无定形碳膜
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100594253C

    公开(公告)日:2010-03-17

    申请号:CN03824067.X

    申请日:2003-02-26

    Abstract: 一种无定形碳膜,其密度为2.8-3.3g/cm3。优选地,所述膜具有1×1018-1×1021自旋/cm3的自旋密度、按原子百分数表示为至少99.5%的碳浓度、按原子百分数表示为不超过0.5%的氢浓度、按原子百分数表示为不超过0.5%的惰性气体元素浓度以及3000-7000的努氏硬度。由母材以及从B、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中选择的至少一种物质形成厚度至少0.5nm并且不超过10nm的混合层。所述无定形碳膜沉积在混合层或者在混合层上形成的金属中间层上,从而增加粘附性。该无定形碳膜是用固体碳利用溅射法、阴极弧离子镀法或激光烧蚀法形成的。

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