公开(公告)号：CN109504952B

公开(公告)日：2021-07-06

申请号：CN201811050750.4

申请日：2018-09-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 八木宏宪 ,  掛川崇 ,  山口克昌 ,  古屋雄一 ,  孟贤男

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及气体供给装置和成膜装置。提供一种能够使工艺开始时的原料气体的流量在短时间内稳定化的气体供给装置。一个实施方式的气体供给装置能够经由缓冲罐和第一高速开闭阀向处理容器内间歇地供给原料气体，所述气体供给装置具有与所述缓冲罐的次级侧连接并且能够对所述缓冲罐内进行排气的排气线以及设置于所述排气线的第二高速开闭阀。

公开(公告)号：CN109504952A

公开(公告)日：2019-03-22

申请号：CN201811050750.4

申请日：2018-09-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 八木宏宪 ,  掛川崇 ,  山口克昌 ,  古屋雄一 ,  孟贤男

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及气体供给装置和成膜装置。提供一种能够使工艺开始时的原料气体的流量在短时间内稳定化的气体供给装置。一个实施方式的气体供给装置能够经由缓冲罐和第一高速开闭阀向处理容器内间歇地供给原料气体，所述气体供给装置具有与所述缓冲罐的次级侧连接并且能够对所述缓冲罐内进行排气的排气线以及设置于所述排气线的第二高速开闭阀。

公开(公告)号：CN109913853A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201811525037.0

申请日：2018-12-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 孟贤男 ,  崔弩礼 ,  关户幸一 ,  山口克昌 ,  小森荣一

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/14 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、存储介质以及原料气体供给装置。在开始晶圆(100)的处理前进行的模拟制程中，测定载气的实际流量(Ca、Cb)和气化原料的实际流量(Pra、Prb)，求出表示载气与气化原料之间的相关度的校正系数(K0)。而且，使用校正系数(K0)来调整载气的流量以使气化原料的流量成为目标值。并且，根据第n-1张和第n张晶圆的处理时的载气的实际流量(Cn-1、Cn)和气化原料的实际流量(Prn-1、Prn)来求出表示载气的流量的增减量与气化原料的流量的增减量之间的相关度的校正系数(Kn)，向第n+1张晶圆供给使用校正系数(Kn)对流量以成为目标值的方式进行了调整的气化原料来进行处理。

公开(公告)号：CN109913853B

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN201811525037.0

申请日：2018-12-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 孟贤男 ,  崔弩礼 ,  关户幸一 ,  山口克昌 ,  小森荣一

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/14 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、存储介质以及原料气体供给装置。在开始晶圆(100)的处理前进行的模拟制程中，测定载气的实际流量(Ca、Cb)和气化原料的实际流量(Pra、Prb)，求出表示载气与气化原料之间的相关度的校正系数(K0)。而且，使用校正系数(K0)来调整载气的流量以使气化原料的流量成为目标值。并且，根据第n‑1张和第n张晶圆的处理时的载气的实际流量(Cn‑1、Cn)和气化原料的实际流量(Prn‑1、Prn)来求出表示载气的流量的增减量与气化原料的流量的增减量之间的相关度的校正系数(Kn)，向第n+1张晶圆供给使用校正系数(Kn)对流量以成为目标值的方式进行了调整的气化原料来进行处理。