公开(公告)号：CN1291809C

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：CN02122788.8

申请日：2002-06-13

Applicant: 住友电气工业株式会社 ,  日新电机株式会社

Inventor： 大谷聪 ,  冈崎尚登 ,  绪方洁 ,  福井治世 ,  入江美纪 ,  内海庆春 ,  大原久典 ,  森口秀树 ,  池ク谷明彦 ,  津田圭一 ,  濑户山诚

IPC: B23B27/14 ,  B23C5/00 ,  B23P15/28 ,  C23C14/00 ,  C23C16/26

CPC classification number: C23C14/022 ,  C23C14/0605 ,  C23C30/005 ,  Y10T407/27 ,  Y10T408/78 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24628 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/30

Abstract: 本发明涉及耐磨耗性及耐熔敷性均优良的被覆有非晶性碳膜的工具，其具有由WC基超硬质合金构成的基材以及在该基材上形成的非晶性碳膜，其刀尖形成非晶性碳的被覆工具，其基材含钴量为12%(质量)以下，非晶性碳膜在刀尖的最大厚度为0.05μm以上～0.5μm以下，该非晶性碳膜，是以石墨作原料，实质上在不含氢的气氛下，用物理蒸镀法形成的，提供应用于钻头、立铣刀、铰刀等转削工具、铣刀工具等车削工具中所用的刀尖交换型切削刀头、刀具、手术刀、剪切机等切断工具的非晶性碳被覆工具。

公开(公告)号：CN1390667A

公开(公告)日：2003-01-15

申请号：CN02122788.8

申请日：2002-06-13

Applicant: 住友电气工业株式会社 ,  日新电机株式会社

Inventor： 大谷聪 ,  冈崎尚登 ,  绪方洁 ,  福井治世 ,  入江美纪 ,  内海庆春 ,  大原久典 ,  森口秀树 ,  池ク谷明彦 ,  津田圭一 ,  濑户山诚

IPC: B23B27/14 ,  B23C5/00 ,  B23P15/28 ,  C23C14/00 ,  C23C16/26

CPC classification number: C23C14/022 ,  C23C14/0605 ,  C23C30/005 ,  Y10T407/27 ,  Y10T408/78 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24628 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/30

Abstract: 本发明涉及耐磨耗性及耐熔敷性均优良的被覆有非晶性碳膜的工具，其具有由WC基超硬质合金构成的基材以及在该基材上形成的非晶性碳膜，其刀尖形成非晶性碳的被覆工具，其基材含钴量为12％(质量)以下，非晶性碳膜在刀尖的最大厚度为0.05μm以上～0.5μm以下，该非晶性碳膜，是以石墨作原料，实质上在不含氢的气氛下，用物理蒸镀法形成的，提供应用于钻头、立铣刀、铰刀等转削工具、铣刀工具等车削工具中所用的刀尖交换型切削刀头、刀具、手术刀、剪切机等切断工具的非晶性碳被覆工具。

公开(公告)号：CN1285419A

公开(公告)日：2001-02-28

申请号：CN00126009.X

申请日：2000-08-18

Applicant: 日新电机株式会社

Inventor： 冈崎尚登 ,  大谷聪 ,  入泽一彦 ,  中村信彦

IPC: C23C14/24

CPC classification number: H01J37/32055 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32614

Abstract: 本发明涉及一种电弧型蒸发源,该蒸发源拥有基本上呈柱状的阴极,其轴向长度大于其直径;阴极供料装置,用于沿该阴极的轴向向该阴极供料;阴极冷却装置,用于以冷却剂冷却该阴极的至少一侧表面;和磁线圈,用于产生基本垂直延伸到该阴极前端的蒸发表面或从该蒸发表面向外延伸的磁通。

公开(公告)号：CN1118586C

公开(公告)日：2003-08-20

申请号：CN00126015.4

申请日：2000-08-18

Applicant: 日新电机株式会社

Inventor： 冈崎尚登 ,  大谷聪

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/22

CPC classification number: H01J37/32055 ,  C23C14/325

Abstract: 一种电弧型离子镀装置具有用于夹持基底的夹持器，该夹持器安装在真空室中，传输弯管的一端连接于该真空室上以面对夹持器上的基底。该传输管具有方形或者椭圆形截面，多个电弧蒸发源沿纵向Y布置在传输管的另一端，各个电弧蒸发源通过真空电弧放电熔化阴极，从而产生含阴极材料的等离子体，用于形成沿传输管弯曲的磁场的磁性线圈布置在传输管的外周，由电弧蒸发源产生的等离子体通过磁场引导至真空室内的基底附近。

公开(公告)号：CN1285253A

公开(公告)日：2001-02-28

申请号：CN00126015.4

申请日：2000-08-18

Applicant: 日新电机株式会社

Inventor： 冈崎尚登 ,  大谷聪

IPC: B23K10/02 ,  C23C14/24 ,  C23C14/22

CPC classification number: H01J37/32055 ,  C23C14/325

Abstract: 一种电弧型离子镀装置具有用于夹持基底的夹持器。该夹持器安装在真空室中。传输弯管的一端连接于该真空室上以面对夹持器上的基底。该传输管具有方形或者椭圆形截面。多个电弧蒸发源沿纵向Y布置在传输管的另一端。各个电弧蒸发源通过真空电弧放电熔化阴极,从而产生含阴极材料的等离子体。用于形成沿传输管弯曲的磁场的磁性线圈布置在传输管的外周。由电弧蒸发源产生的等离子体通过磁场引导至真空室内的基底附近。