了调整所述基板保持部的基板保持面的形状，针对所述基板保持面的多个部位中的每个部位独立地从下方施加力；以及多个紧固部，与所述多个调整部中的每个调整部对应地设置，使用紧固部件以夹入所述调整部的形态紧固所述基座和所述基板保持部。
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公开(公告)号：CN109564397A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780048850.0
申请日：2017-06-15
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一种测量装置，针对具有与互不相同的第一方向和第二方向中的一个方向上的高度偏差相比另一个方向上的高度偏差较大的表面的基板测量该表面的高度分布，该测量装置包括：检测部，其对检测区域内的检测对象部位的高度进行检测；以及处理部，其通过相对地扫描所述基板和所述检测区域来求出扫描方向上的所述基板的表面的高度分布，其中，所述处理部通过沿所述第一方向相对地扫描所述基板和所述检测区域，来求出所述第一方向上的所述基板的表面的高度分布作为第一分布，判断所述第一分布中的高度偏差是否为基准值以上，在判断为所述第一分布中的高度偏差小于基准值的情况下，通过沿所述第二方向相对地扫描所述基板和所述检测区域来求出所述第二方向上的所述基板的表面的高度分布。
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