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公开(公告)号：CN105467771B
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：CN201510553038.6
申请日：2015-09-01
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 赤松昭郎
CPC classification number: G01B11/272 , G03F9/7088
Abstract: 本发明涉及检测装置、测量装置、曝光装置、物品制造方法和测量方法。该检测装置检测原件或原件基准部件上的原件标记和基板或基板基准部件上的基板标记，该原件标记和基板标记经由投影光学系统被布置，该装置包括：光学系统，光学系统包括成像设备，并且该光学系统被配置为在该成像设备上形成原件标记的图像和基板标记的图像，其中该光学系统包括具有第一标记和第二标记的检测基准部件，并且该光学系统被配置为：在该原件或原件基准部件上形成第一标记的图像，和经由该投影光学系统和该原件或原件基准部件在该基板或基板基准部件上形成第二标记的图像，和在该成像设备上形成原件标记的图像、基板标记的图像、第一标记的图像和第二标记的图像。
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公开(公告)号：CN104516214A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201410506206.1
申请日：2014-09-28
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 赤松昭郎
Abstract: 本发明公开检测装置、光刻装置以及物品的制造方法。检测设置于基板的多个标记的检测装置包括：第1观测仪器，向多个标记中的第1标记照射光，通过被反射的光检测第1标记；第2观测仪器，向多个标记中的与第1标记不同的第2标记照射光，通过被反射的光检测第2标记；以及光学部件，具有使从第1观测仪器射出的光透过以入射到基板的透过部和将从第2观测仪器射出的光朝向基板反射的面，通过改变入射到光学部件的来自第1观测仪器的光的入射位置和由光学部件的面反射的来自第2观测仪器的光的反射位置的相对位置，从第1观测仪器射出的光透过透过部而照射的基板上的位置与从第2观测仪器射出的光由面反射而照射的基板上的位置之间的距离发生变化。
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公开(公告)号：CN111983897B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202010417810.2
申请日：2020-05-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104516214B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201410506206.1
申请日：2014-09-28
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 赤松昭郎
Abstract: 本发明公开检测装置、光刻装置以及物品的制造方法。检测设置于基板的多个标记的检测装置包括：第1观测仪器，向多个标记中的第1标记照射光，通过被反射的光检测第1标记；第2观测仪器，向多个标记中的与第1标记不同的第2标记照射光，通过被反射的光检测第2标记；以及光学部件，具有使从第1观测仪器射出的光透过以入射到基板的透过部和将从第2观测仪器射出的光朝向基板反射的面，通过改变入射到光学部件的来自第1观测仪器的光的入射位置和由光学部件的面反射的来自第2观测仪器的光的反射位置的相对位置，从第1观测仪器射出的光透过透过部而照射的基板上的位置与从第2观测仪器射出的光由面反射而照射的基板上的位置之间的距离发生变化。
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公开(公告)号：CN105467771A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510553038.6
申请日：2015-09-01
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 赤松昭郎
CPC classification number: G01B11/272 , G03F9/7088
Abstract: 本发明涉及检测装置、测量装置、曝光装置、物品制造方法和测量方法。该检测装置检测原件或原件基准部件上的原件标记和基板或基板基准部件上的基板标记，该原件标记和基板标记经由投影光学系统被布置，该装置包括：光学系统，光学系统包括成像设备，并且该光学系统被配置为在该成像设备上形成原件标记的图像和基板标记的图像，其中该光学系统包括具有第一标记和第二标记的检测基准部件，并且该光学系统被配置为：在该原件或原件基准部件上形成第一标记的图像，和经由该投影光学系统和该原件或原件基准部件在该基板或基板基准部件上形成第二标记的图像，和在该成像设备上形成原件标记的图像、基板标记的图像、第一标记的图像和第二标记的图像。
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公开(公告)号：CN118244574A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410527133.8
申请日：2020-05-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。
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公开(公告)号：CN111983897A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010417810.2
申请日：2020-05-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。
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