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公开(公告)号：CN103487593A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310430575.2
申请日：2013-09-18
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明提供一种具有原位标定功能的气体分析装置。所述装置包括：取样室，与待测腔室通过第一阀门相连，用于引入待测腔室的样品气体；分析室，与取样室通过第二阀门相连，分析室上设有真空规管，用于监测分析室的真空度；气体分析器，设于分析室内，用于对待分析气体进行分析测试；标定模块，用于向气体分析器提供标准气体，对气体分析装置进行定量标定。本发明还提供一种气体分析方法。本发明通过标定模块对气体分析装置进行定期标定，通过加热器进行烘烤除气，并通过吹扫放气模块进行气体吹扫及保护气充入，保持系统持续具备良好的测试本底，保证测试准确性，可实现十亿分之一量级的气体浓度测试，尤其适用于对EUV真空环境进行气体分析检测。
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公开(公告)号：CN103486974A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310436198.3
申请日：2013-09-23
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法，属于光学测量技术领域，本发明包括：光源，用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束；光谱偏振消光器，用于接收测量光束，并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二偏振消光光束；光谱消光探测器，用于接收第一偏振消光光束和第二偏振消光光束，并根据第一偏振消光光束和第二偏振消光光束来分别实现对膜层的第一厚度变化量和第二厚度变化量的测量；光学多路复用器，用于提供光源与光谱偏振消光器之间的光学多路复用、以及光谱偏振消光器与光谱消光探测器之间的光学多路复用。本发明通过采用光学多路复用技术，实现测量效率高、自动化水平高地测量多处位置的膜层厚度变化量。
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公开(公告)号：CN103486974B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310436198.3
申请日：2013-09-23
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法，属于光学测量技术领域，本发明包括：光源，用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束；光谱偏振消光器，用于接收测量光束，并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二偏振消光光束；光谱消光探测器，用于接收第一偏振消光光束和第二偏振消光光束，并根据第一偏振消光光束和第二偏振消光光束来分别实现对膜层的第一厚度变化量和第二厚度变化量的测量；光学多路复用器，用于提供光源与光谱偏振消光器之间的光学多路复用、以及光谱偏振消光器与光谱消光探测器之间的光学多路复用。本发明通过采用光学多路复用技术，实现测量效率高、自动化水平高地测量多处位置的膜层厚度变化量。
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公开(公告)号：CN103108480B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201210479101.2
申请日：2012-11-22
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置，应用于X射线或者EUV发光装置，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，一喷嘴，其中，EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，收集罩位于真空腔内，用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片，减少对EUV光源及其相连光刻机的污染；一储存装置，储存装置位于真空腔的下方，储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染，提高其使用寿命，同时降低污染物对EUV光的吸收，大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材，因此能够大幅度提高靶材的利用效率。
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公开(公告)号：CN103268058B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201310172932.X
申请日：2013-05-10
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；一密封壳体，所述密封壳体位于真空腔内，且所述密封壳体用于密封所述电子学系统，阻挡所述电子学系统所形成的污染物进入所述真空腔中。该装置能够有效的避免电子学系统产生的污染物进入EUV真空腔中，减少了对EUV真空环境的污染，保证了EUV光的传输效率；通过温控器和导热件对密封壳体内的电子学系统的控温作用，保证电子学系统的正常工作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103955124A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410185976.0
