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公开(公告)号：CN113295225B
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202110175393.X
申请日：2021-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种流量测量方法和流量测量装置，能高精度地测量气体的流量。在流量测量方法中：测量第一、第二流路的气体的第一压力；重复进行向第一流路的气体的供给和停止，来向第一、第二流路供给气体；在供给气体时，测量从各开信号到关信号期间的气体供给时间；测量第一、第二流路的气体的第二压力和温度；在将第一、第二流路间关闭并从第二流路进行了排气后，测量第二流路的气体的第三压力；在第一、第二流路进行了连接的状态下，测量第一、第二流路的气体的第四压力；基于第一～第四压力和温度来计算被供给到第一、第二流路的气体流量；计算与重复次数相应的量的气体供给时间的平均时间；以及基于理论上的气体供给时间和平均时间来校正流量。
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公开(公告)号：CN113394130A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202110241710.3
申请日：2021-03-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法和基板处理系统，高精度地监视为了进行基板处理而供给的气体的总流量。作为使用被供给至腔室的气体来处理基板的方法，该方法包括以下工序：工序(a)，在测定向所述腔室供给的气体的压力来控制该气体的流量的流量控制器中，设定作为控制对象的气体的压力的阈值；工序(b)，向所述腔室的内部供给气体；工序(c)，测定所述流量控制器中的气体的压力；工序(d)，停止向所述腔室的内部供给气体；工序(e)，计算在所述工序(c)中测定出的气体的压力为所述阈值以上的时间；以及工序(f)，基于在所述工序(c)中测定出的气体的压力和在所述工序(e)中计算出的时间来计算向所述腔室供给的气体的总流量。
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公开(公告)号：CN113295225A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110175393.X
申请日：2021-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种流量测量方法和流量测量装置，能高精度地测量气体的流量。在流量测量方法中：测量第一、第二流路的气体的第一压力；重复进行向第一流路的气体的供给和停止，来向第一、第二流路供给气体；在供给气体时，测量从各开信号到关信号期间的气体供给时间；测量第一、第二流路的气体的第二压力和温度；在将第一、第二流路间关闭并从第二流路进行了排气后，测量第二流路的气体的第三压力；在第一、第二流路进行了连接的状态下，测量第一、第二流路的气体的第四压力；基于第一～第四压力和温度来计算被供给到第一、第二流路的气体流量；计算与重复次数相应的量的气体供给时间的平均时间；以及基于理论上的气体供给时间和平均时间来校正流量。
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