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公开(公告)号：CN111993215B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202010828908.7
申请日：2020-08-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种用于大口径光学元件加工的可变形柔性抛光工具，包括抛光垫、支撑板、轴向连接件、弹性挡圈、滚珠花键轴、滚珠花键轴套、连接柄、筒夹螺帽、连接盘、盖板、连接销钉、球头连接件、轴端连接销钉、限位销钉、弹簧筒夹以及若干弹性浮动单元等，弹性浮动单元由浮动盘、浮动盘盖板、滑动轴、轴套、限位筒、连接圆盘和精密压缩弹簧构成。支撑板上均匀布置若干独立的弹性浮动单元，每个弹性浮动单元内部设置有一定刚度系数的精密压缩弹簧，可以根据施加压力进行更换调节变形量，以适应光学零件表面局部矢高变化。弹性浮动单元底面将整体粘接一层分块的抛光垫，用于光学零件表面加工，提升了加工精度和表面质量。
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公开(公告)号：CN112157526A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202011041500.1
申请日：2020-09-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种平转动抛光装置，用于精密光学抛光平滑加工，包括：抛光盘、抛光盘盖板、磨盘连接件、下平动板、下层滑块、下层导轨、上平动板、上层滑块、上层导轨、上连接板、偏心调整圆盘、传动主轴、支撑架底板、支撑架侧板、支撑架背板、电机减速器、驱动电机、球铰座、球铰、球铰座盖板、传递轴以及轴端盖板。抛光装置由上下布置的两层相互垂直的平行导轨构成运动副，传动主轴驱动偏心调整圆盘转动，同时通过传动轴带动下平动板发生平转动运动，使与之相连的抛光盘发生平转动运动。采用设置有不同偏心距的偏心调整圆盘用于调整偏心，结构可靠能够实现高速平转动运动。
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公开(公告)号：CN109822423A
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201910131904.0
申请日：2019-02-22
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/005 , B24B13/00 , B24B49/16 , B24B55/00 , B24B49/00
Abstract: 本发明公开了一种底面驱动预应力加工支撑系统，属于先进光学制造领域，适用于大口径弯月型离轴非球面反射镜的精密加工，该系统由面形检测装置、待加工反射镜、力促动器、定位支撑、柔性侧支撑、计算机和基座构成。受到轴向刚度限制，目前常用的边缘驱动预应力加工装置无法在球面研磨、抛光过程中保持预设的变形，从而无法实现预定的材料去除，严重影响了预应力加工技术的加工精度。本发明公开的预应力加工支撑系统采用底面驱动的结构形式，在完成预设变形后，将支撑装置在轴向进行锁紧，能够有效保证支撑装置的轴向刚度和预设变形的稳定性，提高预应力加工技术的加工精度。
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公开(公告)号：CN102944194A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201210475654.0
申请日：2012-11-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种高精度高次非球面透镜偏心测定系统及方法，包括相移干涉仪、干涉仪调整架、被测非球面透镜、透镜支架、透镜调整架、对心器、精密旋转轴系、对心器调整架、直线导轨及计算机系统，被测非球面透镜固定在透镜支架上，支架固定在透镜调整架上，透镜调整架放置在直线导轨上；对心器固定在精密旋转轴系上，精密旋转轴系安装在对心器调整架上并放置在直线导轨上；相移干涉仪放置在干涉仪调整架上并固定在直线导轨中间，用干涉仪测得被测非球面透镜上非球面的面形数据，从面形数据中提取出多个同心圆形环带上的数据，根据各环带面形数据的最大、最小值以及相应的相位信息计算出该非球面的顶点位置，进而可以算出该非球面透镜的偏心大小。
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公开(公告)号：CN112171433B
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202011039896.6
申请日：2020-09-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种自平衡重力的抛光工具，包括：安装底板、侧支撑板、导轨基座、滑轮底座、滑轮、钢绳、滑轮轴、钢绳连接座、限位块、工具滑板、前滑板交叉滚柱导轨、前基座交叉滚柱导轨、后基座交叉滚柱导轨、后滑板交叉滚柱导轨、配重滑板、配重块、抛光工具轴以及抛光头。安装底板上的侧支撑板将导轨基座固定支撑在其上方。导轨基座用于连接工具滑板和配重滑板，两者通过交叉滚柱直线导轨副分别安装在导轨基座的前后两面，工具滑板和配重滑板通过由滑轮支撑的钢绳来连接，实现工具滑板和配重滑板的同步运动，工具滑板表面上安装抛光工具，配重滑块上安装配重块，配重块匹配抛光工具的重量，从而实现抛光工具自重力平衡。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112484640B
