填料装置及其系统
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119608095A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202411858056.0

    申请日:2024-12-17

    Abstract: 本发明是关于一种填料装置及其系统,包括:填料塔本体,塔顶具有气体出口,塔底具有气体入口;散堆填料,填充在填料塔本体的上端,且位于气体出口的下方;规整填料,填充在填料塔本体的下端,且位于气体入口的上方;其中,散堆填料包括第一组散堆填料与第二散堆填料,其中,第一组散堆填料与第二散堆填料的结构相同,第一组散堆填料与第二散堆填料的排序不同。本发明采用的填料装置基于在上部采用散堆填料,下部采用规整填料,采用上述两种填料结合的方式,溶液进入填料塔本体上部后顺着缝隙往下流,碳酸盐在填料塔本体中不容易结晶,填料塔本体中的规整填料又保证了其分离效果,同时有着更小的气阻,改善了填料塔本体的压损。

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