-
公开(公告)号:CN101571672A
公开(公告)日:2009-11-04
申请号:CN200910136972.2
申请日:2009-04-30
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G03F7/038 , H01L21/84 , G02F1/1368
Abstract: 本发明提供负型感光性树脂组合物,该组合物的分辨率、绝缘性、平坦性、耐化学性和粘接力均优异,特别是与现有的感光性树脂相比,在形成高开口率液晶显示元件和反射型液晶显示元件的有机绝缘膜时感光度、残膜率和UV透过率显著优异,因此该组合物适合以有机绝缘膜的方式来使用。特别是,本发明涉及含有如下成分的负型感光性树脂组合物:a)使i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物、ii)含有环氧基的不饱和化合物和iii)烯烃系不饱和化合物共聚得到的丙烯酸系共聚物;b)含有[1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙酰基肟)的光引发剂;c)具有烯键式不饱和键的多官能性单体;d)具有环氧基或胺基的硅系化合物;和e)溶剂。
-
公开(公告)号:CN101566796A
公开(公告)日:2009-10-28
申请号:CN200910131096.4
申请日:2009-04-22
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明提供一种低温固化性感光性树脂组合物,该组合物不仅感光度、耐热性、耐化学性等性能优异,而且即使在150℃以下的低温工序中也使膜具有优异的疏水特性,由此该组合物特别适于在制造OLED、OTFT元件的喷墨方式中形成槽凸起,同时适合用于浮脱用途。本发明涉及低温固化性感光性树脂组合物,特别是涉及含有如下物质的低温固化性感光性树脂组合物:a)将i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物、ii)含环氧基的不饱和化合物和iii)烯烃类不饱和化合物共聚得到的丙烯酸类共聚物;b)1,2-醌二叠氮化合物;c)氟类化合物;以及d)沸点为90~150℃并且当以n-BA的蒸发速度为1时蒸发速度为0.3~1.0的溶剂。
-
公开(公告)号:CN104011594B
公开(公告)日:2020-04-24
申请号:CN201280061667.1
申请日:2012-12-11
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/075 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物,更为详细地讲,涉及包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序的基板微细图案形成用光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂组合物,其常温稳定性优良、变色少且透射率优良,从而即便省略HMDS工序,也不存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失,或者在执行后工序时产生图案变形的危险。
-
公开(公告)号:CN105785721B
公开(公告)日:2020-09-15
申请号:CN201610020971.1
申请日:2016-01-13
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明涉及正型感光性硅氧烷树脂组合物,包含聚苯乙烯换算重均分子量为1000至20000的硅氧烷类共聚物,其中所述硅氧烷类共聚物在催化条件下,通过使ⅰ)由以下化学式1表示的反应性硅烷及ⅱ)四氯硅烷进行水解及缩聚,并除去未反应单体及催化剂来获得;化学式1:(R1)nSi(R2)4‑n。本发明的正型感光性硅氧烷树脂组合物不仅具有优秀的灵敏度、分辨率、粘结力、透过率及耐热变色性等性能,尤其因具有卓越的耐热性而可以实现低释气,并维持低的水分吸收率,从而可以确保优秀的面板可靠性。
-
公开(公告)号:CN105785721A
公开(公告)日:2016-07-20
申请号:CN201610020971.1
申请日:2016-01-13
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明涉及正型感光性硅氧烷树脂组合物,包含在催化条件下对ⅰ)由以下化学式1表示的反应性硅烷及ⅱ)四氯硅烷进行水解及缩聚,并除去未反应单体及催化剂来获得的聚苯乙烯换算重均分子量为1000至20000的硅氧烷类共聚物。本发明的正型感光性硅氧烷树脂组合物不仅具有优秀的灵敏度、分辨率、粘结力、透过率及耐热变色性等性能,尤其因具有卓越的耐热性而可以实现低释气,并维持低的水分吸收率,从而可以确保优秀的面板可靠性。
-
公开(公告)号:CN104011594A
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:CN201280061667.1
申请日:2012-12-11
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/075 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物,更为详细地讲,涉及包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序的基板微细图案形成用光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂组合物,其常温稳定性优良、变色少且透射率优良,从而即便省略HMDS工序,也不存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失,或者在执行后工序时产生图案变形的危险。
-
-
-
-
-