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公开(公告)号：CN119468065A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202510034894.4
申请日：2025-01-09
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本公开提供了一种高速高精度气压控制系统及控制方法，该高速高精度气压控制系统包括：气源（1）；至少两条供气通路，供气通路之间并联，每条供气通路沿气路依次包括：压力控制器（3），包括比例溢流阀（31），用于控制相应供气通路的气压；储气装置（4），用于储气以预调相应供气通路的气压；调控电磁阀岛（5），包括至少一路电磁阀（51），用于向填充腔室（6）注入气体以调控填充腔室（6）的气压；填充腔室（6）；压力传感器（7），用于向压力控制器（3）反馈填充腔室（6）的气压。本公开的气压控制系统在压力控制器之后设置储气装置进行增流，结合优化控制策略开启调控电磁阀岛，可以实现高精度、高速、高稳定的气压调控。
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公开(公告)号：CN117233910A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311289058.8
申请日：2023-10-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B7/00
Abstract: 本公开提供了一种横向形变调控系统，可以应用于微纳技术领域。该系统包括：探测器采集待调控的光学元件的指定区域的横向形变数据，控制系统根据横向形变数据，利用调控算法向控制器发送驱动电压控制指令，控制器执行驱动电压控制指令，调控调控单元的驱动电压，调控单元包括依次设置的安装板、至少一个驱动模块和吸盘，吸盘包括两个相对的吸面，一个吸面上设置至少一个驱动模块，另一个吸面上贴附待调控的光学元件，驱动模块在驱动电压的作用下自身产生纵向形变，并使贴附在吸盘上的待调控的光学元件发生横向形变。改变横向调节横向形变的传统思维，从吸盘另一吸面也即背面入手，通过纵向形变调控横向形变，自动化的实现掩模横向形变调控。
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公开(公告)号：CN115959479A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202310089780.0
申请日：2023-02-09
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B65G47/91
Abstract: 本公开提供一种吸盘气道的设计方法、吸盘和设计装置，设计方法包括：在吸盘的吸附面上离散设置M个孔；从M个孔中随机选择N个孔加载真空，将压强载荷几何映射到样品上，其他孔合并为吸附面，计算组样品最大形变量与最小形变量间的形变量差值；分别计算N＝1～M时，样品的形变量差值；对形变量差值从小到大排序，统计前P％形变量差值中孔被选用的频次，选用频次最高的前Q个孔之间的吸附面加工为吸盘气道。该设计方法可以高效率、自动化的挑选出对样品吸附面形影响小的孔，降低吸盘吸附样品后，吸附力对样品面形的影响；并且该设计方法适用于不同形状、尺寸、材质和重量的样品，通用性强。
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公开(公告)号：CN115877670A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211715722.6
申请日：2022-12-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开提供了一种图案形成装置的热控方法，包括：S1，开启补偿照明，将图案形成装置加热至热平衡温度区间后，关闭补偿照明；补偿照明的照明区域面积为SC1×C2；S2，开启第一检测照明，检测步骤完成后关闭第一检测照明；第一检测照明的照明区域面积为SD1×D2；S3，开启曝光照明，曝光步骤完成后关闭曝光照明；曝光照明的照明区域面积为SE1×E2；其中，SC1×C2≥SD1×D2≥SE1×E2；S1、S2和S3在相互切换过程中，图案形成装置温度维持在热平衡温度区间；在热平衡温度区间内，补偿照明区域边缘Z向形变量ΔΔZC1×C2大于等于图案形成装置中心Z向的形变量ΔZ的50％。本公开通过引入补偿照明，实现图案形成装置长时间维持热平衡，使得图案形成装置的图形能维持稳定的变形。
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