公开(公告)号：CN102376547A

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：CN201110241692.5

申请日：2011-08-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 篠崎贤哉 ,  池本大辅 ,  山下俊弘 ,  锦织正博

IPC: H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种涂覆装置以及喷嘴的维护方法，其防止在喷嘴内的流路内的异物的附着、并在对被处理基板涂覆处理液时从狭缝状的喷嘴喷出口均匀地喷出处理液。从喷嘴的喷出口向基板(G)喷出处理液并形成涂覆膜的涂覆装置(1)包括：喷嘴(16)，其从狭缝状的喷出口(16a)喷出处理液；维护部件(26)，其在喷嘴的待机期间保持喷嘴内的流路中被从处理液置换成处理液的溶剂(T)的状态，维护部件包括向喷嘴供给溶剂的溶剂供给部件(33、34)、在与喷嘴的喷出口之间形成规定的间隙的液保持面(28a)，在待机期间，以向液保持面喷出规定量的溶剂的状态保持喷嘴，溶剂相对于喷嘴的界面(T1)形成在喷嘴的外表面。

公开(公告)号：CN101495244A

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200780028398.8

申请日：2007-07-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻益寿史 ,  池田文彦 ,  篠崎贤哉 ,  大塚庆崇

IPC: B05C5/02 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 ,  B05D1/42 ,  B65G49/05 ,  B65G51/03 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 在上浮输送方式中有效地降低或抑制在形成于被处理基板上的处理液的涂敷膜上产生条纹状的涂敷不均。在涂敷区域中，沿X方向延伸的多条喷出线(C1、C3、C5、...)和沿X方向延伸的多条吸引线(C2、C4、C6、...)在Y方向上以一定的间距(W)交替地排列，在各喷出线(C2n－1)上隔开一定间隔(3D)地配置喷出口(88)，并且，在各吸引线(C2n)上隔开一定间隔(3D)地配置吸引口(90)，在相邻的喷出线(C2n－1)和吸引线(C2n)之间，喷出口(88)和吸引口(90)在X方向上偏移一定距离(D)。进而，长槽(88a、90a)从喷出口(88)、吸引口(90)的上端部向顺着输送方向(X方向)的方向和与其相反的方向笔直地延伸成两路。

公开(公告)号：CN101495244B

公开(公告)日：2011-12-14

申请号：CN200780028398.8

申请日：2007-07-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻益寿史 ,  池田文彦 ,  篠崎贤哉 ,  大塚庆崇

IPC: B05C5/02 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 ,  B05D1/42 ,  B65G49/05 ,  B65G51/03 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 在上浮输送方式中有效地降低或抑制在形成于被处理基板上的处理液的涂敷膜上产生条纹状的涂敷不均。在涂敷区域中，沿X方向延伸的多条喷出线(C1、C3、C5、...)和沿X方向延伸的多条吸引线(C2、C4、C6、...)在Y方向上以一定的间距(W)交替地排列，在各喷出线(C2n-1)上隔开一定间隔(3D)地配置喷出口(88)，并且，在各吸引线(C2n)上隔开一定间隔(3D)地配置吸引口(90)，在相邻的喷出线(C2n-1)和吸引线(C2n)之间，喷出口(88)和吸引口(90)在X方向上偏移一定距离(D)。进而，长槽(88a、90a)从喷出口(88)、吸引口(90)的上端部向顺着输送方向(X方向)的方向和与其相反的方向笔直地延伸成两路。