电离室检测系统
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106548919B

    公开(公告)日:2018-02-09

    申请号:CN201610964438.0

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明实施例涉及一种电离室检测系统,包括多维调节平台装置和滤波片装置;多维调节平台装置包括移动基座、升降装置、第一导轨、第一底座、第二导轨、第二底座和旋转台;升降装置设置于移动基座上;第一导轨安装在运动平台上;第一底座平行第一导轨所在平面滑设在第一导轨上;第二导轨安装在第一底座上;第二底座平行第一底座滑设在第二导轨上;旋转台固定在第二底座上;滤波片装置包括支撑架、滑动导轨和滤波片放置架;滑动导轨安装在支撑架上;滑动导轨上具有位移滑块,位移滑块滑设在滑动导轨上;滤波片放置架包括固定杆、升降调节杆和滤波片夹具。

    多维调节平台
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106547018A

    公开(公告)日:2017-03-29

    申请号:CN201610967033.2

    申请日:2016-10-28

    CPC classification number: G01T7/00

    Abstract: 本发明实施例涉及一种多维调节平台,包括:移动基座、升降装置、第一导轨、第一底座、第二导轨、第二底座和旋转台;移动基座包括基座平台和多个支撑柱;基座平台架设在多个支撑柱上;升降装置设置于移动基座上,升降装置包括第一固定座、升降平台、第二固定座、运动平台、升降驱动电机和升降驱动杆;第一导轨安装在运动平台上,第一底座平行第一导轨所在平面滑设在第一导轨上;第二导轨安装在第一底座上,与第一导轨方向垂直;第二底座平行第一底座滑设在第二导轨上;旋转台固定在第二底座上,包括旋转驱动电机、旋转底座和旋转盘;旋转盘设置于旋转底座上;旋转驱动电机驱动旋转盘在旋转底座上旋转。

    探测器阳极装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106531756B

    公开(公告)日:2018-05-18

    申请号:CN201610963911.3

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明实施例提供了一种探测器阳极装置,包括:第一阳极板,第一阳极板具有第一信号阵列;第二阳极板,第二阳极板的面积小于第一阳极板,并且位于第一阳极板内,第二阳极板具有第二信号阵列;第一ASIC芯片,与第一阳极板相连接,当电子打在第一阳极板时,检测第一阳极板产生的第一信号;第二ASIC芯片,与第二阳极板相连接,当电子打在第二阳极板时,检测第二阳极板产生的第二信号;电子学处理器,与第一ASIC芯片和第二ASIC芯片相连接,根据第一信号和第二信号得到电子打在第一阳极板或者第二阳极板的位置。本发明实施例探测器阳极装置,利用两块不同的阳极板,实现了不同精度的电子位置检测。

    电离室装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106449347A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201610963949.0

    申请日:2016-10-28

    CPC classification number: H01J47/02

    Abstract: 本发明实施例涉及一种电离室装置,包括:石墨电离室和收集杆;石墨电离室包括:石墨腔室,在射入石墨腔室内的辐射射线的照射下,石墨腔室内的空气电离,石墨腔室包括上腔室和下腔室;上腔室和下腔室为半径相同的空心半球,上腔室扣合在下腔室上;下腔室的底部中心设有通孔;收集极,对辐射射线电离后产生的电子进行收集;收集极的一端穿设通孔置于石墨腔室,并与通孔绝缘连接,收集极的一端设置于空心半球的球心;收集杆包括中心导体、绝缘杆和外部连接杆;中心导体与收集极的另一端插接;绝缘杆套接于中心导体外侧;外部连接杆套接于绝缘杆外侧。

    平台系统的校准方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106483553A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201610964403.7

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明实施例涉及一种平台系统的校准方法,包括:X光机平台安装于平台系统的系统底板的第一导轨上;探测器平台安装于系统底板的第二导轨上;控制第一电机驱动X光机平台在第一导轨上运动至工作位置;并且,控制第二电机驱动探测器平台在第二导轨上运动至工作位置;开启X光机平台上的激光校准器;调节X光机平台的升降装置,使激光射向探测器平台的激光接收器;调节X光机平台的俯仰台和旋转台,使激光与激光接收器的中心对准;旋转转动滤波架,使激光校准器发射的激光射向转动滤波架;调节支撑杆的高度,并旋转支撑杆的角度,使X射线束中心射在转动滤波架的预定位置,从而使X射线束中心、过滤片中心和探测器中心在同一直线上。

