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公开(公告)号:CN108346700A
公开(公告)日:2018-07-31
申请号:CN201810067250.5
申请日:2018-01-23
IPC: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L21/28
CPC classification number: H01L29/41708 , H01L21/28518 , H01L21/28568 , H01L21/32133 , H01L23/3171 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L29/0696 , H01L29/45 , H01L29/66348 , H01L29/7397 , H01L2224/05082 , H01L2224/05155 , H01L2924/3512
Abstract: 本发明提供一种半导体装置,其能够抑制表面电极的裂纹并且减轻半导体基板的应力。该半导体装置具有:半导体基板;覆盖所述半导体基板的表面的表面电极;覆盖所述表面电极的表面的一部分的绝缘保护膜;以及对横跨从所述绝缘保护膜的表面至所述表面电极的表面的范围进行覆盖的焊接用金属膜。所述表面电极具有:配置在所述半导体基板上的第一金属膜;与所述第一金属膜的表面接触且具有比所述第一金属膜更高的拉伸强度的第二金属膜;以及第三金属膜,其与所述第二金属膜的表面接触,具有与所述第二金属膜相比较低而与所述第一金属膜相比较高的拉伸强度。
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公开(公告)号:CN107180864B
公开(公告)日:2020-07-14
申请号:CN201710138580.4
申请日:2017-03-09
Applicant: 丰田自动车株式会社
IPC: H01L29/739 , H01L29/06
Abstract: 本发明涉及一种开关元件,并提供一种能够抑制第一金属层产生裂纹的情况,并能够确保开关元件的耐压,且能够降低开关元件导通时的电阻的技术。设置有在半导体基板的上表面上以网眼状延伸的沟槽(栅电极),半导体基板的上表面被层间绝缘膜覆盖。在元件范围内的层间绝缘膜上,于各个单元区的上部设置有接触孔,在围绕范围内,于各个单元区内上表面整体被层间绝缘膜覆盖。第一金属层对层间绝缘膜进行覆盖,并且在接触孔的上部具有凹部。绝缘保护膜对围绕范围内的第一金属层的外周侧的部分进行覆盖。第二金属层在绝缘保护膜的开口内对第一金属层进行覆盖。在围绕范围内设置有延伸至各个沟槽的下侧并与体区导通的第二导电型区域。
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公开(公告)号:CN107180864A
公开(公告)日:2017-09-19
申请号:CN201710138580.4
申请日:2017-03-09
Applicant: 丰田自动车株式会社
IPC: H01L29/739 , H01L29/06
Abstract: 本发明涉及一种开关元件,并提供一种能够抑制第一金属层产生裂纹的情况,并能够确保开关元件的耐压,且能够降低开关元件导通时的电阻的技术。设置有在半导体基板的上表面上以网眼状延伸的沟槽(栅电极),半导体基板的上表面被层间绝缘膜覆盖。在元件范围内的层间绝缘膜上,于各个单元区的上部设置有接触孔,在围绕范围内,于各个单元区内上表面整体被层间绝缘膜覆盖。第一金属层对层间绝缘膜进行覆盖,并且在接触孔的上部具有凹部。绝缘保护膜对围绕范围内的第一金属层的外周侧的部分进行覆盖。第二金属层在绝缘保护膜的开口内对第一金属层进行覆盖。在围绕范围内设置有延伸至各个沟槽的下侧并与体区导通的第二导电型区域。
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公开(公告)号:CN108346700B
公开(公告)日:2021-10-12
申请号:CN201810067250.5
申请日:2018-01-23
Applicant: 株式会社电装
IPC: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L21/28
Abstract: 本发明提供一种半导体装置,其能够抑制表面电极的裂纹并且减轻半导体基板的应力。该半导体装置具有:半导体基板;覆盖所述半导体基板的表面的表面电极;覆盖所述表面电极的表面的一部分的绝缘保护膜;以及对横跨从所述绝缘保护膜的表面至所述表面电极的表面的范围进行覆盖的焊接用金属膜。所述表面电极具有:配置在所述半导体基板上的第一金属膜;与所述第一金属膜的表面接触且具有比所述第一金属膜更高的拉伸强度的第二金属膜;以及第三金属膜,其与所述第二金属膜的表面接触,具有与所述第二金属膜相比较低而与所述第一金属膜相比较高的拉伸强度。
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公开(公告)号:CN114287053A
公开(公告)日:2022-04-05
申请号:CN201980099708.8
申请日:2019-08-26
Applicant: 株式会社电装
IPC: H01L21/336 , H01L29/47 , H01L29/739 , H01L29/78 , H01L29/861 , H01L29/868 , H01L29/872
Abstract: 半导体装置具备半导体衬底、在上述半导体衬底的一个主面中设置的沟槽栅极部、将上述半导体衬底的上述一个主面的上方覆盖的表面电极、以及使上述沟槽栅极部与上述表面电极绝缘的层间绝缘膜,上述半导体衬底具有第1导电型的漂移区域、在上述漂移区域的上方设置的第2导电型的体区域、在上述体区域的至少一部分的下方设置的第1导电型的势垒区域、以及从上述半导体衬底的上述一个主面延伸至上述势垒区域并与上述表面电极肖特基接触的第1导电型的柱区域,上述表面电极是含硅的合金,上述层间绝缘膜的顶面和侧面所成的角是锐角。
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