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公开(公告)号：CN105466359A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201511020844.3
申请日：2015-12-30
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/25
CPC classification number: G01B11/254
Abstract: 本发明公开了一种精密面型测量装置，该装置包括光源、投影光栅、第一双远心系统、第二双远心系统、检测光栅组件、空间分光系统、第一探测器、第二探测器、处理单元。其中，该装置利用检测光栅组件将一个光栅莫尔条纹分裂为两个位相差恒定的莫尔条纹，并利用空间分光系统将该两个莫尔条纹从空间上完全分开，成像到一对探测器上，并根据第一莫尔条纹光强I1和第二莫尔条纹光强I2获得所述被测量物体表面高度。该装置对测量光强变化不敏感，提高了测量系统对被测量表面材料和工艺的适应性。
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公开(公告)号：CN103955124A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410185976.0
申请日：2014-05-05
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明公开了一种光学精密系统的对准装置，涉及精密仪器技术领域，其中，本发明通过在第一物体上设置第一对准标记，在第二物体上设置第二对准标记，利用照明系统给所述第一物体上的第一对准标记提供照明，利用成像系统将第一物体上的第一对准标记成像在第二物体表面后形成第三对准标记，且第二对准标记及第三对准标记在第二物体表面重叠后形成第一图像。进而利用观测系统中的成像模块、聚束模块将包含多组、离散分布的对准标记的第一图像会聚后，形成第二图像，由单个探测模块和处理模块接收、处理，实现多通道对准标记实时、统一显示和调整，从而实现第一物体和第二物体的位置精确对准。达到了对准精度高、操作便捷的技术效果。
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公开(公告)号：CN103108480A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201210479101.2
申请日：2012-11-22
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置，应用于X射线或者EUV发光装置，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，一喷嘴，其中，EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，收集罩位于真空腔内，用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片，减少对EUV光源及其相连光刻机的污染；一储存装置，储存装置位于真空腔的下方，储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染，提高其使用寿命，同时降低污染物对EUV光的吸收，大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材，因此能够大幅度提高靶材的利用效率。
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公开(公告)号：CN104181777B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201410374962.3
申请日：2014-07-31
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种调焦调平传感器测量装置，涉及测量技术领域，用于测量带有工艺的硅片的高度形貌，该装置包括可调谐光源、测试光栅、第一成像系统、第二成像系统、参考光栅、探测器、工件台和计算机。该装置能够对于待测硅片上涂覆某种光刻胶或者具有某种结构时，自动计算测量高度对所述光刻胶或结构不敏感的光源光谱，相应调整光源的频率和带宽，以及探测器的响应范围，使调焦调平传感器的高度测量工艺相关性最小。在光刻曝光时，工件台将根据硅片形貌实时调节它的高度和倾斜，保证曝光区域保持在光刻机的对焦范围内，达到调焦调平的目的。
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公开(公告)号：CN103108480B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201210479101.2
申请日：2012-11-22
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置，应用于X射线或者EUV发光装置，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，一喷嘴，其中，EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，收集罩位于真空腔内，用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片，减少对EUV光源及其相连光刻机的污染；一储存装置，储存装置位于真空腔的下方，储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染，提高其使用寿命，同时降低污染物对EUV光的吸收，大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材，因此能够大幅度提高靶材的利用效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103268058B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201310172932.X
申请日：2013-05-10
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；一密封壳体，所述密封壳体位于真空腔内，且所述密封壳体用于密封所述电子学系统，阻挡所述电子学系统所形成的污染物进入所述真空腔中。该装置能够有效的避免电子学系统产生的污染物进入EUV真空腔中，减少了对EUV真空环境的污染，保证了EUV光的传输效率；通过温控器和导热件对密封壳体内的电子学系统的控温作用，保证电子学系统的正常工作。
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公开(公告)号：CN104181777A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410374962.3
申请日：2014-07-31
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种调焦调平传感器测量装置，涉及测量技术领域，用于测量带有工艺的硅片的高度形貌，该装置包括可调谐光源、测试光栅、第一成像系统、第二成像系统、参考光栅、探测器、工件台和计算机。该装置能够对于待测硅片上涂覆某种光刻胶或者具有某种结构时，自动计算测量高度对所述光刻胶或结构不敏感的光源光谱，相应调整光源的频率和带宽，以及探测器的响应范围，使调焦调平传感器的高度测量工艺相关性最小。在光刻曝光时，工件台将根据硅片形貌实时调节它的高度和倾斜，保证曝光区域保持在光刻机的对焦范围内，达到调焦调平的目的。
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公开(公告)号：CN103108481B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201210505346.8
申请日：2012-11-30
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种集光系统防污染保护装置，用于一种集光系统中，所述集光系统包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，所述集光系统防污染保护装置包括：一供气管路，用于传输压力气体；至少一通气孔，位于所述供气管路上，用于喷射所述压力气体；至少一气源，与所述供气管路连接，用于给所述供气管路提供压力气体；其中，所述通气孔与所述通过气路连通，实现通过所述压力气体将所述真空腔中的污染物吹离所述集光镜。本发明能够在激光源和集光镜之间通入背离集光镜内表面的气流，进而实现通过气流将光源中的污染物吹离集光镜，从而防止集光镜被污染物污染，达到延长集光镜使用寿面的目的。
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公开(公告)号：CN104345422A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410643329.X
申请日：2014-11-07
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G02B7/02
Abstract: 本发明公开了一种光学元件的精密对心粘胶装置，所述装置用于将第一镜片对心粘胶于镜筒，所述装置包括：底座、V型或U型导轨、第一镜片夹持定位机构和第一锁紧机构；V型或U型导轨垂直固定在底座上；第一镜片夹持定位机构用于夹持第一镜片，第一镜片夹持定位机构与V型或U型导轨连接，并可带动第一镜片沿V型或U型导轨移动；第一锁紧机构用于将镜筒固定在V型或U型导轨上；其中第一镜片夹持定位机构与镜筒同轴；第一镜片夹持定位机构用于将第一镜片送入镜筒中，使第一镜片与镜筒接触并同轴对心进行粘胶。本发明通过镜片和镜片夹持定位机构同轴以及镜筒和镜片夹持定位机构同轴，保证镜筒和所述镜片同轴对心，并且对心精确，操作简单。
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公开(公告)号：CN103268058A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310172932.X
申请日：2013-05-10
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；一密封壳体，所述密封壳体位于真空腔内，且所述密封壳体用于密封所述电子学系统，阻挡所述电子学系统所形成的污染物进入所述真空腔中。该装置能够有效的避免电子学系统产生的污染物进入EUV真空腔中，减少了对EUV真空环境的污染，保证了EUV光的传输效率；通过温控器和导热件对密封壳体内的电子学系统的控温作用，保证电子学系统的正常工作。
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