    基于电离室系统的检测方法

    公开(公告)号:CN106483549A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201610967027.7

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明实施例涉及一种基于电离室系统的检测方法,包括:将X光机设置于X光机平台上;将附加滤过片插接于滤过装置上;调节滤过装置,使附加滤过片中心与X光机的X光出射位置在同一水平位置;驱动第一底座在第一导轨上运动至工作位置;并且驱动第二底座在第二导轨上运动至工作位置;调节升降装置和升降装置上的旋转台,使设置于旋转台上的电离室装置的接收射线位置与附加滤过片中心、X光机的X光出射位置在同一条直线上;X光机产生初始X射线束;初始X射线束经过附加滤过片后,对低于第一阈值能量的射线进行滤除;过滤后的X射线束使电离室装置内的空气发生电离,产生电离电流;静电计对电离电流进行检测,得到电离电流值。

    平台系统
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106405627A

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201610967034.7

    申请日:2016-10-28

    CPC classification number: G01T7/005

    Abstract: 本发明实施例涉及一种平台系统,包括:系统底板,具有第一导轨、第二导轨和第三导轨;X光机平台,包括第一移动平台和X光机,第一移动平台滑设在第一导轨上,X光机设置于第一移动平台上;放射源平台,包括第二移动平台和放射源固定夹具,第二移动平台滑设在第二导轨上,放射源固定夹具设置于第二移动平台上;探测器平台,包括第三移动平台和探测器,第三移动平台滑设在第三导轨上,探测器设置于第三移动平台上;转动滤波架,包括连接部和支撑杆,连接部设置于系统底板上并位于第一导轨和第二导轨之间,支撑杆的一端与连接部的另一端相接,并垂直于系统底板设置;支撑杆的另一端具有过滤片固定器。

    平台系统的校准方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106483553B

    公开(公告)日:2019-09-27

    申请号:CN201610964403.7

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明实施例涉及一种平台系统的校准方法,包括:X光机平台安装于平台系统的系统底板的第一导轨上;探测器平台安装于系统底板的第二导轨上;控制第一电机驱动X光机平台在第一导轨上运动至工作位置;并且,控制第二电机驱动探测器平台在第二导轨上运动至工作位置;开启X光机平台上的激光校准器;调节X光机平台的升降装置,使激光射向探测器平台的激光接收器;调节X光机平台的俯仰台和旋转台,使激光与激光接收器的中心对准;旋转转动滤波架,使激光校准器发射的激光射向转动滤波架;调节支撑杆的高度,并旋转支撑杆的角度,使X射线束中心射在转动滤波架的预定位置,从而使X射线束中心、过滤片中心和探测器中心在同一直线上。

    基于电离室系统的检测方法

    公开(公告)号:CN106483549B

    公开(公告)日:2019-09-27

    申请号:CN201610967027.7

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明实施例涉及一种基于电离室系统的检测方法,包括:将X光机设置于X光机平台上;将附加滤过片插接于滤过装置上;调节滤过装置,使附加滤过片中心与X光机的X光出射位置在同一水平位置;驱动第一底座在第一导轨上运动至工作位置;并且驱动第二底座在第二导轨上运动至工作位置;调节升降装置和升降装置上的旋转台,使设置于旋转台上的电离室装置的接收射线位置与附加滤过片中心、X光机的X光出射位置在同一条直线上;X光机产生初始X射线束;初始X射线束经过附加滤过片后,对低于第一阈值能量的射线进行滤除;过滤后的X射线束使电离室装置内的空气发生电离,产生电离电流;静电计对电离电流进行检测,得到电离电流值。

    屏蔽箱
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106646584A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201610964385.2

    申请日:2016-10-28

    CPC classification number: G01T7/005

    Abstract: 本发明实施例涉及一种屏蔽箱,包括:箱体和屏蔽门,屏蔽门安装在箱体上;箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成,屏蔽层包括第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第四屏蔽层;其中,第一屏蔽层的材质为铅,用于屏蔽环境中的伽马射线;第二屏蔽层设置于第一屏蔽层的内侧,第二屏蔽层的材质为镉,用于吸收铅K壳层特征X射线和屏蔽箱内的低能散射射线;第三屏蔽层设置于第二屏蔽层的内侧,第三屏蔽层的材质为不锈钢,用于吸收镉的K壳层X射线;第四屏蔽层设置于第三屏蔽层的内侧,第四屏蔽层的材质为聚乙烯,用于慢化并吸收中子。

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