用于图案形成装置的红外热像仪温度矫正方法及装置

    公开(公告)号:CN115493709A

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202211195791.9

    申请日:2022-09-28

    Abstract: 本公开提供一种用于图案形成装置的红外热像仪温度矫正方法及装置,涉及光刻技术领域,用于解决通过红外热像仪测试图案形成装置温度不准确的问题,方法包括:采用红外热像仪获取图案形成装置工作状态下的第一温度分布数据;获取图案形成装置的第二温度分布数据,其中,第二温度分布数据用作基准数据;计算第一温度分布数据对应的温度值与第二温度分布数据对应的温度值之间的变换矩阵;根据变换矩阵对图案形成装置待矫正的温度分布数据进行矫正。

    一种图案形成装置的热控方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115877670A

    公开(公告)日:2023-03-31

    申请号:CN202211715722.6

    申请日:2022-12-29

    Abstract: 本公开提供了一种图案形成装置的热控方法,包括:S1,开启补偿照明,将图案形成装置加热至热平衡温度区间后,关闭补偿照明;补偿照明的照明区域面积为SC1×C2;S2,开启第一检测照明,检测步骤完成后关闭第一检测照明;第一检测照明的照明区域面积为SD1×D2;S3,开启曝光照明,曝光步骤完成后关闭曝光照明;曝光照明的照明区域面积为SE1×E2;其中,SC1×C2≥SD1×D2≥SE1×E2;S1、S2和S3在相互切换过程中,图案形成装置温度维持在热平衡温度区间;在热平衡温度区间内,补偿照明区域边缘Z向形变量ΔΔZC1×C2大于等于图案形成装置中心Z向的形变量ΔZ的50%。本公开通过引入补偿照明,实现图案形成装置长时间维持热平衡,使得图案形成装置的图形能维持稳定的变形。

    一种带有支撑结构的空间反射镜失重面形的检测方法

    公开(公告)号:CN104296689A

    公开(公告)日:2015-01-21

    申请号:CN201410621298.8

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本发明涉及一种带有支撑结构的空间反射镜失重面形的检测方法,包括如下步骤:1)将带有支撑结构的反射镜安装在基座上进行光学面形检测,得到面形数据D1;2)将基座旋转180°后检测反射镜面形D2';3)将D2'进行坐标转换得到面形数据D2;4)将两次检测的面形数据D1、D2进行处理得到D3即为带有支撑结构的反射镜的失重面形。利用该发明中的方法,可以得到带有支撑结构的空间反射镜的精确失重面形,对评估其在轨工作性能具有重要的意义。

    一种带有支撑结构的空间反射镜失重面形的检测方法

    公开(公告)号:CN104296689B

    公开(公告)日:2017-03-15

    申请号:CN201410621298.8

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本发明涉及一种带有支撑结构的空间反射镜失重面形的检测方法,包括如下步骤:1)将带有支撑结构的反射镜安装在基座上进行光学面形检测,得到面形数据D1;2)将基座旋转180°后检测反射镜面形D2';3)将D2'进行坐标转换得到面形数据D2;4)将两次检测的面形数据D1、D2进行处理得到D3即为带有支撑结构的反射镜的失重面形。利用该发明中的方法,可以得到带有支撑结构的空间反射镜的精确失重面形,对评估其在轨工作性能具有重要的意义。

    用于图案形成装置的红外热像仪温度矫正方法及装置

    公开(公告)号:CN115493709B

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202211195791.9

    申请日:2022-09-28

    Abstract: 本公开提供一种用于图案形成装置的红外热像仪温度矫正方法及装置,涉及光刻技术领域,用于解决通过红外热像仪测试图案形成装置温度不准确的问题,方法包括:采用红外热像仪获取图案形成装置工作状态下的第一温度分布数据;获取图案形成装置的第二温度分布数据,其中,第二温度分布数据用作基准数据;计算第一温度分布数据对应的温度值与第二温度分布数据对应的温度值之间的变换矩阵;根据变换矩阵对图案形成装置待矫正的温度分布数据进行矫正。

    形变矫正装置
    6.
    发明公开
    形变矫正装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117420726A

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202311470184.3

    申请日:2023-11-06

    Abstract: 本公开提供了一种形变矫正装置,包括:双层铰链结构,上下叠置,每层铰链结构均包括十六路矫正单元,对称的设置在四个方位,用于控制掩模的形变;导流结构,设于双层铰链结构下方,中间区域预留掩模的安装区域,当气流吹向导流结构时,导流结构将气流引向四周。该装置采用双层共三十二路铰链结构实现掩模形变的矫正,增加了矫正单元密度,提高了矫正精度。该装置设计导流结构引导气流分散,气流并不直接作用在铰链上,使气流对掩模版的影响在一定时间内衰减,降低掩模版受气流产生的流致振动。

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