公开(公告)号：CN106835011B

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201611185457.X

申请日：2016-12-20

Applicant: 深圳先进技术研究院

Inventor： 唐永炳 ,  杨扬 ,  秦盼盼 ,  张文军

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/32 ,  C23C14/35 ,  C23C16/26 ,  C23C16/513 ,  C23C28/00 ,  C01B32/05 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C14/022 ,  C23C14/025 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/16 ,  C23C14/325 ,  C23C14/35 ,  C23C16/26 ,  C23C16/513 ,  C23C28/322 ,  C23C28/343

Abstract: 本发明提供了一种具有类金刚石阵列的结构件，包括基体和设置在所述基体上的具有尖端结构的类金刚石纳米针阵列，所述类金刚石纳米针阵列通过对形成在所述基体上的一类金刚石涂层进行刻蚀得到。所述具有类金刚石阵列的结构件可以对细菌的细胞壁产生压力，穿刺细菌的细胞壁使其伸展并最终溶解，导致细菌死亡，有效破坏生物膜的形成，赋予该结构件显著的抗菌性能。本发明还提供了该具有类金刚石阵列的结构件的制备方法。

公开(公告)号：CN109136865A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201811250036.X

申请日：2018-10-25

Applicant: 大连维钛克科技股份有限公司

Inventor： 刘伟 ,  马槽伟

IPC: C23C14/32 ,  C23C14/48 ,  C23C14/02

CPC classification number: C23C14/325 ,  C23C14/022 ,  C23C14/48

Abstract: 一种电弧离子镀装置及沉积硬质涂层工艺，该装置由真空室、真空抽气系统、四组弧源和置于其前的转动挡板组成，其中，转动挡板包括清洗挡板及沉积栅网两种，悬挂于真空室上部的转动盘上，有效防止大颗粒污染涂层结构和降低性能，同时还能有效提高对基材加热、清洗和刻蚀以及离子注入效果，显著提高后续制备的硬质防护涂层与基材的结合力，可用于刀具、模具、机械零部件等表面制备硬质防护薄膜和涂层领域。

公开(公告)号：CN109023231A

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201811051863.6

申请日：2018-09-10

Applicant: 常州翊迈新材料科技有限公司

Inventor： 韩治昀 ,  高华 ,  魏科科

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/32

CPC classification number: C23C14/325 ,  C23C14/022 ,  C23C14/025 ,  C23C14/0605

Abstract: 本发明涉及涂层技术领域，尤其是超导电石墨烯涂层的制备方法及采用该方法制造的涂层，涂层包含过渡层、导电耐蚀层、次导电过渡层和导电层。本发明的超导电石墨烯涂层的制备方法及采用该方法制造的涂层，包含组成该低成本导电耐蚀涂层材料的成分、结构及形成该涂层的方法，涂层具备低成本、制备方式简单及导电耐蚀性能优异等特点。

公开(公告)号：CN108517488A

公开(公告)日：2018-09-11

申请号：CN201810457207.X

申请日：2018-05-14

Applicant: 武汉大学

Inventor： 杨兵 ,  刘琰 ,  赵鑫 ,  吴忠烨 ,  陈燕鸣 ,  郭嘉琳

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/32

CPC classification number: C23C14/0676 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/022 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/08 ,  C23C14/325

Abstract: 本发明公开了一种合金材料部件表面防腐耐磨复合涂层及其制备方法。该复合涂层从里到外由细晶强化组织层、过渡支撑层、氮化物耐磨层、氮氧化物梯度过渡层、氧化物防腐蚀层构成。从涂层结构而言，为多层梯度组合，成分上具有渐变特点，大幅度降低涂层的内应力和提高涂层的韧性，可以较好克服现有防腐蚀耐磨涂层性能较差的缺点，提高合金材料关键部件表面的耐磨和耐腐蚀性能。本发明采用电弧等离子体技术进行渗氮和氧化的目的，氮化深度深，用时短；采用离化的水蒸汽进行氧化，所获得的氧化物致密性好。而且等离子技术适应性强，可以在各种环境中使用，满足大小工件的加工要求，同时涂层设备结构简单，易于控制，工业应用前景良好。

