压印方法、压印装置和器件制造方法

    公开(公告)号:CN104181768A

    公开(公告)日:2014-12-03

    申请号:CN201410227550.7

    申请日:2014-05-27

    Abstract: 本公开涉及压印方法、压印装置和器件制造方法。本公开的压印方法包括:在其上形成有包括基板上标记的图案的基板上供给压印材料;使具有包括模具上标记的图案的模具与压印材料接触;在模具与压印材料接触的状态下固化压印材料;并且形成包括压印材料上标记的图案,其特征在于,使用被配置为形成压印材料上标记的图像和基板上标记的图像的光学系统来在增大了基板与模具之间的空间之后检测压印材料上标记和基板上标记,直到模具上标记位于光学系统的焦深之外为止,从而获得基板上的图案与压印材料上的图案之间的相对位置偏差。

    压印方法、压印装置和器件制造方法

    公开(公告)号:CN110083009A

    公开(公告)日:2019-08-02

    申请号:CN201910498821.5

    申请日:2014-05-27

    Abstract: 本公开涉及压印方法、压印装置和器件制造方法。本公开的压印方法包括:在其上形成有包括基板上标记的图案的基板上供给压印材料;使具有包括模具上标记的图案的模具与压印材料接触;在模具与压印材料接触的状态下固化压印材料;并且形成包括压印材料上标记的图案,其特征在于,使用被配置为形成压印材料上标记的图像和基板上标记的图像的光学系统来在增大了基板与模具之间的空间之后检测压印材料上标记和基板上标记,直到模具上标记位于光学系统的焦深之外为止,从而获得基板上的图案与压印材料上的图案之间的相对位置偏差。

    曝光设备以及使用该曝光设备的器件制造方法

    公开(公告)号:CN1647249A

    公开(公告)日:2005-07-27

    申请号:CN03809090.2

    申请日:2003-04-11

    Inventor: 樋浦充 辻俊彦

    Abstract: 一种曝光设备,将激励激光照射到靶上,并由所产生的等离子体产生用于生成远紫外区或者X射线区的照射光的光源,该曝光设备包括:照射光学系统,使用所述照射光照射形成要转移的图案的反射初缩掩模版,该照射光学系统包括最接近所述光源的第一反射镜;椭球面反射镜,用于在所述照射光学系统中的所述第一反射镜之前会聚所述照射光;以及投影光学系统,将在所述初缩掩模版上反射的图案缩小并投影到要被曝光的对象上,其中,在所述激励激光的光轴方向超过由激励激光产生等离子体的位置的地方的光不干扰包括所述照射和投影光学系统和所述椭球面反射镜的所述曝光设备中的部件。

    压印方法、压印装置和器件制造方法

    公开(公告)号:CN104181768B

    公开(公告)日:2019-06-25

    申请号:CN201410227550.7

    申请日:2014-05-27

    Abstract: 本公开涉及压印方法、压印装置和器件制造方法。本公开的压印方法包括:在其上形成有包括基板上标记的图案的基板上供给压印材料;使具有包括模具上标记的图案的模具与压印材料接触;在模具与压印材料接触的状态下固化压印材料;并且形成包括压印材料上标记的图案,其特征在于,使用被配置为形成压印材料上标记的图像和基板上标记的图像的光学系统来在增大了基板与模具之间的空间之后检测压印材料上标记和基板上标记,直到模具上标记位于光学系统的焦深之外为止,从而获得基板上的图案与压印材料上的图案之间的相对位置偏差。

    曝光设备以及使用该曝光设备的器件制造方法

    公开(公告)号:CN100375238C

    公开(公告)日:2008-03-12

    申请号:CN03809090.2

    申请日:2003-04-11

    Inventor: 樋浦充 辻俊彦

    Abstract: 一种曝光设备,将激励激光照射到靶上,并由所产生的等离子体产生用于生成远紫外区或者X射线区的照射光的光源,该曝光设备包括:照射光学系统,使用所述照射光照射形成要转移的图案的反射初缩掩模版,该照射光学系统包括最接近所述光源的第一反射镜;椭球面反射镜,用于在所述照射光学系统中的所述第一反射镜之前会聚所述照射光;以及投影光学系统,将在所述反射初缩掩模版上反射的图案缩小并投影到要被曝光的对象上,其中,在所述激励激光的光轴方向超过由激励激光产生等离子体的位置的地方的光不干扰包括所述照射和投影光学系统和所述椭球面反射镜的所述曝光设备中的部件。

    压印方法、压印装置和器件制造方法

    公开(公告)号:CN110083009B

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN201910498821.5

    申请日:2014-05-27

    Abstract: 本公开涉及压印方法、压印装置和器件制造方法。本公开的压印方法包括:在其上形成有包括基板上标记的图案的基板上供给压印材料;使具有包括模具上标记的图案的模具与压印材料接触;在模具与压印材料接触的状态下固化压印材料;并且形成包括压印材料上标记的图案,其特征在于,使用被配置为形成压印材料上标记的图像和基板上标记的图像的光学系统来在增大了基板与模具之间的空间之后检测压印材料上标记和基板上标记,直到模具上标记位于光学系统的焦深之外为止,从而获得基板上的图案与压印材料上的图案之间的相对位置偏差。

    压印装置和使用其的物品制造方法

    公开(公告)号:CN104067373B

    公开(公告)日:2016-10-05

    申请号:CN201380006253.3

    申请日:2013-01-25

    Abstract: 压印装置使用模具在基板的待处理区域上形成树脂的图案,模具包括在其上形成有图案的图案区域,压印装置包括:校正单元,被配置为校正目标区域的形状,目标区域是模具上的图案区域或者基板上的待处理区域,其中,校正单元进一步包括:加热单元,被配置为在加热区域中对与模具或基板的目标区域相对应的对象进行加热,加热区域的面积小于模具上的图案区域的面积;扫描单元,被配置为通过改变目标区域和加热区域的相对位置来相对于目标区域扫描加热区域;以及控制单元,被配置为获取关于目标区域的校正变形量的信息并且基于该信息来控制加热单元和扫描单元。

    压印装置和使用其的物品制造方法

    公开(公告)号:CN104067373A

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201380006253.3

    申请日:2013-01-25

    Abstract: 压印装置使用模具在基板的待处理区域上形成树脂的图案,模具包括在其上形成有图案的图案区域,压印装置包括:校正单元,被配置为校正目标区域的形状,目标区域是模具上的图案区域或者基板上的待处理区域,其中,校正单元进一步包括:加热单元,被配置为在加热区域中对与模具或基板的目标区域相对应的对象进行加热,加热区域的面积小于模具上的图案区域的面积;扫描单元,被配置为通过改变目标区域和加热区域的相对位置来相对于目标区域扫描加热区域;以及控制单元,被配置为获取关于目标区域的校正变形量的信息并且基于该信息来控制加热单元和扫描单元。

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