公开(公告)号：CN104011594A

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN201280061667.1

申请日：2012-12-11

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹赫敏 ,  吕泰勋 ,  李相勋 ,  金珍善 ,  尹柱豹 ,  金东明 ,  金镇祐 ,  朴璟镇 ,  李善熙 ,  黄致容

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更为详细地讲，涉及包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序的基板微细图案形成用光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂组合物，其常温稳定性优良、变色少且透射率优良，从而即便省略HMDS工序，也不存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。

公开(公告)号：CN104011594B

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201280061667.1

申请日：2012-12-11

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹赫敏 ,  吕泰勋 ,  李相勋 ,  金珍善 ,  尹柱豹 ,  金东明 ,  金镇祐 ,  朴璟镇 ,  李善熙 ,  黄致容

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更为详细地讲，涉及包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序的基板微细图案形成用光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂组合物，其常温稳定性优良、变色少且透射率优良，从而即便省略HMDS工序，也不存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。

公开(公告)号：CN101571672A

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：CN200910136972.2

申请日：2009-04-30

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  尹赫敏 ,  金东明 ,  崔相角 ,  丘冀赫 ,  吕泰勋 ,  尹柱豹 ,  申洪大 ,  崔守延 ,  金珍善 ,  李相勋

IPC: G03F7/038 ,  H01L21/84 ,  G02F1/1368

Abstract: 本发明提供负型感光性树脂组合物，该组合物的分辨率、绝缘性、平坦性、耐化学性和粘接力均优异，特别是与现有的感光性树脂相比，在形成高开口率液晶显示元件和反射型液晶显示元件的有机绝缘膜时感光度、残膜率和UV透过率显著优异，因此该组合物适合以有机绝缘膜的方式来使用。特别是，本发明涉及含有如下成分的负型感光性树脂组合物：a)使i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物、ii)含有环氧基的不饱和化合物和iii)烯烃系不饱和化合物共聚得到的丙烯酸系共聚物；b)含有[1－[9－乙基－6－(2－甲基苯甲酰基)－9H－咔唑－3－基]－1－(O－乙酰基肟)的光引发剂；c)具有烯键式不饱和键的多官能性单体；d)具有环氧基或胺基的硅系化合物；和e)溶剂。

公开(公告)号：CN101566796A

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：CN200910131096.4

申请日：2009-04-22

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  尹赫敏 ,  金东明 ,  崔相角 ,  丘冀赫 ,  吕泰勋 ,  尹柱豹 ,  申洪大 ,  崔守延 ,  金珍善 ,  李相勋

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种低温固化性感光性树脂组合物，该组合物不仅感光度、耐热性、耐化学性等性能优异，而且即使在150℃以下的低温工序中也使膜具有优异的疏水特性，由此该组合物特别适于在制造OLED、OTFT元件的喷墨方式中形成槽凸起，同时适合用于浮脱用途。本发明涉及低温固化性感光性树脂组合物，特别是涉及含有如下物质的低温固化性感光性树脂组合物：a)将i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物、ii)含环氧基的不饱和化合物和iii)烯烃类不饱和化合物共聚得到的丙烯酸类共聚物；b)1，2－醌二叠氮化合物；c)氟类化合物；以及d)沸点为90～150℃并且当以n－BA的蒸发速度为1时蒸发速度为0.3～1.0的溶剂。