一种防止侧向腐蚀的铜柱凸点结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN119340223A

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202411885232.X

    申请日:2024-12-20

    Abstract: 本发明公开了一种防止侧向腐蚀的铜柱凸点结构及其制作方法,所述方法包括:在晶圆表面沉积金属种子层;在种子层上旋涂光刻胶;进行第一次光刻,将光刻胶图案化形成第一图形;在第一图形区域内生长铜,形成所需高度的铜柱;在铜柱表面生长金属阻挡层,形成所需高度的金属阻挡层;在金属阻挡层表面生长焊料,形成所需高度的焊料;在焊料上旋涂光刻胶;进行第二次光刻,将光刻胶图案化形成第二图形;在铜柱侧面生长金属保护层,形成与阻挡层同等高度的金属保护层;清洗去除光刻胶;蚀刻金属种子层,将金属种子层图案化,形成所需的图形;高温加热使焊料熔化形成光滑凸点后冷却固化。本发明能够避免铜柱凸点结构的侧向腐蚀,提升铜柱凸点互连可靠性。

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