-
公开(公告)号：CN109564397B
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN201780048850.0
申请日：2017-06-15
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一种测量装置，针对具有与互不相同的第一方向和第二方向中的一个方向上的高度偏差相比另一个方向上的高度偏差较大的表面的基板测量该表面的高度分布，该测量装置包括：检测部，其对检测区域内的检测对象部位的高度进行检测；以及处理部，其通过相对地扫描所述基板和所述检测区域来求出扫描方向上的所述基板的表面的高度分布，其中，所述处理部通过沿所述第一方向相对地扫描所述基板和所述检测区域，来求出所述第一方向上的所述基板的表面的高度分布作为第一分布，判断所述第一分布中的高度偏差是否为基准值以上，在判断为所述第一分布中的高度偏差小于基准值的情况下，通过沿所述第二方向相对地扫描所述基板和所述检测区域来求出所述第二方向上的所述基板的表面的高度分布。
-
公开(公告)号：CN1695096A
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN03805546.5
申请日：2003-03-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G03F1/64 , G03F9/7023 , G03F9/7026 , G03F9/7088
Abstract: 一种位置检测系统，包括检测装置，相对于基本垂直于模版表面的方向检测位于模版表面上不同点处的位置，所述模版表面具有在其上形成的预定图案；其特征在于所述检测装置包括将来自光源的光引导至所述模版表面的光投影部分，和接收来自所述模版表面的反射光的光接收部分；其中来自所述光投影部分、入射到所述模版表面上的光的入射角度不小于45度。
-
公开(公告)号：CN1448797A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN03108649.7
申请日：2003-04-02
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/22
CPC classification number: G03F9/7003 , G03F7/703 , G03F7/70308 , G03F7/70358 , G03F9/7023
Abstract: 提供了这样的曝光装置，它的特征在于包括：具有预定成像特性的投影光学系统；设于形成应复制的图案的掩模与上述投影光学系统之间用以减少上述图案畸变的校正光学元件；配置于上述掩模的图案面侧，通过上述校正光学元件来控制上述掩模表面形状的斜入射方式的检测装置。
-
公开(公告)号：CN116107158A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202211382397.6
申请日：2022-11-07
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 前田浩平
IPC: G03F1/84
Abstract: 本发明涉及异物检查装置、曝光装置以及物品的制造方法。一种异物检查装置，检测在被检查物的检查区域中有无异物，该异物检查装置具有：受光部，接受由于通过来自光源的光对异物进行照明而产生的来自该异物的散射光；以及判定部，判定表示由所述受光部接受的光量的信号是否为容许值内，在所述信号是容许值外的情况下，判定在所述检查区域中有异物，所述判定部根据来自所述光源的光对所述检查区域进行照明的照明条件，变更所述容许值。
-
公开(公告)号：CN106919005B
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201611180237.8
申请日：2016-12-20
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 前田浩平
Abstract: 公开了检测设备、曝光设备和制造设备的方法。该检测设备具有从相对于物体的表面的法线的倾斜方向投影光的投影系统22以及接收反射光20光接收系统23，并且该检测设备基于光接收系统23所获得的数据来检测表面的位置，反射光20包括前/背反射光，光接收系统23包括将反射光分离成第一/第二偏振光的偏振光分离单元15，以及用于检测第一/第二偏振光的检测单元16、17，投影系统22或光接收系统23被配置成使得由检测单元获得的背反射光的第一/第二偏振光相等，并且包括用于基于示出出第一/第二偏振光的数据之间的差分数据来计算位置的计算单元。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100470380C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN03805546.5
申请日：2003-03-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G03F1/64 , G03F9/7023 , G03F9/7026 , G03F9/7088
Abstract: 一种位置检测系统，包括检测装置，相对于基本垂直于模版表面的方向检测位于模版表面上不同点处的位置，所述模版表面具有在其上形成的预定图案；其特征在于所述检测装置包括将来自光源的光引导至所述模版表面的光投影部分，和接收来自所述模版表面的反射光的光接收部分；其中来自所述光投影部分、入射到所述模版表面上的光的入射角度不小于45度。
-
公开(公告)号：CN117470807A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202310915346.3
申请日：2023-07-24
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 前田浩平
Abstract: 本发明涉及异物判定方法、异物判定装置、光刻装置及物品的制造方法。一种异物判定方法，具有：第1检测工序，检测被检查对象的被检查面上的异物散射的第1波长区域的第1光；第2检测工序，检测被所述异物散射的与所述第1波长区域不同的第2波长区域的第2光；以及第1判定工序，判定所述异物的影响度，在所述第1判定工序中，使用基于在所述第1检测工序和所述第2检测工序中检测出的散射光的强度和散射范围中的至少一者的第1判定方法进行判定，所述第1判定方法是与所述异物的种类相应的判定方法。
-
公开(公告)号：CN109932876B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN201811506973.7
申请日：2018-12-11
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 前田浩平
Abstract: 本发明提供测量装置、平板印刷装置、物品的制造方法及测量方法。提供对精度良好地测量基板的边缘位置有利的测量装置。测量基板的边缘位置的测量装置包括：检测部，检测以第1光量将光照射到所述基板的端部而由所述端部反射的光的第1强度分布、以与所述第1光量不同的第2光量将光照射到所述端部而由所述端部反射的光的第2强度分布；处理部，将由所述检测部检测的光强度分布上的位置相互对应的所述第1强度分布的检测信号和所述第2强度分布的检测信号当作1组，根据由所述检测部检测的光强度分布上的位置互不相同的多个组中的所述第1强度分布的波峰的强度和所述第2强度分布的波峰的强度处于容许范围内的组的强度分布决定所述基板的边缘位置。
-
公开(公告)号：CN110941138A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201910873185.X
申请日：2019-09-17
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 前田浩平
Abstract: 提供一种相对于检查对象物的平坦度的下降而言稳定的异物检查装置、曝光装置以及物品制造方法。检查物体的被检查面上的异物的异物检查装置具有：投光部，向所述被检查面投射检查光；以及受光部，接受由于通过所述投光部投射所述检查光而产生的来自所述异物的散射光，所述异物检查装置以所述投光部的光轴与所述受光部的光轴相交的点位于从所述被检查面可取的高度范围偏移的位置的方式配置了所述投光部和所述受光部。
-
公开(公告)号：CN108614392A
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201711289563.7
申请日：2017-12-08
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 前田浩平
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供平版印刷装置、物品的制造方法及测量装置。提供对于高精度测量基板边缘位置有利的平版印刷装置。将图案形成于基板的平版印刷装置包括载置台，能保持基板而移动；照射部，从由载置台保持的基板侧方对该基板端部照射第一光；检测部，配置于被照射部照射第一光的基板端部下方，检测在该端部反射的第一光的光强度分布；处理部，根据由校正值校正从第一光的光强度分布得到的基板边缘位置信息的结果，决定基板边缘位置，照射部及检测部设置于载置台，处理部根据在对由载置台保持的基板端部照射第一光的状态下由检测部检测的第一光光强度分布和在将该端部配置于向下方向上射出的第二光光路内状态下由检测部检测的第二光光强度分布生成校正值。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
18
records
(took 0.018 seconds)
