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公开(公告)号:CN1260485A
公开(公告)日:2000-07-19
申请号:CN99100087.0
申请日:1999-01-08
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: G01N23/203
Abstract: 非破坏性定量检测砷化镓单晶化学配比的方法;利用X射线双晶衍射仪测量半绝缘砷化镓单晶片的晶格常数am;采用实时仪器校正X射线双晶衍射仪产生的误差,以高纯(11个″9″)、无位错硅单晶片为标准样品,每次测量晶格常数后,测量标准样品的晶格常数,计算仪器误差:Δa’=a’-a’0其中,a’0=5.431058A为硅单晶的标准晶格常数;按下式消除仪器的测量误差,得到准确的单晶晶格常数:a=am-Δa’,am为半绝缘砷化镓单晶晶格常数的测量值。
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公开(公告)号:CN1117982C
公开(公告)日:2003-08-13
申请号:CN99100087.0
申请日:1999-01-08
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: G01N23/20
Abstract: 非破坏性定量检测砷化镓单晶化学配比的方法;利用X射线双晶衍射仪测量半绝缘砷化镓单晶片的晶格常数am;采用实时仪器校正X射线双晶衍射仪产生的误差,以高纯(11个″9″)、无位错硅单晶片为标准样品,每次测量晶格常数后,测量标准样品的晶格常数,计算仪器误差:Δa’=a’-a’0其中,a’0=5.431058为硅单晶的标准晶格常数;按下式消除仪器的测量误差,得到准确的单晶晶格常数:a=am-Δa’,am为半绝缘砷化镓单晶晶格常数的测量值。
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