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公开(公告)号：CN112266179A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN202011137222.X
申请日：2020-10-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种熔石英玻璃高损伤阈值超光滑表面的加工方法，包括：首先对熔石英玻璃切割成型和精密研磨、兆声化学刻蚀、超声清洗和利用连续CO2激光对熔石英元件进行熔融抛光。本发明可直接对精密研磨后的熔石英玻璃进行高效的加工，获得具有超光滑表面和高抗激光损伤性能的熔石英光学元件。
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公开(公告)号：CN105182459B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201510407906.X
申请日：2015-07-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种米级大口径偏振片全频段面形加工方法，本发明方法通过磁流变抛光与保形光顺抛光结合，可以有效的控制米级大口径偏振片的加工精度，制造出在高功率激光系统中全频段指标达标的米级大口径偏振片元件，透反两面具体指标如下：PV≤λ/3，GRMS≤7nm/cm，PSD1RMS≤1.8nm，PSD2RMS≤1.1nm，表面粗糙度≤1nm。
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公开(公告)号：CN103406834A
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201310309540.3
申请日：2013-07-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B24B57/00
Abstract: 一种磁流变液综合容器罐的内壁保护罩，由中空的长方形筒和平顶盖一体构成，该内壁保护罩的外壁与磁流变液综合容器罐的内壁相适配，所述的平顶盖的周边大于磁流变液综合容器罐的罐口，且平顶盖的中心设有螺旋桨插入口，所述的长方形筒两个相对的面上分别设有磁流变液回收的铜管插入口和去离子水加入的铜管插入口，所述的保护罩由塑料制成。本发明保护罩可以将磁流变液使用寿命延长一周左右，清洗综合容器罐的时间由原来的5-6小时减少至30分钟左右，不仅避免了原来清洗过程中对综合容器罐的损坏，而且大大提高了工作效率。
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公开(公告)号：CN116750980A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310843212.5
申请日：2023-07-10
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种具有光滑表面和高损伤阈值熔石英元件的加工方法，包括：对熔石英坯料的切割、铣磨成型、等离子体深刻蚀、等离子体浅刻蚀和离子束抛光进行后处理抛光。本发明全工艺加工过程采用非接触式加工，基于非接触式的等离子体刻蚀和离子束抛光处理工艺，直接对精密铣磨后的熔石英坯料进行组合加工，获得具有光滑表面和高损伤阈值的熔石英元件。
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公开(公告)号：CN113634883A
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN202110813282.7
申请日：2021-07-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B23K26/12 , B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064 , B23K26/0622 , G01N21/958
Abstract: 一种利用CO2脉冲激光层析烧蚀表征熔石英玻璃元件亚表面缺陷分布的方法，首先确定脉冲CO2激光烧蚀平台的层析分辨率，之后建立脉宽与烧蚀深度间的关系，然后建立不同层析分辨率下烧蚀层数与烧蚀深度的关系，最后选取所需的层析精度并结合在线CCD成像对亚表面缺陷进行成像表征，获得亚表面缺陷深度及亚表面缺陷随深度的演变规律。本发明具有简单、便捷的特点，可对亚表面缺陷深度、形貌和分布进行直接精确表征，层析分辨率可达
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109590820B
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN201910000512.0
申请日：2019-01-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种超硬激光晶体表面粗糙度加工方法，该方法包括研磨、粗抛和精密环抛等步骤。本发明方法通过磨料粒径的检测，严格控制研磨阶段各工序的磨削量，从根本上去除亚表面缺陷；通过加入抛光助剂，使抛光液得到更均匀的分散和润滑，从而有效控制表面/亚表面缺陷的产生，大大提高了超硬激光晶体的表面粗糙度，对于规格为125mm×6mm×6mm及133mm×33mm×3mm的Nd：YAG晶体两个大面粗糙度达到0.3nm。
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公开(公告)号：CN105182459A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201510407906.X
申请日：2015-07-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种米级大口径偏振片全频段面形加工方法，本发明方法通过磁流变抛光与保形光顺抛光结合，可以有效的控制米级大口径偏振片的加工精度，制造出在高功率激光系统中全频段指标达标的米级大口径偏振片元件，透反两面具体指标如下：PV≤λ/3，GRMS≤7nm/cm，PSD1RMS≤1.8nm，PSD2RMS≤1.1nm，表面粗糙度≤1nm。
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公开(公告)号：CN103692294A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310554717.6
申请日：2013-11-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种米量级光学元件的超高精度加工方法，该方法利用环形抛光技术和磁流变抛光技术相结合，通过对不同加工工艺参数的优化组合，实现了对米量级光学元件的超高精度加工，该方法加工出面形精度的PV值达到1/8波长，RMS值达到1/50波长的米量级光学元件。
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