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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115781517B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202211641376.1
申请日：2022-12-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法。所述控制装置包括柔性铰链、微动板、力传感器、力驱动器、测距仪和固定板。微动板为可运动件，通过柔性铰链与固定板相连，此外，微动板还可通过力传感器和力驱动器与固定板相连；力传感器测量力驱动器施加于微动板上的力载荷；测距仪测量测距仪距微动板的距离。所述装置及算法可实时计算和控制弹性发射加工中的抛光压力，使加工过程中抛光压力满足预期要求。此外，本发明所提出的控制装置，可在抛光液液面之上工作，不受抛光液影响。
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公开(公告)号：CN117444315A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311583096.4
申请日：2023-11-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于回转轴上球缺的在线二次非插补加工装置及方法，包括刀具回转半径测量标定装置和修切装置，首先通过刀具回转半径测量标定装置对修切刀具的修切半径进行准确标定，然后将刀具修切半径调节至加工件待加工半径，利用修切电机旋转进而带动修切刀具沿以待加工半径圆周切线方向为运动路径加工，从而实现加工件的在线二次非插补的修整。本发明结构简单，稳定性强，能够解决车床由于插补运动导致加工表面产生波纹以及需要离线加工的问题，可适用于包括但不限于球、球缺、球冠形轮等零件的在线二次非插补加工。
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公开(公告)号：CN116372675A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310442146.0
申请日：2023-04-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种非接触式抛光中恒力控制及间隙调整装置及方法，包括工件台、压力传感器、位移传感器、底座、微位移平台、加工头和加工件。通过压力传感器和位移传感器进行复合感知测量，加工头在静止状态时能够对加工件进行接触式传感来精准快速调控加工间隙；在加工头旋转加工时，压力传感器和位移传感器能够复合感知抛光压力和由于压力引起传感器变形产生的微位移，与初始值作对比，再通过微位移平台运动实现恒力控制。本发明解决了加工间隙无法快速精准调控，加工过程中抛光压力由于间隙变化无法实时监控与调整的问题。
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公开(公告)号：CN115781517A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211641376.1
申请日：2022-12-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法。所述控制装置包括柔性铰链、微动板、力传感器、力驱动器、测距仪和固定板。微动板为可运动件，通过柔性铰链与固定板相连，此外，微动板还可通过力传感器和力驱动器与固定板相连；力传感器测量力驱动器施加于微动板上的力载荷；测距仪测量测距仪距微动板的距离。所述装置及算法可实时计算和控制弹性发射加工中的抛光压力，使加工过程中抛光压力满足预期要求。此外，本发明所提出的控制装置，可在抛光液液面之上工作，不受抛光液影响。
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公开(公告)号：CN118123726A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410481720.8
申请日：2024-04-22
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24C9/00
Abstract: 本发明公开了一种基于多能场的磨料循环系统，包括抛光液储存装置，抛光液储存装置连接在抛光颗粒分散装置上；抛光液储存装置通过抛光液循环装置连接有加工区；抛光液储存装置底部连接有在线检测装置和工艺控制装置。首先利用抛光颗粒分散装置将团聚的大颗粒分散，然后通过抛光液循环装置将处理后的抛光液送入加工区中，通过气罐向抛光液储存装置内充入氮气对抛光液中的氧气进行置换以及进行气氛保护，从而解决抛光颗粒团聚以及光学元件在加工过程中表面破坏性氧化的问题。该系统结构简单，集成度高，适用于各种磨粒流抛光。
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