硅衬底及其制备方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104975293B

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201510266643.5

    申请日:2015-05-22

    Abstract: 本发明公开了一种硅衬底及其制备方法,由晶体硅构成,其表面为晶体硅的(100)晶面,硅衬底包括基底以及在基底之上形成的多个周期性排布的正金字塔结构。本发明成功制备出具有周期性正金字塔结构的硅衬底,为硅衬底器件提供了一种新的衬底结构,为硅基电力电子器件的制备提供了一种新的方法,周期性排布的正金字塔结构相对于倒金字塔结构更适合在硅衬底上进行外延。

    硅衬底及其制备方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104975293A

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201510266643.5

    申请日:2015-05-22

    Abstract: 本发明公开了一种硅衬底及其制备方法,由晶体硅构成,其表面为晶体硅的(100)晶面,硅衬底包括基底以及在基底之上形成的多个周期性排布的正金字塔结构。本发明成功制备出具有周期性正金字塔结构的硅衬底,为硅衬底器件提供了一种新的衬底结构,为硅基电力电子器件的制备提供了一种新的方法,周期性排布的正金字塔结构相对于倒金字塔结构更适合在硅衬底上进行外延。

    GaN基白光LED及制备方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105870287B

    公开(公告)日:2018-01-23

    申请号:CN201610374754.2

    申请日:2016-05-31

    Abstract: 一种GaN基白光LED,包括:一衬底;一缓冲层,其制作在衬底的上面;一n‑GaN层,其制作在缓冲层的上面,其上面的一侧形成一台面;一蓝光多量子阱层,其制作在n‑GaN层台面另一侧的上面;一p‑GaN层,其制作在蓝光多量子阱层的上面;一透明导电层,其制作在p‑GaN层的上面;一上电极阵列,其制作在透明导电层的上面;一下电极,其制作在n‑GaN层的台面上;一钙钛矿层,其制作在透明导电层上,位于上电极阵列空隙处。本发明是GaN基白光LED将成熟的GaN基LED技术与新型的钙钛矿材料结合,制造出低成本、高效的白光LED。

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