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公开(公告)号：CN109136840A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201810882848.X
申请日：2018-08-06
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种真空紫外铝反射镜的制备方法，属于光学薄膜技术领域，主要针对真空紫外铝反射镜中影响铝反射镜光学性能的关键因素——铝膜氧化以及介质保护层的结构缺陷和吸收损耗，采用物理气相沉积技术镀制铝膜，然后快速沉积保护层1，接着对沉积的前两层薄膜进行氟化处理，最后完成保护层2沉积。相对于传统的铝反射镜制备方法，本发明能很好地减小铝膜氧化和介质层的吸收损耗对真空紫外铝反射镜光学性能的影响，同时提高保护层的结构致密性，增强真空紫外铝反射镜的环境稳定性。本发明具有针对性强、品质高和简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN104233212B
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201410479889.6
申请日：2014-09-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种行星转动镀膜机上薄膜厚度直接光控的安装方法，通过研究行星转动夹具上镀膜元件的运动规律，设计专用圆环形直接光控测试片和镀膜夹具；在镀膜机中优化光源和光收集聚焦透镜的位置，并通过控制背景噪声、光强度以及信号测量位置，获得随薄膜厚度变化的光学信号，并据此计算实际沉积的膜层厚度。本发明可以实现镀膜机行星转动夹具上平面或者球面镜片上薄膜厚度的直接光学控制，提高行星转动镀膜机薄膜厚度控制的准确度以及复杂膜系的镀膜效率。
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公开(公告)号：CN104233212A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410479889.6
申请日：2014-09-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种行星转动镀膜机上薄膜厚度直接光控的安装方法，通过研究行星转动夹具上镀膜元件的运动规律，设计专用圆环形直接光控测试片和镀膜夹具；在镀膜机中优化光源和光收集聚焦透镜的位置，并通过控制背景噪声、光强度以及信号测量位置，获得随薄膜厚度变化的光学信号，并据此计算实际沉积的膜层厚度。本发明可以实现镀膜机行星转动夹具上平面或者球面镜片上薄膜厚度的直接光学控制，提高行星转动镀膜机薄膜厚度控制的准确度以及复杂膜系的镀膜效率。
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公开(公告)号：CN102732844A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210241071.1
申请日：2012-07-12
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/24
Abstract: 一种真空镀膜机行星转动夹具上球面光学元件镀膜均匀性修正挡板的设计方法，通过建立真空环境中的镀膜模型，研究行星转动夹具上平面或球面光学元件镀膜后薄膜厚度分布。通过将行星转动夹具中光学元件的镀膜过程等效成简单转动夹具中的镀膜过程，设计行星转动夹具中镀膜均匀性修正挡板的初始形状。利用计算机优化修正挡板弧长放大倍数直至薄膜厚度均匀性达到最优结果，获得球面光学元件薄膜厚度均匀性修正挡板的实际形状。本发明可以实现大口径、大口径/曲率半径比的球面光学元件薄膜厚度均匀性的控制，从而获得大口径、大口径/曲率半径比的球面光学元件多层膜光谱特征的均匀性。
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公开(公告)号：CN114114703B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202111507648.4
申请日：2021-12-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种适用于宽角度入射的全介质消偏分光棱镜及其制备方法，其包含两个等腰直角棱镜及胶合其中的全介质混合材料消偏分光膜。入射光在±5°范围内入射胶合后的棱镜，会被分为两束子光束出射，分别为透射光和反射光，两者光强比为50％:50％，每束出射子光束中s向与p向偏振光的光强差值在入射光光强的±3％以内。全介质混合材料消偏分光膜由具有高、中、低三种折射率的膜材按照一定顺序依次交替镀制而成，其中，中间折射率膜材可能并不存在于现有种类的膜材中。本发明通过混合共溅射方式突破材料折射率范围的限制，极大地增强了基板、入射角和工作波长以及膜层材料的可选性，使本发明所述的消偏棱镜的应用场景更加广泛。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114114703A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111507648.4
申请日：2021-12-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种适用于宽角度入射的全介质消偏分光棱镜及其制备方法，其包含两个等腰直角棱镜及胶合其中的全介质混合材料消偏分光膜。入射光在±5°范围内入射胶合后的棱镜，会被分为两束子光束出射，分别为透射光和反射光，两者光强比为50％:50％，每束出射子光束中s向与p向偏振光的光强差值在入射光光强的±3％以内。全介质混合材料消偏分光膜由具有高、中、低三种折射率的膜材按照一定顺序依次交替镀制而成，其中，中间折射率膜材可能并不存在于现有种类的膜材中。本发明通过混合共溅射方式突破材料折射率范围的限制，极大地增强了基板、入射角和工作波长以及膜层材料的可选性，使本发明所述的消偏棱镜的应用场景更加广泛。
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公开(公告)号：CN109023254A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201810928127.8
申请日：2018-08-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于大口径光学薄膜元件制备的真空镀膜机，属于薄膜光学领域，与常规真空镀膜机相比，除了装配真空模块、蒸发源模块、薄膜厚度/速度监控模块和温度控制模块以外，还配置了特殊设计的行星旋转夹具模块，其特征在于行星旋转夹具的公转半径可调，能够实现尺寸大于真空镀膜室半径的大口径光学薄膜元件制备。另外，通过在蒸发源模块和大口径光学薄膜元件间配置修正挡板模块，实现真空镀膜过程中大口径光学薄膜元件上薄膜厚度分布优化。本发明公开的真空镀膜机特别适用于尺寸大于真空镀膜室半径的大口径光学薄膜元件制备，这是常规真空镀膜机不能实现的。
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公开(公告)号：CN102953041B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201210407852.3
申请日：2012-10-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 一种用于镀膜机行星系统中控制球形光学元件膜厚分布的挡板设计方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在球形光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到球形光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性，在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜机行星系统中球形光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后球形光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求，获得最优的挡板设计。与传统的挡板设计方法相比较，本发明使用计算机优化挡板设计能实现球形光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
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公开(公告)号：CN102953041A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210407852.3
申请日：2012-10-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/54
Abstract: 一种用于镀膜机行星系统中控制球形光学元件膜厚分布的挡板设计方法，真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在球形光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到球形光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性，在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜机行星系统中球形光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后球形光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求，获得最优的挡板设计。与传统的挡板设计方法相比较，本发明使用计算机优化挡板设计能实现球形光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。
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公开(公告)号：CN111500985B
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202010422923.1
申请日：2020-05-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种用于低应力全介质光学薄膜的制备方法，属于真空镀膜技术领域，主要针对全介质光学薄膜中限制薄膜机械特性进而影响光学系统的光束传输和成像质量的关键因素——应力，采用高能辅助沉积技术，通过优化光学薄膜制备工艺参数，实现总应力小于2MPa的全介质光学薄膜制备。相对于传统的镀膜前光学元件镀膜面预加工、镀膜后光学元件背面拉面形，或者高温退火后处理等技术，本发明操作流程简单、执行成本低，适用于各种材质、尺寸和形状的光学元件低应力全介质光学薄膜制备。
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