公开(公告)号：CN108486527A

公开(公告)日：2018-09-04

申请号：CN201810645149.3

申请日：2018-06-21

Applicant: 江苏时代华宜电子科技有限公司

Inventor： 郭顺华 ,  陈敏

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/16 ,  C23C14/34 ,  C25F1/08

CPC classification number: C23C14/021 ,  C23C14/022 ,  C23C14/165 ,  C23C14/34 ,  C25F1/08

Abstract: 本发明属于钼合金镀膜工艺，具体涉及一种钼合金基板的镀镍工艺，包括如下步骤：步骤1，将钼片放入清洗槽内进行化学清洗，并晾干；步骤2，将晾干后的钼片进行等离子清洗，得到纯净的钼片；步骤3，将钼片真空加热后进行预镀处理，然后冷却得到预镀后的钼片；步骤4，将预镀后钼片进行热处理，热处理结束后得到带预镀膜的钼片；步骤5，将带预镀膜的钼片进行真空加热，然后进行镀镍处理，得到镀镍钼合金基板。本发明解决了现有技术中化学镀污染严重，且稳定性差的问题，通过真空镀膜法形成良好的绿色镀膜法，且不产生任何有害物质。

公开(公告)号：CN108386567A

公开(公告)日：2018-08-10

申请号：CN201810057924.3

申请日：2018-01-22

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 浮贝沙织 ,  寺本笃史 ,  中裕二

IPC: F16K3/314

CPC classification number: F16K11/06 ,  C04B41/009 ,  C04B41/52 ,  C04B41/89 ,  C04B41/90 ,  C04B2111/00353 ,  C23C14/022 ,  C23C14/025 ,  C23C14/0605 ,  C23C16/0245 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/26 ,  F16K19/006 ,  F16K25/005 ,  F16K25/02 ,  F16K27/04 ,  C04B35/10 ,  C04B41/4529 ,  C04B41/5133 ,  C04B41/4533 ,  C04B41/5059 ,  C04B41/522 ,  C04B41/5001

Abstract: 本发明的课题在于提供在介由水而可滑动的水栓阀门中具有优异的滑动性的陶瓷制阀门。具体而言，在于提供如下水栓阀门：其包括具有第1滑动面且由氧化铝质烧结体构成的第1阀体及具有第2滑动面且由氧化铝质烧结体构成的第2阀体，所述第1滑动面与所述第2滑动面的至少一部分彼此介由水而连接，其特征在于，在所述第2滑动面的至少一部分上设置第1无定形碳层，所述第1无定形碳层的硬度在构成所述第1阀体的氧化铝质烧结体的硬度以下，所述第1无定形碳层通过拉曼分光法测定的D峰与G峰之比(ID/IG)大于0.5、小于1.9。

公开(公告)号：CN106796863B

公开(公告)日：2018-08-07

申请号：CN201680002430.4

申请日：2016-03-29

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 植村贤介 ,  阿列克谢·G·列姆涅夫

IPC: H01J37/30

CPC classification number: H01J37/3053 ,  C23C14/022 ,  C23C16/0245 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/0825 ,  H01J2237/20214 ,  H01J2237/3114 ,  H01J2237/3132 ,  H01J2237/3151

Abstract: 本发明以提供种除膜方法为技术问题,该除膜方法是对由像PCD(聚晶金刚石)那样的无机物包覆的刀具、机械零件等进行除膜以能够进行再利用的方法,进行离子照射时在被除膜基材(包覆件)不易产生死角,在温度方面在基材(金属制构件)不易产生脆性相,并且,能够经济且快速地进行除膜。该除膜方法是向在金属制构件的表面附着由无机物构成的覆膜而成的包覆件(1)照射离子流(7)、从所述金属制构件剥离所述覆膜的除膜方法,其特征在于,将包覆件(1)设置在两个以上的离子流(7)重叠的离子流集中部(7A),不向包覆件(1)施加正负偏压地向包覆件(1)照射离子流(7),利用这样的除膜方法能够解决所述技术问题。

