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公开(公告)号:CN101989559A
公开(公告)日:2011-03-23
申请号:CN201010233770.2
申请日:2010-07-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/6734 , H01L21/682 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种能使对基板进行对位的容器内的用于基板对位的空间尽量缩小的基板对位机构、使用其的真空预备室和基板处理系统。在收容基板(G)的容器(81)内对支承在基板支承部(96、97、98)上的基板(G)进行对位的基板对位机构(86)具有通过转动而与容器(81)内的基板(G)的端面接触的对位构件(132)。
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公开(公告)号:CN119234299A
公开(公告)日:2024-12-31
申请号:CN202380041341.0
申请日:2023-05-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置,其用于对检查对象器件进行检查,所述检查对象器件是背面照射型的拍摄器件,形成在检查对象体上,光能够从所述拍摄器件的作为设置有配线层的一侧的相反侧的面的背面入射至所述拍摄器件,所述检查装置包括载置台,其用于以与所述拍摄器件的所述背面相对的方式支承所述检查对象体,所述载置台包括:由透光材料构成的顶板,其具有用于载置所述检查对象体的载置面;照射部,其配置在隔着所述顶板与所述检查对象体相对的位置,用于向被载置在所述载置面上的所述检查对象体照射光;和温度调节部,其用于对被载置在所述载置面上的所述检查对象体的所述检查对象器件的温度进行调节,所述顶板在所述载置面和其相反侧的面中的至少任一者上形成有由金属材料构成的能够使光透过的厚度的图案。
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公开(公告)号:CN101989559B
公开(公告)日:2012-12-12
申请号:CN201010233770.2
申请日:2010-07-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/68 , H01L21/6734 , H01L21/682 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种能使对基板进行对位的容器内的用于基板对位的空间尽量缩小的基板对位机构、使用其的真空预备室和基板处理系统。在收容基板(G)的容器(81)内对支承在基板支承部(96、97、98)上的基板(G)进行对位的基板对位机构(86)具有通过转动而与容器(81)内的基板(G)的端面接触的对位构件(132)。
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