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公开(公告)号：CN110534454A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910422709.3
申请日：2019-05-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明对能够抑制处理液附着在喷嘴的下端面的液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质进行说明。液处理装置包括：处理液供给部，其构成为能够从位于基片的表面侧的喷嘴对表面供给处理液；引导部件，其构成为能够引导从喷嘴释放的处理液的液流；和控制部。喷嘴包括平坦的下端面，在该下端面设有用于释放处理液的释放口。控制部执行以下动作：控制处理液供给部，以使得在下端面靠近表面的状态下从释放口对表面实释放处理液的动作；和控制处理液供给部，以使得在引导部件位于释放口附近的状态下从释放口向引导部件虚释放处理液的动作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112485982B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202010916170.X
申请日：2020-09-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供基板处理装置用过滤器装置和清洁空气供给方法。使经由过滤器对多个并列配置的基板处理装置供给的清洁空气的温度均匀。过滤器装置具有在并列地配置的多个基板处理装置的上方设置的过滤器，该过滤器装置构成为：在所述过滤器的上方形成的管空间的在所述基板处理装置的并列方向上的一端部侧形成有空气流入口，自所述空气流入口流入的空气被在上下方向上分隔所述管空间的气流引导构件从所述气流引导构件的前面侧向所述管空间的另一端部侧引导，被引导到所述另一端部侧的空气的至少一部分向所述气流引导构件的背面侧返回，并且，该过滤器装置构成为：所述管空间内的空气经由所述过滤器向所述基板处理装置流动。
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公开(公告)号：CN110534454B
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN201910422709.3
申请日：2019-05-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明对能够抑制处理液附着在喷嘴的下端面的液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质进行说明。液处理装置包括：处理液供给部，其构成为能够从位于基片的表面侧的喷嘴对表面供给处理液；引导部件，其构成为能够引导从喷嘴释放的处理液的液流；和控制部。喷嘴包括平坦的下端面，在该下端面设有用于释放处理液的释放口。控制部执行以下动作：控制处理液供给部，以使得在下端面靠近表面的状态下从释放口对表面实释放处理液的动作；和控制处理液供给部，以使得在引导部件位于释放口附近的状态下从释放口向引导部件虚释放处理液的动作。
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公开(公告)号：CN111863658A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010305082.6
申请日：2020-04-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/30
Abstract: 本发明提供一种液处理装置和液处理方法，对于利用从喷嘴喷出的处理液进行的液处理的面内均匀性有效。液处理装置具备：处理液供给部，其具有喷出处理液的喷嘴；喷嘴移动部，其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给所述处理液的涂布位置和与所述涂布位置不同的待机位置之间移动；清洗部，其朝向所述待机位置供给清洗液，以通过所述清洗液对位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面进行清洗；吸引部，其具有朝向位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面开口的吸引口，所述吸引部吸引从位于所述待机位置的所述喷嘴喷出的所述处理液以及通过所述清洗部供给到所述待机位置的所述清洗液；以及控制装置，其控制所述处理液供给部、所述喷嘴移动部、所述吸引部及所述清洗部。
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公开(公告)号：CN112485982A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN202010916170.X
申请日：2020-09-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供基板处理装置用过滤器装置和清洁空气供给方法。使经由过滤器对多个并列配置的基板处理装置供给的清洁空气的温度均匀。过滤器装置具有在并列地配置的多个基板处理装置的上方设置的过滤器，该过滤器装置构成为：在所述过滤器的上方形成的管空间的在所述基板处理装置的并列方向上的一端部侧形成有空气流入口，自所述空气流入口流入的空气被在上下方向上分隔所述管空间的气流引导构件从所述气流引导构件的前面侧向所述管空间的另一端部侧引导，被引导到所述另一端部侧的空气的至少一部分向所述气流引导构件的背面侧返回，并且，该过滤器装置构成为：所述管空间内的空气经由所述过滤器向所述基板处理装置流动。
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公开(公告)号：CN211957602U
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202020576502.X
申请日：2020-04-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/30
Abstract: 本实用新型提供一种液处理装置，对于利用从喷嘴喷出的处理液进行的液处理的面内均匀性有效。液处理装置具备：处理液供给部，其具有喷出处理液的喷嘴；喷嘴移动部，其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给处理液的涂布位置和与涂布位置不同的待机位置之间移动；清洗部，其朝向待机位置供给清洗液，以通过清洗液对位于待机位置的喷嘴的顶端面进行清洗；吸引部，其具有朝向位于待机位置的喷嘴的顶端面开口的吸引口，吸引部吸引从位于待机位置的喷嘴喷出的处理液以及通过清洗部供给到待机位置的清洗液；以及控制装置，其控制处理液供给部、喷嘴移动部、吸引部及清洗部。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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