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公开(公告)号：CN111983897B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202010417810.2
申请日：2020-05-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。
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公开(公告)号：CN105319864A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510357283.X
申请日：2015-06-25
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F9/7019 , G03F9/7092
Abstract: 本发明涉及测量装置、光刻装置和制造物品的方法。本发明提供了一种测量装置，其包括可移动台并且测量该台上的标记的位置，所述装置包括：成像设备，包括以间距布置的多个像素并且对所述标记成像；驱动设备，其改变台和成像设备之间的相对位置；测量设备，其测量所述相对位置；以及处理器，其基于由成像设备在所述台和所述成像设备之间的彼此不同并且与所述间距相关联的多个相对位置处分别获得的多个图像，来获得所述标记的位置，其中所述处理器被配置为基于相对于所述多个相对位置中的一个的偏差，来获得相对于所述多个相对位置中的另一个的目标相对位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107422608B
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN201710350096.8
申请日：2017-05-18
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及保持装置、光刻设备和制品制造方法。一种保持装置，构造成使用多个设置在光学元件的外周部处的保持部将光学元件保持到基座部件上的，其中多个保持部包括多个构造成以六个自由度地保持光学元件的第一保持部和构造成约束在六个自由度之中的光学元件的光轴方向上的自由度的第二保持部，并且其中由多个第二保持部用于约束光学元件的光轴方向上的自由度的力大于用于约束其它自由度的力。
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公开(公告)号：CN105319864B
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：CN201510357283.X
申请日：2015-06-25
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及测量装置、光刻装置和制造物品的方法。本发明提供了一种测量装置，其包括可移动台并且测量该台上的标记的位置，所述装置包括：成像设备，包括以间距布置的多个像素并且对所述标记成像；驱动设备，其改变台和成像设备之间的相对位置；测量设备，其测量所述相对位置；以及处理器，其基于由成像设备在所述台和所述成像设备之间的彼此不同并且与所述间距相关联的多个相对位置处分别获得的多个图像，来获得所述标记的位置，其中所述处理器被配置为基于相对于所述多个相对位置中的一个的偏差，来获得相对于所述多个相对位置中的另一个的目标相对位置。
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公开(公告)号：CN107422608A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710350096.8
申请日：2017-05-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/70833 , G02B7/026
Abstract: 本发明涉及保持装置、光刻设备和制品制造方法。一种保持装置，构造成使用多个设置在光学元件的外周部处的保持部将光学元件保持到基座部件上的，其中多个保持部包括多个构造成以六个自由度地保持光学元件的第一保持部和构造成约束在六个自由度之中的光学元件的光轴方向上的自由度的第二保持部，并且其中由多个第二保持部用于约束光学元件的光轴方向上的自由度的力大于用于约束其它自由度的力。
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公开(公告)号：CN118244574A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410527133.8
申请日：2020-05-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。
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公开(公告)号：CN111983897A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010417810.2
申请日：2020-05-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。
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