公开(公告)号：CN108291299A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680069198.6

申请日：2016-11-25

Applicant: 塞梅孔公司

Inventor： 斯特凡·博尔茨 ,  奥利弗·莱麦尔 ,  安东尼乌斯·莱恩德克

IPC: C23C16/27 ,  C23C28/04 ,  C23C14/02 ,  C23C16/02 ,  C23C28/00

CPC classification number: C23C16/27 ,  C23C14/022 ,  C23C16/0281 ,  C23C28/324 ,  C23C28/341 ,  C23C28/343 ,  C23C28/347 ,  C23C28/36 ,  C23C28/44

Abstract: 本发明涉及一种经涂覆体和一种用于涂覆体的方法。所述经涂覆体至少包括：基底(22)、厚度为1μm至40μm的金刚石层(24)以及与金刚石层(24)相比向外更远地布置在体(10)上的硬质材料层(26)。硬质材料层(26)包含至少一种金属元素和至少一种非金属元素。厚度为2nm至80nm的粘合层(32)设置在金刚石层(24)与硬质材料层(26)之间。粘合层(32)包含碳和至少一种金属元素。金刚石层(24)可以借助于CVD法施加。硬质材料层可以借助于PVD法施加。在金刚石层(24)与硬质材料层(26)之间的粘合层(32)可以这样制造：在施加硬质材料层(26)之前，借助于HIPIMS金属离子蚀刻预处理金刚石层(24)的表面，其中借助于金属离子蚀刻将离子注入或使离子扩散进入金刚石层(24)的表面中。

公开(公告)号：CN108277472A

公开(公告)日：2018-07-13

申请号：CN201810250652.9

申请日：2018-03-26

Applicant: 苏州新材料研究所有限公司

Inventor： 熊旭明 ,  王延恺 ,  李小宝 ,  夏金成 ,  陈慧娟

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/08 ,  C23C14/02 ,  B24B29/02 ,  B24B57/02 ,  B24B53/007

CPC classification number: C23C14/562 ,  B24B29/02 ,  B24B53/007 ,  B24B57/02 ,  C23C14/022 ,  C23C14/028 ,  C23C14/08

Abstract: 一种带材表面处理技术领域的金属基带的表面处理方法、装置及金属基带用于高温超导带材制备的方法，对原始金属基带先后进行粗抛处理和精抛处理，所述粗抛处理包括机械抛光和/或电化学抛光，所述精抛处理采用离子束抛光，最终制得粗糙度小于1纳米的金属基带。本发明对原始基带先粗抛后精抛，精抛采用离子束抛光，提高了抛光工序的产能，降低了成本，同时有利于在带材表面进行薄膜沉积。

公开(公告)号：CN108239757A

公开(公告)日：2018-07-03

申请号：CN201611212337.4

申请日：2016-12-25

Applicant: 青岛祥智电子技术有限公司

Inventor： 不公告发明人

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58 ,  C23C14/02 ,  C22C1/05 ,  C22C1/10 ,  C22C27/04 ,  B22F3/10 ,  B22F3/24

CPC classification number: C23C14/35 ,  B22F3/1007 ,  B22F3/24 ,  B22F2003/242 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/05 ,  C22C27/04 ,  C23C14/021 ,  C23C14/022 ,  C23C14/08 ,  C23C14/5846 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/02

Abstract: 本发明公开了一种钼合金氧化锌薄膜的制备方法，该方法包括制备基板、预处理基板、溅射形成氧化锌薄膜等步骤，该方法制备重复性好，而且操作简便，该种方法制备的材料由于是定向腐蚀得到的，因此具有更好的电学和光学性能。