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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106803892A
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201710148060.1
申请日：2017-03-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H04N5/232
Abstract: 本发明公开了一种基于光场测量的光场高清晰成像方法，首先，计算出光场相机子孔径图像的位移，再平移子孔径图像对此位移进行补偿，通过恢复子孔径图像的对称性实现对大气湍流等像差的校正，最后再对对称的子孔径图像进行数字重聚焦实现高清晰成像，从而提高光场相机在受到大气湍流等像差影响时的成像分辨率。本发明是通过对光场相机自身记录的光线信息进行处理，最终达到高清晰成像的目的，没有添加其它的硬件设备，理论上可以克服所有破坏子孔径图像对称性的像差的影响。本发明简单易行，成本低，具有较广泛的适用范围。
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公开(公告)号：CN107728314A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710704432.4
申请日：2017-08-17
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B26/08
Abstract: 本发明公开了一种基于旋转双闪耀光栅的阵列光束偏转的方法，采用多个旋转双闪耀光栅构成阵列，每一个旋转双闪耀光栅根据两闪耀光栅的绕轴独立旋转来控制其中单路激光的定向偏转，通过旋转双闪耀光栅阵列实现阵列激光束的定向偏转控制。在每一个旋转双闪耀光栅控制单路激光定向偏转的过程中，准直激光光源入射到第一块闪耀光栅上，再通过第二块闪耀光栅，两闪耀光栅进行绕轴独立旋转，从而实现出射光束的二维偏转，每单路出射光束的偏转角和方位角可根据两闪耀光栅的旋转角度得出。本方法具有输出光束功率高、光束能量损耗少，偏转精度高、系统体积轻便等特点。
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公开(公告)号：CN106803892B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201710148060.1
申请日：2017-03-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H04N5/232
Abstract: 本发明公开了一种基于光场测量的光场高清晰成像方法，首先，计算出光场相机子孔径图像的位移，再平移子孔径图像对此位移进行补偿，通过恢复子孔径图像的对称性实现对大气湍流等像差的校正，最后再对对称的子孔径图像进行数字重聚焦实现高清晰成像，从而提高光场相机在受到大气湍流等像差影响时的成像分辨率。本发明是通过对光场相机自身记录的光线信息进行处理，最终达到高清晰成像的目的，没有添加其它的硬件设备，理论上可以克服所有破坏子孔径图像对称性的像差的影响。本发明简单易行，成本低，具有较广泛的适用范围。
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公开(公告)号：CN107272774A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710450647.8
申请日：2017-06-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G05D25/02
Abstract: 本发明公开了一种基于旋转双闪耀光栅的二维光束偏转的方法，通过两闪耀光栅的绕轴独立旋转来控制出射光束的二维偏转。在双闪耀光栅的控制二维光束偏转的过程中，准直激光光源入射到第一块闪耀光栅上，再通过第二块闪耀光栅，两闪耀光栅进行绕轴独立旋转，从而实现出射光束的二维偏转，出射光束的偏转角和方位角可根据两闪耀光栅的旋转角度得出。本方法具有系统体积轻便，光束能量损耗少，偏转精度高等特点。
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公开(公告)号：CN107728314B
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201710704432.4
申请日：2017-08-17
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B26/08
Abstract: 本发明公开了一种基于旋转双闪耀光栅的阵列光束偏转的方法，采用多个旋转双闪耀光栅构成阵列，每一个旋转双闪耀光栅根据两闪耀光栅的绕轴独立旋转来控制其中单路激光的定向偏转，通过旋转双闪耀光栅阵列实现阵列激光束的定向偏转控制。在每一个旋转双闪耀光栅控制单路激光定向偏转的过程中，准直激光光源入射到第一块闪耀光栅上，再通过第二块闪耀光栅，两闪耀光栅进行绕轴独立旋转，从而实现出射光束的二维偏转，每单路出射光束的偏转角和方位角可根据两闪耀光栅的旋转角度得出。本方法具有输出光束功率高、光束能量损耗少，偏转精度高、系统体积轻便等特点。
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