硅衬底及其制备方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104975293B

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201510266643.5

    申请日:2015-05-22

    Abstract: 本发明公开了一种硅衬底及其制备方法,由晶体硅构成,其表面为晶体硅的(100)晶面,硅衬底包括基底以及在基底之上形成的多个周期性排布的正金字塔结构。本发明成功制备出具有周期性正金字塔结构的硅衬底,为硅衬底器件提供了一种新的衬底结构,为硅基电力电子器件的制备提供了一种新的方法,周期性排布的正金字塔结构相对于倒金字塔结构更适合在硅衬底上进行外延。

    硅衬底及其制备方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104975293A

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201510266643.5

    申请日:2015-05-22

    Abstract: 本发明公开了一种硅衬底及其制备方法,由晶体硅构成,其表面为晶体硅的(100)晶面,硅衬底包括基底以及在基底之上形成的多个周期性排布的正金字塔结构。本发明成功制备出具有周期性正金字塔结构的硅衬底,为硅衬底器件提供了一种新的衬底结构,为硅基电力电子器件的制备提供了一种新的方法,周期性排布的正金字塔结构相对于倒金字塔结构更适合在硅衬底上进行外延。

    带基片加热和气氛处理的匀胶机

    公开(公告)号:CN105964488A

    公开(公告)日:2016-09-28

    申请号:CN201610370710.2

    申请日:2016-05-30

    Abstract: 一种带基片加热和气氛处理的匀胶机,包括:一圆筒;一立轴位于圆筒的中间并穿过圆筒的底部;一升降支架位于立轴上,该升降支架的上端为置物台,该升降支架可以旋转;一进气管道从圆筒外部通入圆筒内;一活动喷嘴的一端与进气管道相连,另一端对准该升降支架上端的置物台;一立柱固定在圆筒内的一侧,该立柱的上端连接有一支臂,该支臂的另一端与活动喷嘴相连,通过调节该支臂进而达到控制活动喷嘴的方向;一泵,该泵通过立轴与升降支架上端的置物台连接,用于抽、放气体,保证样品的吸附和脱吸附;一顶盖扣置于圆筒的上方。本发明能在气氛处理的情况下在基片上旋涂薄膜,从而能够实现边化学反应边旋涂薄膜的效果。

    带基片加热和气氛处理的匀胶机

    公开(公告)号:CN105964488B

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201610370710.2

    申请日:2016-05-30

    Abstract: 一种带基片加热和气氛处理的匀胶机,包括:一圆筒;一立轴位于圆筒的中间并穿过圆筒的底部;一升降支架位于立轴上,该升降支架的上端为置物台,该升降支架可以旋转;一进气管道从圆筒外部通入圆筒内;一活动喷嘴的一端与进气管道相连,另一端对准该升降支架上端的置物台;一立柱固定在圆筒内的一侧,该立柱的上端连接有一支臂,该支臂的另一端与活动喷嘴相连,通过调节该支臂进而达到控制活动喷嘴的方向;一泵,该泵通过立轴与升降支架上端的置物台连接,用于抽、放气体,保证样品的吸附和脱吸附;一顶盖扣置于圆筒的上方。本发明能在气氛处理的情况下在基片上旋涂薄膜,从而能够实现边化学反应边旋涂薄膜的效果。

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