公开(公告)号：CN116372675A

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN202310442146.0

申请日：2023-04-23

Applicant: 中国科学院光电技术研究所

Inventor： 翟嘉 ,  张翅翔 ,  侯溪 ,  崔力娜 ,  杨娇 ,  杨旭宁 ,  孟禹彤 ,  余慕欣 ,  赵文川

IPC: B24B1/00 ,  B24B41/04 ,  B24B49/00 ,  B24B47/22 ,  B24B29/00

Abstract: 本发明公开了一种非接触式抛光中恒力控制及间隙调整装置及方法，包括工件台、压力传感器、位移传感器、底座、微位移平台、加工头和加工件。通过压力传感器和位移传感器进行复合感知测量，加工头在静止状态时能够对加工件进行接触式传感来精准快速调控加工间隙；在加工头旋转加工时，压力传感器和位移传感器能够复合感知抛光压力和由于压力引起传感器变形产生的微位移，与初始值作对比，再通过微位移平台运动实现恒力控制。本发明解决了加工间隙无法快速精准调控，加工过程中抛光压力由于间隙变化无法实时监控与调整的问题。