-
公开(公告)号：CN110137104B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN201910106647.5
申请日：2019-02-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供液处理装置和液处理装置的示教方法，在使进行液处理用的喷嘴的卡合部与喷嘴搬送体的被卡合部卡合来搬送喷嘴的液处理装置中，能够容易且准确地设定用于形成卡合的被卡合部的位置。装置构成为，具备：摄像部，其设置于喷嘴搬送体，以分别检测喷嘴搬送体的被卡合部分别位于第一高度和第二高度时的被卡合部在横向上的第一位置和第二位置，并且所述摄像部在被卡合部分别位于第一高度和第二高度时拍摄设置于进行待机的所述喷嘴的目标物来获取图像数据；控制部，其基于用于在被卡合部与卡合部之间形成卡合的第三高度，求出用于形成所述卡合的横向上的第三位置，并且输出控制信号以在第三高度以及第三位置形成卡合。
-
公开(公告)号：CN111684569B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN201980012129.5
申请日：2019-02-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/00 , B05C11/08 , B05D1/40
Abstract: 涂布/显影装置(2)具备：去除液供给部(50)，其具有用于向晶圆(W)的周缘部喷出去除液的去除液喷嘴(52)；驱动部(60)，其使包括去除液喷嘴(52)的移动体(51)移动；传感器(70)，其检测与移动体(51)的位置有关的信息；以及控制部(100)，其构成为执行以下控制：向驱动部(60)输出用于使移动体(51)从将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘(Wc)外的第一位置(P1)移动至将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘部上的第二位置(P2)的控制指令；以及基于在移动体(51)从第一位置(P1)向第二位置(P2)移动的中途由传感器(70)检测出的信息同控制指令的关系来校正控制指令，以使移动体(51)的移动完成位置与第二位置(P2)的偏差缩小。
-
公开(公告)号：CN111009460A
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201910935053.5
申请日：2019-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，所述摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；摄像部，该摄像部的摄像区域包括将被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面；光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光；以及控制部，其基于被所述旋转保持部保持的正在旋转的被处理基板的朝向，来控制基于所述摄像部的摄像结果进行的检查中的所述光源的发光定时。
-
公开(公告)号：CN116550496A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310045125.5
申请日：2023-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。该基板处理装置是与对基板进行涂布液的涂布有关的便利性高的基板处理装置。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。
-
公开(公告)号：CN111684569A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980012129.5
申请日：2019-02-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/00 , B05C11/08 , B05D1/40
Abstract: 涂布/显影装置(2)具备：去除液供给部(50)，其具有用于向晶圆(W)的周缘部喷出去除液的去除液喷嘴(52)；驱动部(60)，其使包括去除液喷嘴(52)的移动体(51)移动；传感器(70)，其检测与移动体(51)的位置有关的信息；以及控制部(100)，其构成为执行以下控制：向驱动部(60)输出用于使移动体(51)从将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘(Wc)外的第一位置(P1)移动至将去除液喷嘴(52)配置于晶圆(W)的周缘部上的第二位置(P2)的控制指令；以及基于在移动体(51)从第一位置(P1)向第二位置(P2)移动的中途由传感器(70)检测出的信息同控制指令的关系来校正控制指令，以使移动体(51)的移动完成位置与第二位置(P2)的偏差缩小。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111009460B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN201910935053.5
申请日：2019-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，所述摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；摄像部，该摄像部的摄像区域包括将被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面；光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光；以及控制部，其基于被所述旋转保持部保持的正在旋转的被处理基板的朝向，来控制基于所述摄像部的摄像结果进行的检查中的所述光源的发光定时。
-
公开(公告)号：CN112071771A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010500958.2
申请日：2020-06-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供液处理装置和液处理方法。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。
-
公开(公告)号：CN110137104A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201910106647.5
申请日：2019-02-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供液处理装置和液处理装置的示教方法，在使进行液处理用的喷嘴的卡合部与喷嘴搬送体的被卡合部卡合来搬送喷嘴的液处理装置中，能够容易且准确地设定用于形成卡合的被卡合部的位置。装置构成为，具备：摄像部，其设置于喷嘴搬送体，以分别检测喷嘴搬送体的被卡合部分别位于第一高度和第二高度时的被卡合部在横向上的第一位置和第二位置，并且所述摄像部在被卡合部分别位于第一高度和第二高度时拍摄设置于进行待机的所述喷嘴的目标物来获取图像数据；控制部，其基于用于在被卡合部与卡合部之间形成卡合的第三高度，求出用于形成所述卡合的横向上的第三位置，并且输出控制信号以在第三高度以及第三位置形成卡合。
-
公开(公告)号：CN219723334U
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202320086586.2
申请日：2023-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置，能够提高与对基板进行的涂布液的涂布有关的便利性。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。
-
公开(公告)号：CN213124375U
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202021007532.5
申请日：2020-06-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/67
Abstract: 本实用新型提供液处理装置。针对向基板供给涂敷液而形成涂敷膜的液处理装置，获得高生产率且省空间。构成如下装置，其具备：第1喷嘴，其在基板之上的各第1喷出位置向该基板喷出第1处理液，以各基板保持部为单位设置；第2喷嘴，其在各基板之上的第2喷出位置以迟于第1处理液从第1喷嘴的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，被多个基板保持部共用；第3喷嘴，其为了在保持于各基板保持部的基板之上的第3喷出位置向基板喷出第3处理液而以各基板保持部为单位设置；回转机构，其使第1喷嘴于俯视时在第1待机部与第1喷出位置之间回转；以及直动机构，其使第3喷嘴于俯视时在第3待机部与第3喷出位置之间直线移动。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.018 seconds)
