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公开(公告)号：CN116550496A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310045125.5
申请日：2023-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。该基板处理装置是与对基板进行涂布液的涂布有关的便利性高的基板处理装置。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。
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公开(公告)号：CN119742246A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411300884.2
申请日：2024-09-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置和监视方法。根据情况而以适合的方式监视多个喷嘴的状态。液处理装置具备：多个载物台，其分别载置基板；多个喷嘴，其共用于该多个载物台，用于向所述基板供给处理液；照相机，其共用于该多个喷嘴，用于监视该多个喷嘴的状态；以及拍摄条件变更部，其根据监视条件而变更所述照相机的拍摄条件。
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公开(公告)号：CN219723334U
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202320086586.2
申请日：2023-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置，能够提高与对基板进行的涂布液的涂布有关的便利性。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。
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