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公开(公告)号：CN119628510A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411846507.9
申请日：2024-12-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所 , 电子科技大学
Abstract: 一种基于改进sigmoid函数的闭环控制器和控制方法，该控制器的输入为误差。该控制器可用于替换传统电机三闭环控制中的位置环和速度环。位置环控制器输入为控制机构当前位置误差，控制器根据机构的最大速度和位置误差计算输出，输出为下一时刻速度环的参考速度。速度环控制器输入为速度误差，控制器根据机构的最大电流和速度误差计算输出，速度环输出为下一时刻的参考电流。该方法相比于传统的比例微分积分(PID)控制器，仅需调整一个参数，且调节参数可以根据实际控制需求计算出来，调整参数更简单，简单有效，同时稳态精度更高，该控制器适用于对运动精度和稳定性有较高要求的场合，在光电望远镜高精度机构控制运用中取得了良好效果。
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公开(公告)号：CN104319615B
公开(公告)日：2017-12-26
申请号：CN201410607020.5
申请日：2014-11-02
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
CPC classification number: H01S3/0817 , H01S3/0057 , H01S3/0813 , H01S3/225
Abstract: 本发明公开了一种基于双分束元件的准分子激光脉冲展宽装置，包括指向相同的两个分束元件和一个基于两个或者多个球面反射镜的共焦谐振腔。第一个分束元件将入射激光束分为两束，一束光进入共焦谐振腔，产生一定的光学延迟后入射到第二个分束元件，另一束光直接入射到第二个分束元件。第二个分束元件将每一束入射光束进一步分为两束，其中一束光进入光学谐振腔并产生一定的光学延迟后回到第一个分束元件进一步分束，另一束与其他被分束元件分光后直接输出或者经共焦谐振腔光学延迟后输出的光束合并，形成输出光束。本发明能有效提高脉冲展宽效率，降低展宽后输出激光束的峰值功率，提高准分子激光光学系统中光学元件的使用寿命。
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公开(公告)号：CN103471815B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201310413019.4
申请日：2013-09-11
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种同时测量高反镜对S和P偏振光反射率的方法，将光强周期性调制的连续激光注入稳定初始谐振腔，由探测器探测衰荡信号，通过双指数拟合得到初始谐振腔内S和P偏振光的衰荡时间τ0S和τ0P，计算得到腔镜S和P偏振光的平均反射率R0S和R0P；同样，在初始光学谐振腔两腔镜间根据使用角度放入待测高反镜构成测试光学谐振腔，得到测试腔S和P偏振光的衰荡时间τ1S和τ1P，计算出待测高反镜对S和P偏振光的反射率RXS和RXP。本发明优点：避免了以往测量高反镜反射率未区分S和P偏振态所引起的误差，可以应用任意偏振特性的激光器测量待测高反镜对S和P偏振光的反射率，可以不用起偏器，测量装置简单，测量精度高。
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公开(公告)号：CN105132881A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201510568233.6
申请日：2015-09-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 本发明公开了一种用于大口径曲率半径比透镜的光学薄膜膜系设计方法，为优化光学系统的性能，需要在大口径曲率半径比的透镜上制备光谱性能一致性良好的光学薄膜，为此需要全局优化光学薄膜膜系设计。本发明首先通过实验或者理论分析确定大口径曲率半径比的透镜上光学薄膜厚度分布。其次，按照大口径曲率半径比透镜上各个位置处光线入射角以及光谱性能要求，采用数值计算方法全局优化光学薄膜膜系设计。与传统的光学薄膜膜系设计方法相比，本发明同时兼顾了大口径曲率半径比透镜上薄膜厚度和光线入射角，特别适用于各种尺寸的大口径曲率半径比的透镜上光学薄膜膜系设计。
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公开(公告)号：CN102817007B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210321488.9
申请日：2012-09-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种提高大口径球面光学元件深紫外增透膜透射率均匀性的方法，通过实验或理论方法，获得高真空镀膜机中大口径球面光学元件单层膜厚度均匀性修正挡板形状；利用修正挡板修正增透膜中每一层薄膜厚度均匀性，在球面光学元件上按照膜系设计要求沉积厚度均匀分布的高、低折射率介质层制备增透膜；通过在干燥大气环境中利用紫外光辐照大口径球面光学元件，获得透射率均匀分布的增透膜。本发明可以提高大口径球面光学元件，特别是大口径/曲率半径比球面光学元件表面增透膜及其他膜系透射光谱特征的均匀性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103730386A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201410006809.5
申请日：2014-01-06
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H01L21/66 , H01L21/268
CPC classification number: H01L22/24
Abstract: 本发明涉及一种基于光载流子辐射技术的半导体硅片激光退火在线检测方法，其特征在于：在半导体材料激光退火装置中加入一光学检测系统，以实现对激光退火的实时在线检测。该光学检测系统包含一束光子能量大于本征半导体材料禁带宽度的强度周期性调制的激励光束，以及一光载流子红外辐射信号收集装置。通过与参考样品的光载流子辐射信号数据进行比较，进而实时调整激光退火参数，实现预期退火效果，提高半导体材料的退火效率。
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公开(公告)号：CN102776484B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201210214689.9
申请日：2012-06-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在平面光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到平面光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性，在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜机行星系统中平面光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后平面光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求，获得最优的挡板设计。本发明能实现平面光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
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公开(公告)号：CN103454074A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310400355.5
申请日：2013-09-05
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种小孔径高反镜反射率测量方法，将光强周期性调制的连续激光注入稳定初始谐振腔，在适当位置加上一定尺寸的小孔，由探测器探测衰荡信号，得到初始谐振腔内激光的衰荡时间τ0，算出平均反射率R0；同样，在初始光学谐振腔内根据使用角度加入待测高反射镜构成测试光学谐振腔，得到测试腔的衰荡时间τ1，算出待测高反射镜的反射率R1。本发明优点：可以应用光斑尺寸很大的激光光源测量小孔径高反镜反射率，不需要光束整形系统，简化了实验装置。
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公开(公告)号：CN102776484A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201210214689.9
申请日：2012-06-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在平面光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到平面光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性，在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜机行星系统中平面光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后平面光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求，获得最优的挡板设计。本发明能实现平面光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
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公开(公告)号：CN102749786A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210237128.0
申请日：2012-07-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种转盘式机械快门同步时序控制方法，通过转盘式机械快门电信号控制信号发生器产生一定延时的激光器触发信号，实现激光器脉冲与转盘通光时间的完全同步。主要应用在高重复频率激光器单脉冲选取，使经过机械快门后的激光频率降低，在激光器光谱及光束特性测试等领域，消除了由于多脉冲叠加对测试结果的影响。本发明在同步时序控制方法设计过程中考虑了激光光斑尺寸，使经过机械快门后的激光光束特性不发生改变，另外本发明也可以根据需要对快门后的激光频率与脉冲分布形式进行调节，实现给定脉冲数的选取。
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