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公开(公告)号：CN113376716B
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202110687482.2
申请日：2021-06-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B1/115 , C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开了一种衍射光学器件表面增透膜的镀膜方法，通过优化原子层沉积镀膜参数，获得衍射光学器件微结构表面共形生长的膜层镀膜工艺；以优化的镀膜参数，在光学抛光的测试基板上分别镀制高折射率膜层和低折射率膜层，利用椭圆偏振光谱方法确定膜层的光学常数和厚度，确定膜层厚度和原子层沉积镀膜周期的关系；根据膜层的光学常数设计增透膜，计算增透膜中每个膜层的原子层沉积镀膜周期数；根据增透膜的结构优化设计衍射光学器件微结构，并制备衍射光学器件基板；按照增透膜中膜层从基板到空气的排列顺序，依次在衍射光学器件表面镀制各个膜层，制备增透膜。本发明提出的镀膜方法，可以有效提高衍射光学器件的光学透过率。
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公开(公告)号：CN113403601B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202110685733.3
申请日：2021-06-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种镀膜厚度光学控制装置和方法，所述的装置包括一个及以上不同波长的激光器、用于不同波长激光分束和合束的分光光学元件、散射板、驱动电机、透镜、多模光纤、光功率计、光控测试片、以及镀膜夹具。激光经过受驱动电机驱动而旋转的散射板转化为准相干光，准相干光经透镜聚焦进入多模光纤，传输至镀膜机，并经透镜准直后入射至光控测试片，透射光经透镜聚焦后进入第二多模光纤，在光纤出口经准直和分光，利用光功率计分别测量不同波长的出射光的功率，监控光控测试片上不同波长光的透射率，实现镀膜厚度的控制。薄膜厚度光学控制装置具有结构简单，安装方便，监控光源线宽窄的特征，可实现高精度光学薄膜镀膜过程的厚度控制。
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公开(公告)号：CN102732844B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210241071.1
申请日：2012-07-12
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/24
Abstract: 一种真空镀膜机行星转动夹具上球面光学元件镀膜均匀性修正挡板的设计方法，通过建立真空环境中的镀膜模型，研究行星转动夹具上平面或球面光学元件镀膜后薄膜厚度分布。通过将行星转动夹具中光学元件的镀膜过程等效成简单转动夹具中的镀膜过程，设计行星转动夹具中镀膜均匀性修正挡板的初始形状。利用计算机优化修正挡板弧长放大倍数直至薄膜厚度均匀性达到最优结果，获得球面光学元件薄膜厚度均匀性修正挡板的实际形状。本发明可以实现大口径、大口径/曲率半径比的球面光学元件薄膜厚度均匀性的控制，从而获得大口径、大口径/曲率半径比的球面光学元件多层膜光谱特征的均匀性。
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公开(公告)号：CN112430805B
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202011320038.9
申请日：2020-11-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开了一种原子层沉积镀膜机的真空控制系统，涉及真空镀膜技术领域，该真空控制系统包括通过管道依次连接的A热阱、镀膜真空室、A控制组件、B热阱、B控制组件、分子泵，A热阱和分子泵均连接有前级真空泵；在所述A热阱与镀膜真空室之间设置有A阀门。本发明的真空控制系统和对应的控制方法一方面能够有效地提高原子层沉积镀膜机的本底真空度和镀膜真空度，从而减少残余物理吸附气体分子对原子层沉积薄膜性质的影响，另一方面通过B热阱、A控制组件以及前级真空泵的配合，使分子泵仅用于获得本底真空，从而提高分子泵的使用效率和使用寿命。
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公开(公告)号：CN110846634A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201911161603.9
申请日：2019-11-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/50 , C23C16/458