申请日：2014-05-05
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明公开了一种光学精密系统的对准装置，涉及精密仪器技术领域，其中，本发明通过在第一物体上设置第一对准标记，在第二物体上设置第二对准标记，利用照明系统给所述第一物体上的第一对准标记提供照明，利用成像系统将第一物体上的第一对准标记成像在第二物体表面后形成第三对准标记，且第二对准标记及第三对准标记在第二物体表面重叠后形成第一图像。进而利用观测系统中的成像模块、聚束模块将包含多组、离散分布的对准标记的第一图像会聚后，形成第二图像，由单个探测模块和处理模块接收、处理，实现多通道对准标记实时、统一显示和调整，从而实现第一物体和第二物体的位置精确对准。达到了对准精度高、操作便捷的技术效果。
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公开(公告)号：CN103487593B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201310430575.2
申请日：2013-09-18
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明提供一种具有原位标定功能的气体分析装置。所述装置包括：取样室，与待测腔室通过第一阀门相连，用于引入待测腔室的样品气体；分析室，与取样室通过第二阀门相连，分析室上设有真空规管，用于监测分析室的真空度；气体分析器，设于分析室内，用于对待分析气体进行分析测试；标定模块，用于向气体分析器提供标准气体，对气体分析装置进行定量标定。本发明还提供一种气体分析方法。本发明通过标定模块对气体分析装置进行定期标定，通过加热器进行烘烤除气，并通过吹扫放气模块进行气体吹扫及保护气充入，保持系统持续具备良好的测试本底，保证测试准确性，可实现十亿分之一量级的气体浓度测试，尤其适用于对EUV真空环境进行气体分析检测。
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公开(公告)号：CN103108480A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201210479101.2
申请日：2012-11-22
Applicant: 中国科学院微电子研究所
Abstract: 本发明公开了一种EUV光源污染物收集装置，应用于X射线或者EUV发光装置，其中，所述EUV发光装置包括：一激光源，一真空腔，一集光镜，一喷嘴，其中，EUV光源污染物收集装置包括：一收集罩，收集罩位于真空腔内，用于在激光束打击靶材后收集靶材碎片，减少对EUV光源及其相连光刻机的污染；一储存装置，储存装置位于真空腔的下方，储存装置用于收集靶材和/或污染物。本发明的EUV光源污染物收集装置能够减少靶材碎片等污染物对EUV光源及其相连光刻机的污染，提高其使用寿命，同时降低污染物对EUV光的吸收，大幅度提高EUV光源的效率。本发明能够回收并循环利用靶材，因此能够大幅度提高靶材的利用效率。
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公开(公告)号：CN103079327A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201310003089.2
申请日：2013-01-05
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: H05G2/00
Abstract: 本发明公开了一种靶源预整形增强的极紫外光发生装置，其中，所述极紫外光发生装置包括：真空腔，靶源发生器，靶源预整形增强器，高能发生器，能量注入器，极紫外光收集器，残余靶材收集器，其中，所述靶源预整形增强器包括：靶源运动轨迹控制器，靶源整形器，靶源探测器，极紫外光和/或等离子体探测器，同步控制器，其中同步控制器根据所述靶源探测器及极紫外光和/或等离子体探测器的监测数据，控制所述靶源发生器、靶源运动轨迹控制器、靶源整形器、高能发生器及能量注入器，以达到优化极紫外光输出能量的目的。本发明公开的极紫外光发生装置能够解决现有极紫外光发生装置能量转换效率低的问题，可有效增大装置的极紫外光输出能量。
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公开(公告)号：CN103079327B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201310003089.2
申请日：2013-01-05
Applicant: 中国科学院微电子研究所
IPC: H05G2/00
Abstract: 本发明公开了一种靶源预整形增强的极紫外光发生装置，其中，所述极紫外光发生装置包括：真空腔，靶源发生器，靶源预整形增强器，高能发生器，能量注入器，极紫外光收集器，残余靶材收集器，其中，所述靶源预整形增强器包括：靶源运动轨迹控制器，靶源整形器，靶源探测器，极紫外光和/或等离子体探测器，同步控制器，其中同步控制器根据所述靶源探测器及极紫外光和/或等离子体探测器的监测数据，控制所述靶源发生器、靶源运动轨迹控制器、靶源整形器、高能发生器及能量注入器，以达到优化极紫外光输出能量的目的。本发明公开的极紫外光发生装置能够解决现有极紫外光发生装置能量转换效率低的问题，可有效增大装置的极紫外光输出能量。
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