公开(公告)号：CN110554575A

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201910443203.0

申请日：2019-05-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 大阪昇 ,  高桥彰宏 ,  坂田峻也

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/683

Abstract: 提供一种基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法，能够减少曝光不均匀。基板保持装置包括：基座(521)，具有间隙；以及反射部件(523)，被设置于该间隙，将透射了基板(510)的光反射到基板侧，在该基板保持装置中，将反射部件(523)相对于基座(521)倾斜地配置。

公开(公告)号：CN110554575B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN201910443203.0

申请日：2019-05-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 大阪昇 ,  高桥彰宏 ,  坂田峻也

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/683

Abstract: 提供一种基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法，能够减少曝光不均匀。基板保持装置包括：基座(521)，具有间隙；以及反射部件(523)，被设置于该间隙，将透射了基板(510)的光反射到基板侧，在该基板保持装置中，将反射部件(523)相对于基座(521)倾斜地配置。

公开(公告)号：CN110597017A

公开(公告)日：2019-12-20

申请号：CN201910488559.6

申请日：2019-06-06

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 高桥彰宏 ,  大阪昇 ,  坂田峻也

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/683

Abstract: 提供一种基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法，能够减少曝光不均匀。基板保持装置包括：基座，用于保持基板并具有间隙；以及光源机构，被设置于该间隙，向基板照射光，在该基板保持装置中，以由基座反射而到达基座的上部的第一抗蚀剂区域的光量与从光源机构射出并到达光源机构的上部的第二抗蚀剂区域的光量的差变小的方式，调节从光源机构照射于基板的光量。

公开(公告)号：CN110554576A

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201910443206.4

申请日：2019-05-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 坂田峻也 ,  高桥彰宏 ,  大阪昇

IPC: G03F7/20

Abstract: 本申请涉及基板保持装置、曝光装置和物品制造方法。提供了一种基板保持装置以及包括该基板保持装置的曝光装置，该基板保持装置包括设置有间隙的基座和部署在间隙中并且被配置为将已经透过基板的光向基板侧反射的反射构件。

公开(公告)号：CN115903402A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202310086053.9

申请日：2019-05-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 坂田峻也 ,  高桥彰宏 ,  大阪昇

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/687 ,  B23H7/04 ,  B23H7/10

Abstract: 本申请涉及基板保持装置、曝光装置和物品制造方法。提供了一种基板保持装置以及包括该基板保持装置的曝光装置，该基板保持装置包括设置有间隙的基座和部署在间隙中并且被配置为将已经透过基板的光向基板侧反射的反射构件。