Abstract: 本发明涉及一种行星转动装置及能实现大批量生产的镀膜设备，其中，所述行星转动装置包括多个工件吊盘和第一传动机构，各工件吊盘分别与所述第一传动机构相连，所述第一传动机构用于驱动各工件吊盘同步自转。本发明所提供的行星转动装置，结构紧凑，各工件吊盘同步自转和公转，从而有效优化球面光学元件表面膜层均匀性，镀制的球面光学元件表面薄膜呈中心对称分布；多个工件吊盘，可以同时镀制多个球面光学元件镜坯，有效提高镀膜效率。所述的行星转动装置及镀膜设备尤其适用于小口径球面元件大批量、高薄膜厚度均匀性分布的镀膜领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104233212B
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201410479889.6
申请日：2014-09-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种行星转动镀膜机上薄膜厚度直接光控的安装方法，通过研究行星转动夹具上镀膜元件的运动规律，设计专用圆环形直接光控测试片和镀膜夹具；在镀膜机中优化光源和光收集聚焦透镜的位置，并通过控制背景噪声、光强度以及信号测量位置，获得随薄膜厚度变化的光学信号，并据此计算实际沉积的膜层厚度。本发明可以实现镀膜机行星转动夹具上平面或者球面镜片上薄膜厚度的直接光学控制，提高行星转动镀膜机薄膜厚度控制的准确度以及复杂膜系的镀膜效率。
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公开(公告)号：CN104233212A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410479889.6
申请日：2014-09-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种行星转动镀膜机上薄膜厚度直接光控的安装方法，通过研究行星转动夹具上镀膜元件的运动规律，设计专用圆环形直接光控测试片和镀膜夹具；在镀膜机中优化光源和光收集聚焦透镜的位置，并通过控制背景噪声、光强度以及信号测量位置，获得随薄膜厚度变化的光学信号，并据此计算实际沉积的膜层厚度。本发明可以实现镀膜机行星转动夹具上平面或者球面镜片上薄膜厚度的直接光学控制，提高行星转动镀膜机薄膜厚度控制的准确度以及复杂膜系的镀膜效率。
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公开(公告)号：CN102732844A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210241071.1
申请日：2012-07-12
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: C23C14/24
Abstract: 一种真空镀膜机行星转动夹具上球面光学元件镀膜均匀性修正挡板的设计方法，通过建立真空环境中的镀膜模型，研究行星转动夹具上平面或球面光学元件镀膜后薄膜厚度分布。通过将行星转动夹具中光学元件的镀膜过程等效成简单转动夹具中的镀膜过程，设计行星转动夹具中镀膜均匀性修正挡板的初始形状。利用计算机优化修正挡板弧长放大倍数直至薄膜厚度均匀性达到最优结果，获得球面光学元件薄膜厚度均匀性修正挡板的实际形状。本发明可以实现大口径、大口径/曲率半径比的球面光学元件薄膜厚度均匀性的控制，从而获得大口径、大口径/曲率半径比的球面光学元件多层膜光谱特征的均匀性。
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公开(公告)号：CN112881341A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202110056243.7
申请日：2021-01-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种确定有机薄膜光学常数和厚度的方法。所述方法的实现过程如下：在光学抛光的透明平面基板的一个表面制备有机薄膜，利用分光光度计测量基板表面有机薄膜的透射率光谱曲线和反射率光谱曲线；确定测量波长范围内有机薄膜的折射率和消光系数的色散模型，以色散模型中的常数、折射率非均匀性、有机薄膜的厚度、单色仪的狭缝宽度等作为参数，对测量光谱进行多参数拟合，确定薄膜的折射率和消光系数。本发明公开的一种确定有机薄膜的光学常数和厚度的方法，通过将单色仪的狭缝宽度等参数引入多参数拟合测量光谱的过程，实现了利用分光光度精确测量有机薄膜的光学参数的方法。
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公开(公告)号：CN102817007B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210321488.9
申请日：2012-09-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 一种提高大口径球面光学元件深紫外增透膜透射率均匀性的方法，通过实验或理论方法，获得高真空镀膜机中大口径球面光学元件单层膜厚度均匀性修正挡板形状；利用修正挡板修正增透膜中每一层薄膜厚度均匀性，在球面光学元件上按照膜系设计要求沉积厚度均匀分布的高、低折射率介质层制备增透膜；通过在干燥大气环境中利用紫外光辐照大口径球面光学元件，获得透射率均匀分布的增透膜。本发明可以提高大口径球面光学元件，特别是大口径/曲率半径比球面光学元件表面增透膜及其他膜系透射光谱特征的均匀性。
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