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202011324515.9
申请日：2020-11-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/00 , B24B31/112 , B24B31/12
Abstract: 本发明公开了一种基于跟踪仪的机器人用磁流变抛光工具头定标装置与方法，包括机器人本体，磁流变抛光工具头和定标装置。定标装置包括定标工具座、圆柱形的定标转换头，以及激光跟踪仪靶球。常规机器人定标工具和方法难以满足磁流变抛光工具头的定标需求的问题，本发明针对上述问题和需求而发明的定标装置和定标方法，可实现磁流变抛光工具头坐标系与机器人坐标系的统一。本发明的定标装置借助磁流变抛光工具头本身的磁场进行安装，安装方便快捷，且工具头坐标系与定标装置坐标系相对关系简单，坐标系标定迅速，并能确定抛光工具头的去除函数方向，可满足用于机器人的磁流变抛光工具头定标需求。
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公开(公告)号：CN111958394B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202010828755.6
申请日：2020-08-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于抛光的精密力位控制装置，包括安装底板、导轨底座、交叉滚柱导轨、滑板、光栅、光栅读数头、读数头座、角度传感器、音圈电机磁钢、磁钢底座、音圈电机线圈、压力传感器底座、抛光力传感器、称重传感器、称重传感器底座、测力传感器底座、测力传感器、球铰连接件、电缸滑杆、电缸缸体、制动片以及制动卡钳。该装置设计为纵向使用，具备自重称重功能、平衡自身重量功能、运动位移速度测量功能、压力精密输出功能、抛光压力检测反馈功能、位置闭环功能、姿态监测功能以及快速制动功能等。该装置能够不仅可以输出稳定的抛光压力，还能实现位置闭环控制，以及压力和位置控制的任意切换，有利于提高精密光学加工零件的面形精度。
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公开(公告)号：CN113113283A
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN202110376609.9
申请日：2021-04-08
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基于进气分布控制的等离子体密度分布调控方法，利用对等离子体放电密度分布的实时监测反馈，对进气气流分布进行即时调控，从而调控等离子体密度分布乃至等离子体放电状态。该发明可以实时、精确调控等离子体放电状态，获得需要的等离子体密度分布，或者基于闭环控制维持稳定的等离子体放电状态。调控原理简单，易于实现，适用于半导体行业等离子体均匀去除或者光学加工领域的等离子体稳定去除工艺。
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公开(公告)号：CN110732932B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201911009192.1
申请日：2019-10-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/00 , B24B37/005 , B24B37/11 , B24B37/27
Abstract: 本发明公开一种大口径整体式光学元件多机器人精密加工系统及方法，包括机器人加工系统部分和模块化的加工工具。模块化的加工工具包括研磨盘加工模块，抛光液供给回收工具头模块和磁流变抛光工具头模块。本发明采用成本低廉，但灵活智能的机器人进行加工，通过多台机器人协同加工的方式，实现对各种曲率的大口径整体式光学元件加工的同时，极大提高了光学元件的制造效率。高度集成的模块化工具头，使该加工系统可对大口径整体式光学元件进行研磨修形、抛光修形和精密抛光修形的加工工艺，一套系统完成了整套光学加工工序，大大节省了大口径光学元件的制造成本和周期。
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公开(公告)号：CN110732932A
公开(公告)日：2020-01-31
申请号：CN201911009192.1
申请日：2019-10-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B24B13/00 , B24B37/005 , B24B37/11 , B24B37/27
Abstract: 本发明公开一种大口径整体式光学元件多机器人精密加工系统及方法，包括机器人加工系统部分和模块化的加工工具。模块化的加工工具包括研磨盘加工模块，抛光液供给回收工具头模块和磁流变抛光工具头模块。本发明采用成本低廉，但灵活智能的机器人进行加工，通过多台机器人协同加工的方式，实现对各种曲率的大口径整体式光学元件加工的同时，极大提高了光学元件的制造效率。高度集成的模块化工具头，使该加工系统可对大口径整体式光学元件进行研磨修形、抛光修形和精密抛光修形的加工工艺，一套系统完成了整套光学加工工序，大大节省了大口径光学元件的制造成本和周期。
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